製品 熱機器 真空炉 2200 ℃グラファイト真空炉
2200 ℃グラファイト真空炉

真空炉

2200 ℃グラファイト真空炉

商品番号 : KT-VG

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
2200 ℃
一定作業温度
2100 ℃
加熱速度
0-10 ℃/min
有効体積
12-150 L
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製品紹介

2200℃黒鉛真空炉は、断熱材に黒鉛フェルト、発熱体に黒鉛抵抗棒を使用した高温炉です。最高使用温度は2200℃に達し、タングステン合金、炭化珪素、モリブデン合金、チタン合金、超硬合金、炭素材料等の真空反応焼結に最適です。

最大真空度6*10-3Paの高真空性能を有し、高温ガスが発生しません。また、真空圧力の維持性能にも優れており、真空圧力の上昇速度は0.67Pa/hです。

炉の安全機能として、過電流保護機能、過温度警報機能、自動電源オフ機能を備えています。また、サーマルカップル検出機能を内蔵しており、破損や故障検出時には自動的に加熱を停止し、アラームを発します。

用途

KT-VG黒鉛真空炉は卓越した高温炉であり、真空または保護雰囲気環境下での材料の高温処理に各業界で広く使用されています。以下はその主な応用分野です:

  • タングステン合金、炭化ケイ素、モリブデン合金、チタン合金、超硬合金、炭素材料など様々な材料の真空反応焼結
  • 高温ろう付けおよびはんだ付け
  • 金属および合金の焼きなましと熱処理
  • セラミック材料の脱バインダーと焼結
  • 結晶成長
  • 真空コーティングと蒸着
  • 新素材の研究開発

 

縦型グラファイトチャンバー
縦型グラファイトチャンバー
水平グラファイトチャンバー
横型グラファイトチャンバー

特徴

真空黒鉛炉横型は、真空焼結や雰囲気制御焼結に最適な高性能炉です。高度な機能と性能により、以下のような多くのメリットをユーザーに提供します:

  • 超高温処理:**最高2200℃の高温処理が可能で、各種材料の高温処理に適しています。
  • 高真空性能:**最高6*10-3Paの真空度を達成し、材料処理にクリーンで制御された環境を確保します。
  • 優れた真空圧力維持性能:**わずか0.67Pa/hの圧力上昇率で安定した真空環境を維持し、汚染を防止し、プロセスの完全性を確保します。
  • 真空シェル本体二重層設計:***冷水循環高速冷却のための二重層ジャケットを採用し、効果的に外殻表面温度を下げ、安全性と作業者の快適性を向上させます。
  • 独立した空気入出力ポート: ** 雰囲気制御が可能なため、プロセス要件に合わせて炉内環境を調整できます。
  • オプションの手動および自動空圧真空バルブ:** 真空制御の柔軟性を提供し、さまざまな作業要件や自動化ニーズに対応します。
  • PIDプログラマブル・マイクロプロセッサー温度制御システム: ** 正確な温度制御を保証し、プロセス成果を最適化し、製品不良を低減します。
  • プロフェッショナルな発熱体構成:** 放熱と長寿命に最適化され、性能を最大限に引き出し、寿命を延ばします。
  • 安全インターロックシステム: ** 扉が開いているとき、または過昇温やセンサーの故障時に炉の電源を切ることで、オペレーターの安全を確保し、事故を防止します。

原理

2200℃グラファイト真空炉は、断熱されたグラファイトチャンバー内に高温グラファイト発熱体を使用しています。この特殊な設計により、正確な温度制御と均一な加熱分布が可能になります。炉は真空条件下で運転され、高温の材料を制御された雰囲気で処理することができます。真空環境はガス汚染、酸化、脱ガスを最小限に抑え、処理材料の純度と完全性を保証します。

利点

  • 真空および制御雰囲気焼結における超高作業温度
  • 高真空性能、最大真空度6*10-3Pa、高温ガス発生なし
  • 優れた真空圧維持性能、真空圧上昇率0.67Pa/h
  • 真空シェルボディ二重層設計、冷水循環高速冷却用ジャケット付き
  • 独立した空気入出力ポート、制御された雰囲気作業機能も利用可能
  • オプションの手動および自動空気圧真空バルブにより、さまざまな作業要件に対応可能
  • PIDプログラマブルマイクロプロセッサ温度制御システム、正確な温度制御を保証する
  • プロフェッショナルな発熱体構成により、熱放射特性を最適化し、長寿命を実現
  • ドア開放時や過昇温時、センサー故障時に炉の電源を切る安全インターロックシステム

安全性の利点

  • 過電流保護および過温度警報機能、自動電源オフ付き
  • サーマルカップル検知機能内蔵、破損や故障検知時に加熱を自動停止しアラームを発する
  • 停電後、電源が回復すると炉の加熱プログラムを再開する停電再始動機能

技術仕様

炉型式 KT-VG
最高温度 2200 ℃
一定作業温度 2100 ℃
チャンバー断熱材 グラファイトフェルト
発熱体 グラファイト棒
加熱速度 0~10℃/分
温度センサー T/R熱電対、赤外線温度計
温度コントローラー PLC付きタッチスクリーンPIDコントローラー
温度制御精度 ±1℃
電源 AC110-440V,50/60HZ
標準チャンバーサイズ 在庫
チャンバーサイズ(mm) 有効容積 (L) チャンバーサイズ(mm) 有効容積(L)
200x200x300 12 400x400x600 96
300x300x400 36 500x500x700 150
顧客の設計サイズおよび容積は受け入れられる

オプション設定

  • 独立した炉温度のモニタリングと記録
  • RS 485通信ポートによるPCからの遠隔操作およびデータ出力
  • 温度制御装置と連動する空気圧式真空バルブ (オプション)
  • タッチスクリーンの温度制御装置にはオペレーターが使いやすい多彩な機能を装備
  • 炉シェルジャケット冷却システム用冷水循環冷却装置

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

黒鉛化炉とは

黒鉛化炉は、石油コークスやコールタールピッチなどの炭素質原料を不活性雰囲気中で高温処理し、黒鉛に変換するための特殊な装置である。黒鉛化炉の温度は2500~3000℃である。

CVD炉とは何ですか?

化学蒸着 (CVD) は、加熱、プラズマ励起、光放射などのさまざまなエネルギー源を使用して、気相または気固界面で気体または蒸気の化学物質を化学反応させ、反応器内に固体堆積物を形成する技術です。化学反応。簡単に言うと、2 つ以上のガス状原料が反応チャンバーに導入され、それらが互いに反応して新しい材料を形成し、それを基板表面に堆積させます。

CVD炉は、高温管状炉ユニット、ガス制御ユニット、真空ユニットを備えた1つの複合炉システムであり、複合材料の調製、マイクロエレクトロニクスプロセス、半導体オプトエレクトロニクス、太陽エネルギー利用、光ファイバー通信、超伝導体の実験と生産に広く使用されています。技術、保護コーティング分野。

管状炉とは何ですか?

実験用管状炉は、古典的な外部加熱高温管状炉の 1 つであり、ホットウォール加熱炉とも呼ばれます。

異なる使用温度に応じて、炉管の材質は通常、透明な石英管、高純度のアルミナセラミック管、高強度金属合金管になります。

さまざまな熱研究目的を満たすために、管状炉は複数の加熱ゾーンを備えて設計でき、管状作業室内の温度勾配を柔軟に制御できます。炉心管は、制御された雰囲気作業環境または高真空作業環境で動作できます。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

黒鉛化炉の主な用途は?

黒鉛化炉は、冶金、エレクトロニクス、航空宇宙などの産業で重要な役割を果たします。電極、るつぼ、構造部品など、さまざまな高温用途に不可欠な高品質の黒鉛製品を生産する。

真空誘導溶解炉はどのように動作するのですか?

真空誘導溶解炉は、真空または保護雰囲気条件下で電磁誘導を利用して、酸素、窒素、水素と結合しやすい金属や合金、または酸素、窒素、水素と親和性の高い金属や合金を溶解します。炉には、処理される材料内に熱の渦電流を生成する誘導コイルで囲まれた耐火物で裏打ちされたるつぼが含まれています。炉の真空システムは溶融金属からのガスを完全に除去し、冷却システムは溶解温度の制御に貢献します。この炉は信頼性が高く、生産性が高く、組成公差が非常に近い金属を生産します。

真空アーク溶解法とは何ですか?

真空アーク溶解 (VAR) は、航空宇宙、エネルギー、原子力などの産業における重要な用途向けに、化学的および機械的均質性の高い金属インゴットを製造するために使用される二次溶解プロセスです。このプロセスには、真空下で液体金属を精製し、その凝固速度を制御することが含まれます。鋳造耐火物と接触せずに反応性のチタンまたはジルコニウム合金を精製したり、鋼や超合金の介在物の清浄度を向上させるために使用されます。再溶解された円筒形インゴットの重さは数トンにもなり、VAR は特殊冶金技術業界に革命をもたらしました。

CVD炉はどのように動作するのですか?

CVD炉システムは、高温管状炉ユニット、反応ガス源精密制御ユニット、真空ポンプステーションおよび対応する組立部品で構成されています。

真空ポンプは反応管から空気を除去し、反応管内に不要なガスがないことを確認します。その後、管状炉が反応管を目標温度まで加熱し、反応ガス源の精密制御ユニットがさまざまなガスを導入できます。化学反応用の炉管内に設定された比率のガスが導入され、CVD 炉内で化学気相成長が形成されます。

雰囲気炉とは何ですか?

雰囲気炉は、さまざまな手順のための制御された環境を提供する一種の実験装置です。特定の温度と雰囲気を維持するように設計されており、精度と精度が必要なタスクを完了するために不可欠です。炉は適切な環境を確保するために密閉されており、使用されるガスの混合物は望ましい結果を達成するために正確に測定されます。このタイプの炉は、不活性雰囲気中で酸化しやすいサンプルの結合、硬化、熱処理に一般的に使用されます。

管状炉はどのように機能するのでしょうか?

管状炉の加熱要素は円筒状キャビティの周囲に配置されます。炉は間接的な熱放射によってのみ円筒状キャビティ内のサンプルを加熱できます。これは、管状炉によりサンプル材料が炉の加熱要素や断熱材と接触するのを防ぐことができるため、管状炉はきれいな隔離された炉を作成します。チャンバーを加熱し、サンプル材料が炉によって汚染されるリスクを軽減します。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

黒鉛化炉にはどのような種類がありますか?

横型高温黒鉛化炉、大型縦型黒鉛化炉、連続黒鉛化炉、ネガ材黒鉛化炉、縦型高温黒鉛化炉、超高温黒鉛化炉、IGBT実験黒鉛化炉、高熱伝導フィルム黒鉛化炉、炭素材料用ボトムディスチャージ黒鉛化炉、2200℃黒鉛真空炉などがあります。

真空誘導溶解の利点は何ですか?

真空誘導溶解 (VIM) の利点には、ガスの除去、優れたプロセス制御、化学分析の厳密な制御、スラグのない溶解、および溶解保護が含まれます。 VIM は現在、金属材料を加熱するための最もエネルギー効率が高く、最速、低消費電力で環境に優しい誘導加熱技術です。この技術は、反応性元素を含む組成物の優れた再現可能な制御を提供し、スラグ保護カバーの必要性を排除し、インゴット内の偶発的な汚染や介在物の可能性を減らします。このプロセスは真空環境で行われるため、金属内部のガス不純物を除去するのに有益であり、その結果、より純粋な金属合金材料が得られます。

VAR真空アーク再溶解(VAR)炉とは何ですか?

VAR または真空アーク再溶解は、標準的な空気溶解、真空誘導溶解、または ESR 再溶解合金から作られたインゴットの精製と清浄度の向上に使用されるプロセスです。航空宇宙、発電、防衛、医療、原子力などの産業における鋼、超合金、チタン、ジルコニウム、およびそれらの合金に使用されています。 VAR は、電極と銅モールドの間にアークを発生させるために DC 電力を使用して、真空下で消耗電極を連続的に再溶解するプロセスです。このプロセスにより、溶存ガスが除去され、望ましくない微量元素が減少し、酸化物の清浄度が向上し、インゴットの底部から上部への指向性凝固が達成されます。

CVDプロセスで使用されるガスは何ですか?

CVD プロセスでは使用できるガス源が膨大にあり、CVD の一般的な化学反応には熱分解、光分解、還元、酸化、酸化還元が含まれるため、これらの化学反応に関与するガスを CVD プロセスで使用できます。

CVD グラフェン成長を例に挙げます。CVD プロセスで使用されるガスは CH4、H2、O2、N2 です。

雰囲気炉の用途は何ですか?

雰囲気炉は、さまざまなプロセスに制御された環境を提供するために研究室で使用されます。この炉では、正確な温度と雰囲気の制御が可能であり、これは正確な温度が必要な手順にとって重要です。プロジェクトに適切な環境を確保するために、炉はしっかりと密閉されています。雰囲気炉の主な構成要素はガスの適切な混合であり、これはプロジェクトの成功に不可欠です。雰囲気炉は熱処理プロセスの成功に重要な役割を果たします。加工材料を保護したり、加工材料の表面を変化させたりするために使用されます。

管状炉の用途は何ですか?

管状炉は主に冶金、ガラス、熱処理、リチウムアノードおよびカソード材料、新エネルギー、研磨材およびその他の産業で使用され、特定の温度条件下で材料を測定するための専門的な機器です。

シンプルな構造、簡単な操作、簡単な制御、連続生産が特徴の管状炉です。

管状炉は、CVD (化学気相成長) およびプラズマ強化 CVD システムにも広く適用されています。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。

黒鉛化炉の仕組み

黒鉛化炉は、炭素質材料を不活性雰囲気中で2500~3000℃の超高温にさらすことによって機能します。黒鉛は、高熱伝導性、低熱膨張性、化学的不活性などのユニークな特性を持っています。

真空は誘導溶解炉でどのように役立ちますか?

真空条件は、溶融金属からガスを除去し、急速な酸化を防ぐのに役立つため、誘導溶解炉では非常に重要です。溶解プロセス中にガスが存在しないため、非常に近い組成公差が得られ、結果として一貫した金属が得られます。真空はまた、酸素、窒素、水素と容易に結合する金属、またはそれらと親和性の高い金属を保護する雰囲気を提供します。真空誘導溶解炉は、電磁誘導を使用して、誘導コイルで囲まれた耐火物内張りるつぼ内で金属および合金を溶解し、溶解プロセスを可能にする渦電流を生成します。

真空アーク溶解炉はどのように動作するのですか?

真空アーク溶解炉は、電気アークを使用して真空または低圧雰囲気下で材料を溶解することによって機能します。炉は 2 つの電極を使用し、そのうちの 1 つは溶解する材料です。電極を近づけると電極間にアークが発生し、材料が溶解します。次に、炉を真空にして不純物を除去し、溶融材料を所望の形状に鋳造します。このプロセスは、航空宇宙、エレクトロニクス、生体医工学などの産業で使用される高純度の金属、合金、金属間化合物の製造に使用されます。

CVD装置の利点は何ですか?

  • 金属膜、非金属膜、多成分合金膜など、ご要望に応じて幅広い膜の製造が可能です。同時に、GaNやBPなど他の方法では得られない高品質な結晶を作製することができます。
  • 成膜速度は速く、通常は毎分数ミクロン、場合によっては毎分数百ミクロンです。液相エピタキシー(LPE)や分子線エピタキシー(MBE)など他の成膜法とは比べものにならない、均一な組成のコーティングを同時に大量に成膜することが可能です。
  • 作業条件は常圧または低真空条件下で行われるため、コーティングの回折性が良好で、複雑な形状のワークピースでも均一にコーティングでき、PVD に比べてはるかに優れています。
  • 反応ガス、反応生成物、基材の相互拡散により、耐摩耗性や耐腐食性の皮膜などの表面強化皮膜の作製に重要な密着強度の高い皮膜が得られます。
  • 一部のフィルムは、フィルム材料の融点よりもはるかに低い温度で成長します。低温成長条件下では、反応ガスと反応炉壁およびそれらに含まれる不純物とがほとんど反応しないため、高純度で結晶性の良い膜が得られる。
  • 化学気相成長法では平滑な成膜面が得られます。これは、LPE と比較して、化学気相成長 (CVD) が高飽和下で行われるため、核生成率が高く、核生成密度が高く、面内均一に分布するため、巨視的に滑らかな表面が得られます。同時に、化学蒸着では、分子(原子)の平均自由行程が LPE よりもはるかに大きいため、分子の空間分布がより均一になり、滑らかな蒸着表面の形成に役立ちます。
  • 金属酸化物半導体(MOS)やその他のデバイスの製造に必要な条件である放射線ダメージが低い

管状炉の種類は何種類ありますか?

管状炉はさまざまな機械的機能をスムーズに動作させることができるため、さまざまな実験目的に応じてさまざまなタイプの管状炉のバリエーションがあり、代表的な炉炉は次のとおりです。

  • 横型管状炉
  • 縦型管状炉
  • 分割管状炉
  • ロータリー管状炉
  • 傾斜管状炉
  • スライド管状炉
  • 高速加熱冷却管状炉
  • 連続供給・排出管状炉

黒鉛化炉を使用する利点は何ですか?

黒鉛化炉を使用するメリットは、熱伝導性、低熱膨張性、化学的不活性に優れた高品質の黒鉛が得られることです。これらの特性により、黒鉛は、冶金、電子、航空宇宙などの産業における幅広い高温用途に最適です。

真空誘導溶解炉とは何ですか?

真空誘導溶解炉は、真空または保護雰囲気下で交流電磁場を使用してさまざまな材料を溶解および形成する冶金炉です。真空冶金の分野で広く使用されており、航空宇宙、エレクトロニクス、原子力産業で使用される合金や特殊鋼の製造に不可欠です。真空誘導溶解炉は、ニッケル、コバルト、鉄基超合金の熱間加工性や機械的性質の向上をはじめ、ステンレス鋼、耐熱鋼、超高張力鋼などのさまざまな材料の溶解にも使用されています。品質とパフォーマンスを保証します。

PECVD とは何の略ですか?

PECVDは、プラズマを利用して反応ガスを活性化し、基板表面または表面近傍空間での化学反応を促進し、固体膜を生成する技術です。プラズマ化学蒸着技術の基本原理は、RF または DC 電場の作用下でソースガスがイオン化されてプラズマを形成し、低温プラズマがエネルギー源として使用され、適切な量の反応ガスが生成されます。を導入し、プラズマ放電を利用して反応ガスを活性化し、化学気相成長を実現します。

プラズマの発生方法により、RFプラズマ、DCプラズマ、マイクロ波プラズマCVDなどに分けられます。

CVDとPECVDの違いは何ですか?

PECVD と従来の CVD 技術の違いは、プラズマには大量の高エネルギー電子が含まれており、化学蒸着プロセスで必要な活性化エネルギーを提供できるため、反応システムのエネルギー供給モードが変化することです。プラズマ中の電子温度は 10000K と高いため、電子とガス分子の衝突により反応ガス分子の化学結合の切断と再結合が促進され、より活性な化学基が生成され、同時に反応系全体がより低い温度を維持します。

したがって、CVD プロセスと比較して、PECVD は同じ化学気相成長プロセスをより低い温度で実行できます。

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Alejandro Lucas

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炭素材料用のボトムアウト黒鉛化炉。最高3100℃の超高温炉で、炭素棒および炭素ブロックの黒鉛化および焼結に適しています。垂直設計、底部排出、便利な供給と排出、高い温度均一性、低エネルギー消費、良好な安定性、油圧昇降システム、便利な積み下ろし。

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉は、金属およびセラミック焼結における高温ホットプレス用途向けに設計されています。その高度な機能により、正確な温度制御、信頼性の高い圧力維持、シームレスな操作のための堅牢な設計が保証されます。

2200℃タングステン真空炉

2200℃タングステン真空炉

当社のタングステン真空炉で究極の高融点金属炉を体験してください。 2200℃まで到達可能で、先端セラミックスや高融点金属の焼結に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

600T真空誘導ホットプレス炉

600T真空誘導ホットプレス炉

真空または保護された雰囲気での高温焼結実験用に設計された 600T 真空誘導ホットプレス炉をご覧ください。正確な温度と圧力制御、調整可能な作動圧力、高度な安全機能により、非金属材料、カーボン複合材料、セラミック、金属粉末に最適です。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

負材黒鉛化炉

負材黒鉛化炉

電池製造用黒鉛化炉は温度が均一でエネルギー消費が少ない。負極材料用黒鉛化炉:電池生産のための効率的な黒鉛化ソリューションと電池性能を向上させる高度な機能。

卓上型水循環真空ポンプ

卓上型水循環真空ポンプ

研究室や小規模産業に水循環真空ポンプが必要ですか?当社のベンチトップ水循環真空ポンプは、蒸発、蒸留、結晶化などに最適です。

水素雰囲気炉

水素雰囲気炉

KT-AH 水素雰囲気炉 - 安全機能、二重シェル設計、省エネ効率を備えた焼結/アニーリング用誘導ガス炉です。研究室や産業での使用に最適です。

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

真空ろう付け炉

真空ろう付け炉

真空ろう付け炉は、母材よりも低い温度で溶けるろう材を使用して 2 つの金属を接合する金属加工プロセスであるろう付けに使用される工業炉の一種です。真空ろう付け炉は通常、強力できれいな接合が必要な高品質の用途に使用されます。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

真空管式ホットプレス炉

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高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

真空ホットプレス炉

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真空ホットプレス炉の利点をご覧ください!高温高圧下で緻密な耐火金属・化合物、セラミックス、複合材料を製造します。

小型真空タングステン線焼結炉

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小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

セラミックファイバーライナー付き真空炉

セラミックファイバーライナー付き真空炉

多結晶セラミックファイバー断熱ライナーを備えた真空炉で、優れた断熱性と均一な温度場を実現。最高使用温度は1200℃または1700℃から選択でき、高真空性能と精密な温度制御が可能です。

9MPa空気加圧焼結炉

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空圧焼結炉は、先端セラミック材料の焼結に一般的に使用されるハイテク装置です。真空焼結と加圧焼結の技術を組み合わせ、高密度・高強度セラミックスを実現します。

1200℃マッフル炉

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1200℃マッフル炉でラボをグレードアップ。日本製アルミナファイバーとモリブデンコイルにより、高速で正確な加熱を実現します。TFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラミングとデータ解析が容易です。ご注文はこちらから!

立型水循環真空ポンプ

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研究室や小規模産業向けの信頼性の高い水循環真空ポンプをお探しですか?蒸発や蒸留などに最適な、5つのタップを備え、より大きな吸気量を備えた立型水循環真空ポンプをご覧ください。

真空モリブデン線焼結炉

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真空モリブデン線焼結炉は、高真空および高温条件下での金属材料の取り出し、ろう付け、焼結および脱ガスに適した縦型または寝室構造です。石英材料の脱水酸化処理にも適しています。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。

真空ボックス用ラボペレットプレス

真空ボックス用ラボペレットプレス

真空ボックス用ラボプレスでラボの精度を高めましょう。真空環境で錠剤や粉末を簡単かつ正確にプレスし、酸化を抑えて安定性を向上させます。コンパクトで使いやすく、デジタル圧力計も付いています。

マルチゾーン管状炉

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当社のマルチゾーン管状炉を使用して、正確で効率的な熱試験を体験してください。独立した加熱ゾーンと温度センサーにより、制御された高温勾配加熱フィールドが可能になります。高度な熱分析を今すぐ注文してください。

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真空ラミネーションプレスでクリーンで正確なラミネーションを体験してください。ウェハーボンディング、薄膜変換、LCPラミネーションに最適です。今すぐご注文ください!

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高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

縦型管状炉

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当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

モリブデン真空炉

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遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

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