真空炉
真空熱処理炉および浮上誘導溶解炉
商品番号 : KT-VIL
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 容量
- 0.5-20 kg
- 真空漏气
- 5 Pa/h
- 真空压力
- 6×10-3 Pa
- 周波数
- 6000-10000 Hz
- 冷水压力
- 0.2-0.4 MPa
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用途
真空浮上溶解炉は、水冷式るつぼを用いた電磁誘導真空浮上溶解法を応用した新しいタイプの炉です。真空条件下で誘導コイルによって形成される高周波または中周波の交流電界内に、溶融した金属または非金属固体材料を配置し、水冷式金属るつぼを磁場の「エネルギーコレクター」として使用します。これにより、エネルギー磁場エネルギーがるつぼの体積空間に集中し、ターゲットとなる溶融材料の表面近くに強力な渦電流が形成されます。
一方では、ジュール熱がターゲットとなる溶融材料に放出され、もう一方では、ローレンツ力場が形成されてターゲットとなる溶融材料を浮上（または半浮上）させ、撹拌します。磁気浮上の効果により、ターゲットとなる溶融材料がるつぼの内壁から分離されるため、ターゲットとなる溶融材料とるつぼ壁との間の放熱挙動が伝導放熱から放射放熱に変化し、放熱率が低下します。ターゲットとなる溶融材料は非常に高い温度（1700℃〜2000℃）に達することができ、高融点金属またはその合金の製錬に適しています。
詳細と部品
真空磁気浮上溶解は、材料とるつぼ間の非接触溶解であり、クリーンで環境に優しいです。製錬温度が高く、2500℃以上に達することができ、高融点耐火金属および活性金属の製錬と精製に特に使用されます。磁気浮上用の特殊IGBT電源を採用し、自社開発の水冷式分割銅るつぼと組み合わせており、良好な浮上効果を発揮します。二段式分子ポンプ制御システムにより、5.0*10-5Paに達する高真空度を実現します。
利点
- 製錬中のターゲット溶融材料の浮上により、るつぼ壁との接触による汚染が効果的に防止されます。高純度または極めて活性な金属および非金属材料の取得に適しています。
- さらに、水冷式るつぼは、誘導コイルの中周波または高周波電流を介してターゲット溶融材料の温度上昇と浮上を制御するため、良好な制御能力を実現できます。
- 同時に、誘導加熱法自体は非接触加熱法であり、プラズマビーム、電子ビームなどの加熱方法によるるつぼや金属溶液への衝撃や揮発を回避します。
技術仕様
| モデル | KT-VIL-0.5 | KT-VIL-2 | KT-VIL-5 | KT-VIL-10 | KT-VIL-20 | |
| 容量 | 0.5kg | 2kg | 5kg | 10kg | 20kg | |
| 真空漏れ | 5Pa/h | |||||
| 真空度 | 6×10-3Pa | |||||
| 電源 | 380V、3相、50Hz | |||||
| 周波数 | 6000-10000Hz | |||||
| 定格出力 | 25kW | 160kW | 400kW | 400kW | 500kW | |
| 冷水圧力 | 0.2-0.4MPa | |||||
| 冷水消費量 | 3M3 | 15M3 | 30M3 | 40M3 | 45M3 | |
警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
真空炉って何に使うの？
真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか？
真空ホットプレス炉の目的は何ですか?
真空炉で使用されるガスは何ですか?
真空ホットプレス炉のメリットは何ですか？
真空炉で使用される発熱体とは何ですか?
真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか？
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