薄膜蒸着部品
電子ビーム蒸着用高純度純グラファイトるつぼ
商品番号 : KMS02
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 材料
- 黒鉛
- 仕様
- Ф35-65*17-30mm
- カバー
- オプション
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用途
電子ビーム蒸着グラファイトるつぼは、電子ビームを使用して柔軟で粗いグラファイトフィルムを作成する技術です。その主要なパラメータには、炭素源の供給、電子ビーム照射エネルギー、印加電圧、蒸着温度、蒸着時間などが含まれます。印加電圧は、グラファイト層とるつぼの底層との間の接着力を変調します。平坦なグラファイト層を確保するために、均一な成膜と蒸着を実現するために、炭素源供給の流量と粒子サイズを制御する必要があります。
パワーエレクトロニクス分野では、電子ビーム蒸着グラファイトるつぼ技術が広く使用されています。炭素源材料を電子ビームで成膜し、グラファイトの薄膜を形成します。このプロセスで製造されたグラファイトるつぼは、低抵抗、低コロナ、高降伏強度を備えています。電子機器の放熱、耐電圧製造、試験に広く使用されています。
詳細と部品



技術仕様
| グラファイトるつぼの寸法 | 35*17mm | 35*22mm | 40*20mm | 42.5*19.5mm | 45*22.5mm | 50*25mm | 65*30mm |
表示されているるつぼは、さまざまなサイズで利用可能であり、カスタムサイズもリクエストに応じて利用可能です。
利点
- 準備精度:電子ビーム蒸着技術は、成膜プロセスを精密に制御でき、高精度で一貫性のあるグラファイトるつぼが得られます。
- 熱衝撃耐性:電子ビーム蒸着によって形成されたグラファイトフィルムは、優れた熱衝撃耐性を持ち、急激な温度変化を伴う用途に適しています。
- 耐摩耗性:電子ビーム蒸着グラファイトるつぼは、優れた耐摩耗性を持ち、耐久性があり、過酷な条件に耐えることができます。
- 耐薬品性:これらのるつぼは、酸、アルカリ、化学的汚染に耐性があり、化学的に攻撃的な環境での信頼性と長寿命を保証します。
- 柔軟性と粗さ:この技術によって形成されたグラファイトフィルムは、ある程度の柔軟性と粗さを持ち、さまざまな用途で効果的です。
結論として、eビーム蒸着グラファイトるつぼは、精密な準備、熱衝撃耐性、耐摩耗性、耐薬品性、柔軟性、粗さを備えています。パワーエレクトロニクス、分子結合試験、レーザー技術、バッテリー、高電圧コンデンサ、医療機器の用途に広く使用されています。
FAQ
熱蒸発源とは?
電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ技術と従来技術の比較。
高純度黒鉛るつぼはどのように作られるのでしょうか?
熱蒸発源の主な種類は何ですか?
高純度黒鉛るつぼの一般的な用途は何ですか?
熱蒸発源の仕組み
蒸発るつぼに使用される一般的な材料は何ですか?
高純度黒鉛るつぼを選択する際に考慮すべき要素は何ですか?
熱蒸着ソースを使用する利点は何ですか?
蒸発るつぼを使用する利点は何ですか?
熱蒸着源はどのような用途に使用されますか?
蒸発るつぼはどのように取り扱い、メンテナンスすればよいですか?
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