薄膜蒸着部品
Eビームるつぼ 電子銃ビームるつぼ 蒸着用
商品番号 : KES01
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 材料
- タンタル / モリブデン / タングステン
- 仕様
- 4CC / 7CC /15CC / 25CC / 40CC
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用途
電子銃は強力な電子ビームを生成し、るつぼに向けられます。電子は、るつぼ内の材料を原子または分子クラスターになるまで加熱します。この雲は、薄膜を形成するために表面に堆積させることができます。電子銃ビーム蒸着では、るつぼは堆積させる材料を保持し加熱する容器のようなものです。融解せずに高温に耐えられる特殊な素材で作られています。蒸発する材料に熱を集中させるのに役立ちます。
主に以下の用途に使用されます。
- 薄膜堆積：電子ビーム蒸着、電子デバイスの薄膜製造、光学コーティング、材料表面改質などの薄膜堆積技術で広く使用されています。
- 半導体産業：相互接続、オーミックコンタクト、拡散バリアとしての薄金属膜の堆積。
- 光学およびオプトエレクトロニクス：さまざまな光学デバイス用の光学コーティング、反射防止コーティング、ミラー。
詳細と部品
技術仕様
| 製品 | モリブデン/タングステンるつぼ | 窒化ホウ素るつぼ/導電性窒化ホウ素るつぼ | グラファイトるつぼ/コーティンググラファイトるつぼ | 熱分解グラファイトコーティングるつぼ | ニッケルるつぼ | チタンるつぼ | 銅るつぼ | アルミナるつぼ |
| 仕様 | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC | 4CC | 4CC | 4CC / 2CC / 40CC | 4CC |
表示されているるつぼは、さまざまなサイズがあり、カスタムサイズもご要望に応じてご利用いただけます。
利点
- より高い蒸着率。
- 熱安定性の向上；均一な加熱。
- るつぼへの熱伝達の低減；良好な断熱性能。
- チャンバーのダウンタイムを最小限に抑えるための迅速な材料交換を可能にします。
- 真空適合性；高純度膜。
- 汎用性；複数の材料をサポートします。
- るつぼの損傷とメンテナンスを最小限に抑えます。
- これらの利点により、電子銃ビームるつぼは薄膜堆積プロセスにおいて重要なツールとなり、さまざまな産業および研究分野に精密な制御、高い堆積率、高品質の薄膜を提供します。
FAQ
熱蒸発源とは？
熱蒸着と電子ビーム蒸着の比較。
熱蒸発源の主な種類は何ですか？
熱蒸発源の仕組み
蒸発るつぼに使用される一般的な材料は何ですか?
熱蒸着ソースを使用する利点は何ですか？
蒸発るつぼを使用する利点は何ですか?
熱蒸着源はどのような用途に使用されますか？
蒸発るつぼはどのように取り扱い、メンテナンスすればよいですか?
4.8
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The Electron Gun Beam Crucible is a reliable product that delivers consistent results. It is made from high-quality materials and is built to last.
4.9
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The Electron Gun Beam Crucible's efficiency in melting and modifying materials is remarkable. It is a crucial tool in our lab's research and production processes.
4.7
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