薄膜蒸着部品
電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ
商品番号 : KMS02
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 材料
- 黒鉛
- 仕様
- Ф35-65*17-30mm
- カバー
- オプション
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アプリケーション
電子ビーム蒸着グラファイトるつぼは、電子ビームを使用して柔軟で粗いグラファイト膜を作成する技術です。その重要なパラメータには、炭素源の供給、電子ビーム照射エネルギー、印加電圧、蒸発温度、蒸発時間が含まれます。印加電圧により、グラファイト層とるつぼの底部層との間の接着力が調整されます。平らなグラファイト層を確保するには、炭素源供給の流量と粒子サイズを制御して、均一な堆積と蒸発を達成する必要があります。
パワーエレクトロニクスの分野では、電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ技術が広く使用されています。電子ビームを使用して炭素源材料を堆積し、グラファイトの薄膜を形成することが含まれます。このプロセスで製造された黒鉛るつぼは、抵抗が低く、コロナが少なく、降伏強度が高くなります。電子機器の放熱、耐電圧製造、試験などに幅広く使用されています。
ディテール＆パーツ
技術仕様
| 黒鉛るつぼの寸法 | 35*17mm | 35*22mm | 40*20mm | 42.5×19.5mm | 45×22.5mm | 50*25mm | 65*30mm |
ご紹介するるつぼはさまざまなサイズでご利用いただけます。ご要望に応じてカスタム サイズもご利用いただけます。
アドバンテージ
- 準備精度: 電子ビーム蒸着技術により蒸着プロセスを正確に制御できるため、高精度で一貫したグラファイトるつぼが得られます。
- 耐熱衝撃性：電子ビーム蒸着により形成されたグラファイトフィルムは耐熱衝撃性に優れており、急激な温度変化を伴う用途に適しています。
- 耐摩耗性: 電子ビーム蒸着黒鉛るつぼは優れた耐摩耗性を備えており、耐久性があり、過酷な条件に耐えることができます。
- 耐薬品性: これらのるつぼは酸、アルカリ、化学汚染に耐性があり、化学的に攻撃的な環境でも信頼性と寿命が保証されます。
- 柔軟性と粗さ：この技術で形成されたグラファイトフィルムは、ある程度の柔軟性と粗さを持ち、さまざまな用途に有効です。
結論として、電子ビーム蒸着黒鉛るつぼは、正確な準備、耐熱衝撃性、耐摩耗性、耐薬品性、柔軟性、および粗さを備えています。これらは、パワーエレクトロニクス、分子結合試験、レーザー技術、バッテリー、高電圧コンデンサー、医療機器用途で広く使用されています。
FAQ
熱蒸発源とは？
黒鉛化炉とは
電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ技術と従来技術の比較。
高純度黒鉛るつぼはどのように作られるのでしょうか？
熱蒸発源の主な種類は何ですか？
黒鉛化炉の主な用途は？
RF PECVDとは何ですか?
スパッタリングターゲットとは何ですか？
高純度黒鉛るつぼの一般的な用途は何ですか?
熱蒸発源の仕組み
黒鉛化炉にはどのような種類がありますか？
スパッタリングターゲットはどのように作られるのでしょうか？
高純度黒鉛るつぼを選択する際に考慮すべき要素は何ですか?
蒸発るつぼに使用される一般的な材料は何ですか?
熱蒸着ソースを使用する利点は何ですか？
黒鉛化炉の仕組み
スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
蒸発るつぼを使用する利点は何ですか?
熱蒸着源はどのような用途に使用されますか？
黒鉛化炉を使用する利点は何ですか？
エレクトロニクス用のスパッタリングターゲットとは何ですか?
蒸発るつぼはどのように取り扱い、メンテナンスすればよいですか?
スパッタリングターゲットの寿命はどのくらいですか?
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