製品 熱機器 真空炉 真空浮上 誘導溶解炉 アーク溶解炉
真空浮上 誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空炉

真空浮上 誘導溶解炉 アーク溶解炉

商品番号 : KT-VIL

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


容量
0.5~20kg
真空漏れ
5Pa/h
真空圧力
6×10-3Pa
周波数
6000~10000Hz
冷水の圧力
0.2~0.4MPa
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配送:

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アプリケーション

真空浮遊溶解炉は、水冷るつぼによる電磁誘導真空浮遊溶解法を応用した新しい炉です。これは、真空条件下で誘導コイルによって形成される高周波または中間周波の交流電場に溶融金属または非金属固体を置き、水冷金属るつぼを磁場の「エネルギーコレクター」として使用することです。 、その結果、エネルギー磁場エネルギーがるつぼの体積空間に集中し、ターゲット溶融材料の表面近くに強い渦電流が形成されます。

一方では、ジュール熱がターゲットの溶融材料に放出されます。一方、ローレンツ力場は、対象となる溶融材料を懸濁(あるいは半懸濁)させて撹拌するために形成されます。磁気浮上の効果により、対象融液材料がるつぼ内壁から離れるため、対象融液材料とるつぼ壁との間の放熱挙動が伝導放熱から輻射放熱に変化し、熱放散率の低下。対象となる溶融物は非常に高温(1700℃~2000℃)に達することができ、高融点金属やその合金の製錬に適しています。

利点

  • 製錬中のターゲット溶融材料の懸濁は、るつぼ壁の接触によって引き起こされる汚染を効果的に防止します。高純度または極めて活性な金属および非金属材料を得るのに適しています。
  • また、水冷るつぼは、誘導コイルの中周波または高周波電流により被融液の温度上昇と懸濁を制御するため、良好な制御能力を発揮することができる。
  • 同時に、誘導加熱法自体は非接触加熱法であるため、プラズマビームや電子ビームなどの加熱方法によるるつぼや金属溶液への衝撃や揮発を回避できます。

技術仕様

モデルKT-VIL-0.5 KT-VIL-2 KT-VIL-5 KT-VIL-10 KT-VIL-20
容量0.5kg 2kg 5kg 10kg 20kg
真空漏れ5Pa/h
真空圧力6×10-3Pa
電源380V、3相、50Hz
周波数6000~10000Hz
定格出力25kW 160kW 400kW 400kW 500kW
冷水の圧力0.2~0.4MPa
冷水の消費量3M3 15M3 30M3 40M3 45M3

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。
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