カテゴリを切り替える
ラボ用消耗品と材料
スラッピング型滅菌ホモジナイザー組織マッシングホモジナイザー分散機
商品番号 : KTL-6
商品番号 : KTL-5
商品番号 : KTL-4
商品番号 : KTL-3
商品番号 : KTL-2
商品番号 : KTL-1
商品番号 : cvdm-06
商品番号 : cvdm-05
商品番号 : cvdm-04
商品番号 : cvdm-03
商品番号 : cvdm-02
商品番号 : cvdm-01
商品番号 : KT-CHIP
商品番号 : KME01-2
商品番号 : KME01
商品番号 : KTL-7
商品番号 : BC-08
商品番号 : BC-07
商品番号 : BC-06
商品番号 : BC-05
マイクロインジェクター／液相ガスクロマトグラフィー用注入プランジャー 注入針
商品番号 : KTG-5
商品番号 : PTFE-13
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連記事
化学気相成長法によるダイヤモンド薄膜の作製と成長機構
本稿では、化学気相成長法（CVD）によるダイヤモンド薄膜の作製方法と成長メカニズムについて解説し、課題と応用の可能性を明らかにする。
半導体とハイエンド製造における培養ダイヤモンドの高度な応用
半導体、放熱、先端製造における培養ダイヤモンドの利用について解説。
CVDダイヤモンドの市場展望と用途
CVDダイヤモンドのユニークな特性、その調製方法、様々な分野での応用について解説。
MPCVD単結晶ダイヤモンドの半導体および光学ディスプレイ分野への応用
本稿では、MPCVD単結晶ダイヤモンドの半導体および光学ディスプレイ分野への応用について論じ、その優れた特性と様々な産業への潜在的な影響に焦点を当てる。
マイクロ波プラズマ化学気相成長法による大型単結晶ダイヤモンド作製の進展
この論文では、マイクロ波プラズマ化学気相成長法（MPCVD法）を用いて大型単結晶ダイヤモンドを作製する際の進歩と課題について述べる。
建築用ガラスへの真空コーティングの応用
建築用ガラスへの真空コーティングの方法と利点について、エネルギー効率、美観、耐久性に焦点を当てながら詳しく紹介。
マグネトロンスパッタ薄膜の密着性に影響する因子
マグネトロンスパッタリング技術によって作製された薄膜の接着性に影響を与える主要因を詳細に分析。
ダイヤモンドライクコーティング（DLC）とその用途
ダイヤモンドライクカーボン（DLC）コーティングの特性と多様な用途について解説。
各種電源がスパッタ・フィルムのモルフォロジーに与える影響
この記事では、電源の違いがスパッタ膜の形態にどのような影響を与えるかについて、DC、PDC、RF電源に焦点を当てて説明する。
マグネトロンスパッタリング成膜における膜厚公差の制御
最適な材料性能を得るためのマグネトロンスパッタリングコーティングにおける膜厚公差を確保する方法について説明する。
電子ビーム蒸着コーティング：利点、欠点、および応用
電子ビーム蒸着コーティングの長所と短所、そして産業における様々な用途について詳しく解説。
交流電力を用いたTiN膜蒸着における課題と解決策
交流電力下でのTiN膜成長の難しさを論じ、DCスパッタリングやパルスDCなどの解決策を提案。
PVDコーティングプロセスの包括的な概要
PVDコーティングプロセスの原理、種類、ガスアプリケーション、実用的な使用法について詳しく解説。
薄膜システム設計：原理、考察、実用的アプリケーション
薄膜システムの設計原理、技術的考察、様々な分野での実用的応用を徹底的に探求する。
真空コーティング材料の選択：主な要因と考慮事項
用途、材料特性、成膜方法、経済性、基材適合性、安全性に基づいて適切な真空コーティング材料を選択するためのガイドライン。
フレキシブル基板への蒸発コーティングに関する考察
フレキシブル素材への蒸発コーティングを成功させ、品質と性能を確保するための重要な要素。
マグネトロンスパッタリングにおけるバイアス電源の種類とその目的
マグネトロンスパッタリングにおけるバイアス電源の種類と、膜の密着性と密度を向上させるための役割の概要。
化学気相成長（CVD）薄膜形成技術
CVD技術の概要、原理、種類、用途、プロセス特性、利点。
半導体製造における薄膜堆積プロセス
半導体製造における化学的気相成長法（CVD）と物理的気相成長法（PVD）に焦点を当てた薄膜形成技術の概要。
化学気相成長（CVD）技術の包括的概要
この記事では、半導体や薄膜の成膜産業で使用される様々なCVD技術について詳述する。