薄膜蒸着により基板の性能を向上させます。コーティングはさまざまな材料で作成でき、透明性や導電性の変化などの独自の特性を備えています。もっと詳しく知る。
高純度材料とは、不純物を非常に高いレベルで除去するために精製され、化学的および物理的均質性が高い原料です。
スパッタリング ターゲットは、基板上に薄膜を堆積するスパッタリング プロセスで使用される材料で作られた薄いディスクまたはシートです。
高純度金属とは、不純物や他の元素を含まない金属元素です。
実験用フライス加工装置は、科学研究、試験、分析のために実験室で使用される一連の機械やツールです。
PTFE は、耐薬品性、低摩擦特性、高温安定性、電気絶縁性に優れたテトラフルオロエチレンの合成フッ素ポリマーです。
セラミック部品は、その高温耐性、優れた電気絶縁性、化学的不活性、機械的強度で知られています。
エンジニアリング・セラミックスは、強度、靭性、耐摩耗性、耐食性、高温耐性に優れており、金属やポリマーといった従来の材料では対応できない用途に適しています。
エンジニアリング・セラミックスやテクニカル・セラミックスとしても知られるアドバンスト・セラミックスは、従来のセラミックスを上回る優れた機械的、熱的、電気的、化学的特性を持つ高性能材料の一種である。
油圧ラボプレスは、材料研究室、薬局、触媒反応、セラミック、電子産業で広く使用されており、設置面積が小さいため、持ち運びや移動が簡単で、真空内で作業できる、サンプル調製用の高効率装置の1つです。真空環境下での処理を行うためのグローブボックス。
光学材料は、様々な方法で光と相互作用する材料のクラスである。光を操作したり、透過させたり、吸収させたり、反射させたりするように設計・設計され、光学装置や光学システムの創造を可能にする。
油圧ラボペレットプレスは、材料研究室、薬局、触媒反応、セラミックス、電子産業で広く使用されています。
熱蒸発源は、物理蒸着（PVD）プロセスで使用される装置で、材料の薄膜を蒸発させて基板上に蒸着させる。
真空炉は、処理される材料を真空で囲むタイプの炉です。これにより、酸化、対流による熱損失、汚染が防止されます。
電池材料は、電気エネルギーを貯蔵・放出することができる電池を作るための重要な部品です。これらの材料は、様々なタイプの電池に最適な性能、効率、安全性を提供します。
高圧滅菌器はオートクレーブとしても知られ、高圧飽和蒸気にさらして機器、器具、材料を滅菌するために使用される装置です。
電解槽は、電気エネルギーを使用して非自発的な酸化還元反応を促進する電気化学装置です。
管状炉は、化学でさまざまな無機および有機化合物の合成に使用される電気加熱装置です。これは加熱マントルで囲まれた円筒形のチューブで構成されており、石英、アルミナ、グラファイト、金属などの材料で作られています。
オートクレーブの作業プロセスにより、細菌、ウイルス、真菌、胞子などの微生物を効果的に死滅または除去できます。
ガラス基板は、様々な光学部品やデバイスの基礎となる透明材料である。ガラス基板は、薄膜、コーティング、または機能的な構造を成膜するための安定した剛性の高いプラットフォームを提供します。
光学窓は、光を透過させながら光学システムを保護するために使用される透明な部品である。
冷却サーキュレーターは、サンプル、試薬、または細胞培地を冷却するために使用される実験装置です。ライフサイエンス研究、材料試験、湿式化学でよく使用されます。
電気化学電極は、電気化学反応を実行し、その電位を測定する装置です。
電気ラボプレスは、効率的なサンプル調製のために電気モーターを使用して油圧システムを駆動する最新の実験装置です。
オートクレーブとしても知られる蒸気滅菌器は、高圧飽和蒸気にさらして機器、器具、材料を滅菌するために使用される装置です。
CVD は、金属および金属合金、半導体、非金属系の製造に広く使用されています。 CVD プロセスには、化学反応による加熱された表面上への固体の堆積が含まれます。
ラボ用油圧プレスは、高圧を使用してさまざまな材料を凝縮および成形する機械です。
ラボプレス金型は、ゴム、ポリマー、複合材料などのさまざまな種類のサンプル材料をプレスするために研究室で使用される装置です。
化学蒸着 (CVD) は、ガス状反応物質を使用して高品質の薄膜やコーティングを生成するコーティング プロセスです。
蒸発るつぼは、液体の蒸発や固体物質の加熱に使用される実験用容器です。通常、セラミック、ホウケイ酸ガラス、プラチナなどの耐高温材料で作られています。
薄膜堆積装置は、製造業界で基板上に薄膜コーティングを作成するために使用されます。
蒸発るつぼは、液体の蒸発や固体物質の加熱に使用される実験用容器です。通常、セラミック、ホウケイ酸ガラス、プラチナなどの高温耐性のある素材で作られています。
黒鉛化炉は、黒鉛材料の製造に使用される特殊な装置です。石油コークスやコールタールピッチなどの炭素質材料を、不活性雰囲気中で通常摂氏約 2500 ～ 3000 度の高温にさらすように設計されています。このプロセスにより、炭素質材料がグラファイトに変換され、グラファイトは高熱伝導率、低熱膨張、化学的不活性などの独特の特性を備えます。黒鉛化炉は、冶金、エレクトロニクス、航空宇宙などの業界において、電極、るつぼ、構造部品などのさまざまな用途に使用される高品質の黒鉛製品を製造するために重要です。
ハンドヘルド蛍光X線分析計は、採鉱、探査、地球科学のあらゆる用途に対応する迅速で正確なツールです。XRF技術に基づいており、サンプルの前処理をほとんどすることなく、ラボ品質の結果を現場ですぐに得ることができます。
KinTek XRF ペレット プレスを使用すると、ペレットの準備を迅速かつ簡単に行うことができ、赤外分光分析で正確な結果が得られます。固体で浸透性のあるペレットを簡単に作成できます。
回転炉のタイプには、回転および傾斜する機能を備えた回転炉と傾斜炉が含まれており、乾燥およびコーティングの用途を均一にすることができます。
手動ラボプレスは、サンプルを圧縮または圧縮するために圧力を生成する機械装置です。研究室でサンプルの調製や分析によく使用されます。
加熱されたラボプレスは、圧力と熱を組み合わせて粉末材料を溶かし、ラボでの用途に必要な形状とサイズに圧縮します。
CVDダイヤモンド素材のさまざまな機能用途について。
回転ディスク電極 (RDE) は、腐食研究、燃料電池研究、触媒開発、電極表面への反応物質の物質輸送の制御などの電気化学的用途に使用される流体力学的作用電極です。
補助電極は、ボルタンメトリー分析用の 3 電極電気化学セルで使用される電極です。
ガラス リアクターは、加熱または冷却ジャケットを使用して内容物の温度を制御するように設計された重要な実験装置です。
ヒーターサーキュレーターは、特定の温度範囲を維持するために、開放型または密閉型のバスと加熱システムを組み合わせた実験装置です。
MPCVD 装置はマイクロ波プラズマ化学蒸着の略です。これは、炭素含有ガスとマイクロ波プラズマを使用して、研究室で高品質のダイヤモンド膜を成長させるために使用されるツールです。
冷間静水圧プレス (CIP) は、室温で静水圧を加えることにより、粉末やその他の材料を圧縮して目的の形状に成形するために使用されるプロセスです。
マッフル炉は、高温に達するオーブンの一種です。燃焼副産物で材料を汚染することなく材料を加熱するように設計されています。
Rotavapor または Rotovap としても知られるロータリー エバポレーターは、化学プロセスに使用される多用途の実験装置です。
振動ふるい機は、振動ふるいを使用して、粒子や材料をサイズや形状に応じて分離および分類する装置です。
タイヤ熱分解、プラスチック熱分解、電気熱分解炉など
熱分解は、酸素のない条件下で有機物を高温で分解するプロセスです。このプロセスでは、有機材料が気体、液体、固体などの価値のある製品に変換されます。
真空アーク溶解炉は、真空または保護雰囲気下で金属を溶解および精製するために使用される冶金プロセスです。
バッテリー検査は、バッテリーの性能、容量、全体的な健康状態を評価するための重要なプロセスです。バッテリーの充電状態、内部抵抗、容量、その他の重要なパラメータを測定するために、さまざまな技術や測定が行われます。
窒化ホウ素は、グラファイトと同様の六方格子構造に配置されたホウ素原子と窒素原子からなる化合物です。
真空誘導溶解炉は、真空冶金の分野で広く使用されている冶金炉の一種です。金属を溶かして成形するために使用されます。
KBR ペレット プレスは、粉末材料を平らな端を持つ円筒形のペレットに圧縮するコンパクトな手動式実験用プレスです。
石英プレートシリーズには、石英ガラスシート、石英ガラスプレート、溶融石英プレート、溶融石英シート、溶融石英プレート、および溶融石英シートが含まれます。
LAB ISOSTATIC PRESS MACHINE は、実験室環境で等静圧プレスに使用される機械の一種です。
短経路蒸留は、揮発性の違いに基づいて化合物を分離するために使用される技術です。
真空ホットプレス炉は、高温焼結、ホットプレス、真空または雰囲気を行うために使用される装置の一種です。
雰囲気炉は、雰囲気制御炉とも呼ばれ、研究室でのさまざまな手順に特定の環境を提供するように設計されています。
発熱体とも呼ばれる熱素子は、電気エネルギーを熱エネルギーに変換するデバイスです。
H 型電解槽は、2 つの電気化学セルを接続したユニークな電気化学セルです。
電気化学材料は、有機合成電気化学において最適な収率と選択性を達成するために重要です。
実験室用真空ポンプは、サンプルの濾過や吸引のための吸引を提供したり、ロータリーエバポレーターや実験用オーブンなどの機器内の蒸気圧を下げるために、研究室で一般的に使用される多用途ツールです。
高圧反応器は、高圧および高温条件下で化学反応またはその他のプロセスを実行するように設計された特殊な装置です。
アルミナるつぼは、アルミナまたは酸化アルミニウム (Al2O3) で作られたセラミックるつぼで、その優れた熱的および化学的特性によりセラミックスに広く使用されている材料です。
PECVD (プラズマ化学気相成長) 装置は、基板上に薄膜を堆積するために半導体産業で使用されるツールです。この装置は低温プラズマを使用してグロー放電を生成し、サンプルを温め、適切な量のプロセスガスを導入します。
電池ボックスやガスケットなどの電池消耗品は、電池の組み立てやメンテナンスに欠かせない部品です。
バッテリー ボックスは、バッテリーを収容して保護するために設計されたコンテナまたは筐体です。その主な目的は、バッテリーに安全で信頼性の高い環境を提供し、通常の動作と耐用年数を確保することです。
電気ロータリーキルンは回転炉の一種であり、その加熱源は電気です。
CVD ダイヤモンドマシンは、化学蒸着プロセスによる合成ダイヤモンドの製造に使用される装置です。
ラボグロウン ダイヤモンドマシンは、高圧高温 (HPHT) または化学蒸着 (CVD) プロセスを使用して実験室環境でダイヤモンドを作成するために使用されます。
光学バンドパスフィルターは、特定の波長範囲内の光を透過させ、その範囲外の光を遮断または減衰させる特殊な光学部品である。
回転管状炉は、熱処理中に回転する円形の炉です。これは幅広い業界で使用されており、物理化学処理のためにルース材料を加熱するように設計されています。
プラズマ支援化学気相成長 (PACVD) 装置は、標準の化学気相成長と比較して低温で基板上に複数の材料の薄膜を堆積するのに役立つ半導体製造ツールです。
歯科用炉は、クラウン、ブリッジ、インレー、オンレーなどのセラミック製の歯科修復物を処理するために歯科業界で使用される実験室装置です。
参照電極は、既知の電極電位を持つ安定した電極です。電気化学測定に必要な電気回路を完成させるために使用されます。
クラッシャーは、岩石、鉱石、鉱物などの材料のサイズをより小さな断片に縮小するために使用される機械装置です。
コールド トラップ チラーは、蒸気による真空ポンプの汚染を防ぐ冷却方法を使用する特殊な装置です。
高純度黒鉛るつぼは、通常 99.9% 以上の純度レベルの高品質黒鉛材料で作られた特殊な容器です。
アルミナるつぼは、高温用途、特に実験室や工業環境で使用されるセラミック容器です。耐熱性、耐薬品性、熱衝撃性に優れています。
タングステン蒸着ボートは、真空蒸着プロセス、特に金属や合金などの材料の蒸着に使用される特殊な容器です。
RF PECVD は、高周波プラズマ化学蒸着の略です。これは、標準的なシリコン集積回路技術で使用される平らな基板上に薄膜を堆積するための十分に確立された方法です。
バイオマス熱分解は、廃棄バイオマスをバイオ燃料、化学物質、その他の物質などの価値ある製品に変換するために使用されるプロセスです。