真空炉は、処理される材料を真空で囲むタイプの炉です。これにより、酸化、対流による熱損失、汚染が防止されます。この炉は、金属やセラミックなどの材料を、選択された材料で最大 3,000 °C の高温まで加熱できます。真空レベルと炉の最高温度は、加熱される材料の融点と蒸気圧によって異なります。真空炉は、焼鈍、ろう付け、焼結、熱処理などの工程に使用されます。このプロセスはコンピュータで制御できるため、再現性が保証され、製品は汚染が少なく純度が高くなります。
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真空炉は、処理される材料を真空で囲むタイプの炉です。これにより、酸化、対流による熱損失、汚染が防止されます。この炉は、金属やセラミックなどの材料を、選択された材料で最大 3,000 °C の高温まで加熱できます。真空レベルと炉の最高温度は、加熱される材料の融点と蒸気圧によって異なります。真空炉は、焼鈍、ろう付け、焼結、熱処理などの工程に使用されます。このプロセスはコンピュータで制御できるため、再現性が保証され、製品は汚染が少なく純度が高くなります。
商品番号: KT-VI
商品番号: KT-VTP
商品番号: KT-VLP
商品番号: KT-CRTF
商品番号: KT-VMW
商品番号: KT-VT
商品番号: KT-CTF12
商品番号: GF-01
商品番号: KT-APS
商品番号: KT-PTF
商品番号: GF-06
商品番号: KT-RTF
商品番号: GF-04
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商品番号: GF-07
商品番号: GF-02
商品番号: GF-08
商品番号: KT-VF
商品番号: KT-VA
商品番号: KT-BF
商品番号: KT-VIS
商品番号: KT-DP10
商品番号: KT-VIL
商品番号: KT-DV10
当社は、お客様固有の要件に合わせた最適な真空炉ソリューションをご用意しています。当社のカスタム真空炉は、ほぼすべての顧客の要件を満たすように設計されています。当社では、さまざまな形状とサイズ、複数のホット ゾーン オプション、手動または自動のフロー制御を提供しています。当社の広範なポートフォリオにより、お客様のニーズを満たす適切な標準ソリューションが存在することが事実上保証されます。当社は、10 ~ 11 Torr (mBar) の低い圧力で動作し、動作範囲が室温からタングステン ホット ゾーンの最高温度 3000 °C (5432°F) および 2200 °C (3992°F) までの真空炉を構築しています。 ) おおよその真空レベル (10-2 Torr/mbar) のグラファイト ホット ゾーンの場合。
当社の真空炉は、お客様のユニークなプロジェクトに最適なソリューションです。当社の広範な製品ラインは、お客様のニーズを満たす標準ソリューションを提供します。ただし、より型破りなアプリケーションの場合は、当社のカスタム設計サービスが役立ちます。当社のカスタム真空炉は、どんなに型破りなプロジェクトであっても、お客様の特定のプロジェクトに合わせて設計されています。これらの炉は複数のプロセス向けに設計されており、垂直または水平の投入が可能で、さまざまな形状とサイズがあります。さらに、自動フロー制御と複数のホット ゾーン オプションも提供しています。一番良いところ?当社の真空炉は価格的にも非常に有利であり、完全なカスタマイズサービスを提供しています。
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真空炉で材料の純度、強度、性能を向上させるために、熱を加えることよりも空気を取り除くことがなぜ重要なのかをご覧ください。
実験室用炉の選択?マッフル炉とチューブ炉の違いは、処理量と雰囲気制御のトレードオフに集約されます。
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炉の真の限界は最高温度ではなく、真空ポンプのような、見過ごされがちな部品のシステム全体の安定性にある。
真空炉が、大気汚染を排除し、重要用途における材料純度を保証することで、究極のプロセス制御をどのように提供するかを探ります。