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PECリアクターに石英ガラスが不可欠である理由を学びましょう。石英ガラスは高いUV透過率を提供し、光触媒の活性化と効率を最大化します。
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多孔質基板がCDCVDにおいて動的な制御因子としてどのように機能し、拡散を制御し、反応領域を定義して優れた膜性能を実現するかを学びましょう。
PTFEプレートが溶液鋳造に不可欠な理由を学びましょう。表面エネルギーが低く、化学的安定性に優れているため、均一な電解質膜が得られます。
シリコンウェハから金属箔まで、CVDにおける基板の重要な役割を発見し、材料の選択が膜の品質と応用の成功にどのように影響するかを探ります。
シリコンウェハーからプラスチックまで、熱安定性、CTE、および用途のニーズに基づいて、薄膜成膜に最適な基板を選択する方法を学びましょう。
CVDにおける基板が触媒およびテンプレートとしてどのように機能し、膜の品質、構造、および材料の成長を直接制御して優れた結果をもたらすかをご覧ください。
適切なグラフェン基板の選び方：プロトタイピングにはSiO2/Si、高性能にはhBN、柔軟性にはポリマー。
MW-SWP CVDシステムにおいて、石英誘電体窓がマイクロ波エネルギー伝送と表面波伝播をどのように可能にするかを学びましょう。
CVDグラフェン成長における流体力学と反応物枯渇の課題、およびそれらを克服して優れた均一性を実現する方法を理解する。
材料の選択から表面処理、そして優れた膜の密着性と均一性の達成に至るまで、スパッタリングにおける基板の重要な役割を学びましょう。
薄膜基板が材料に高性能な電気的、光学的、保護的特性を付加し、小型化と効率化を可能にする方法をご覧ください。
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従来の半球ドームと比較して、フラット光学窓が分光セルでデッドボリュームを削減し、時間分解能を向上させる方法をご覧ください。
シリコンウェハからガラスまで、薄膜成膜における基板の重要な役割と、それが膜の品質と性能にどのように影響するかを学びましょう。
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炭化ケイ素（SiC）の実際的および理論的な温度限界（空気中1600°Cから不活性雰囲気中2700°Cまで）と、環境が性能をどのように左右するかについて学びます。
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マグネシウム昇華精製において、熱力学の管理から真空シール保護まで、水冷ジャケットが不可欠である理由を学びましょう。
高精度質量流量コントローラー（MFC）がCVD膜作製における化学量論、細孔径分布、再現性をどのように保証するかを学びましょう。
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ニッケルフォームと銅フォームの最適な表面積を最大化し、汚染を防ぐために、検査、洗浄、乾燥を含む、使用前の必須手順を学びましょう。
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