製品 熱機器 真空ホットプレス炉 真空ラミネーションプレス
真空ラミネーションプレス

真空ホットプレス炉

真空ラミネーションプレス

商品番号 : KT-VLP

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


プレート移動距離
30-40 mm
加熱温度
<500 ℃
真空圧
-0.1Mpa
ISO & CE icon

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はじめに

真空ラミネーションプレスは、油圧プレス、電気加熱、真空グローブボックスを組み合わせた多機能マシンです。油圧プレス板に埋め込まれた電気加熱板、断熱材、循環水冷により、油圧プレス構造の高温を防ぐことができます。プレスプレートは真空グローブボックス内に設置され、酸素に敏感な加工製品のために真空とクリーンな環境を作り出すことができる。

真空ラミネーションプレスは、ウェハー接合、薄膜変形、LCPラミネーションに一般的に使用されている。真空ラミネーションプレスは、加工材料の酸化や汚染を防ぐために真空とクリーンな環境が要求される用途で特に有用です。

用途

真空ラミネーションプレスは、以下のような様々な産業で使用されています:

  • ウェハーボンディング
  • 薄膜加工
  • LCPラミネート
  • 航空機内装パネル用装飾ラミネート
  • 真空クランプ
  • 真空チャッキング
  • ベニアリング
  • 陶器用真空成形
  • 真空クランプとテンプレートルーティング

特徴

バキュームラミネートプレスは、エレクトロニクス、プリント基板、化粧板、ハニカムパネルなど幅広い産業に対応するために設計された油圧式コンプレッションプレスです。このプレスは、ラミネーションプロセスを向上させるだけでなく、高品質の結果を保証する高度な機能で際立っています。真空ラミネーションプレスの主な利点は以下の通りです:

  • 正確な温度と圧力のコントロール:複数の開口部を備えたこのプレスは、温度と圧力の正確な調整を可能にし、さまざまな素材に最適な接着条件を保証します。この精度は、ラミネートの完全性と品質を維持するために非常に重要です。
  • 多彩な加熱オプション:プラテンは、電気ヒーター、スチーム、またはホットオイルを使用して加熱することができ、さまざまな材料や用途の加熱要件に柔軟に対応します。この汎用性により、幅広い産業ニーズに対応できます。
  • 内部冷却システム:迅速な加工を必要とするアプリケーションのために、プラテンは内部冷却されています。この機能により、冷却時間が大幅に短縮され、プレス全体の生産性が向上します。
  • 真空環境:エアポケットや汚染物質のない制御された環境を必要とする用途に最適です。この真空設定は、デリケートな素材や高精度の製品に特に有効です。
  • 幅広い用途:直線や曲線の単板パネルから、炭素繊維加工や真空注入まで、真空ラミネーションプレスは多くの作業に対応できます。そのため、高度なラミネーション工程を必要とする業界にとって、非常に貴重なツールとなっています。

詳細と部品

500℃真空ラミネーションプレス500℃真空ラミネーションプレス

500℃真空ラミネーションプレスの詳細

真空ラミネーションプレスの詳細
この真空ラミネーションプレスは、CE認証を取得した電気式真空ラミネーションヒートプレスで、最大100mm x 100mmのウェハーボンディングまたはフィルム変換用に設計されています。最高温度は500℃。使用温度は500℃、最大圧力は20トンです。

原理

真空ラミネーションプレスは、2層以上の材料を接着するために使用される油圧プレスの一種です。このプレスは、真空を使用して層間から空気を除去し、強力な結合を作成します。また、熱を利用して材料を軟化させ、接着しやすくします。

真空ラミネーションプレスは、自動車、航空宇宙、エレクトロニクス産業など、さまざまな産業で使用されています。金属、プラスチック、複合材など、さまざまな材料の接合に使用されています。

利点

  • 真空グローブボックスは、酸素に敏感な加工製品に真空でクリーンな環境を提供します。
  • 油圧プレス、電気ヒーター、真空グローブボックスの統合機能。
  • 正確な温度と圧力の制御により、最適な接合結果が得られます。
  • 電気加熱プレートにより、高温による油圧プレス構造への影響を防ぎます。
  • ウェーハボンディング、薄膜化、LCPラミネーションなど幅広い用途に対応。
  • 真空メンブレンシステムにより、光沢やテクスチャーウォッシュアウトのない加熱ラミネートを形成するため、熱に敏感な材料に最適。
  • ポッピングやバブリングなしに、深い凹部へのラミネートの形成と接着が可能。
  • 効率的で効果的なラミネーションプロセスのために複数の機能を組み合わせた多用途マシン。
外形寸法 全体:775mm(長さ)×550mm(幅)×1325mm(高さ)
構造
  • 135mm×135mmのフラットヒーティングプラテン2枚。
  • 最高使用温度500ºC
  • 1000Wの発熱体が加熱プレートの中央に挿入され、高速加熱が可能。
  • 最大荷重135x135mm加熱プラテンの最大荷重:500℃で10トン(55kg/cm2)、常温で20トン(110kg/cm2)
  • 2枚の加熱プレートを個別に制御する2台の精密温度コントローラー
  • 30分割プログラム可能
  • 水冷ジャケットは、冷却を補助するために加熱プレートの上部と下部の両方に組み込まれています。
油圧ポンプ
  • 改造された電動油圧プレスが真空チャンバーに接続されています。
  • 2枚の加熱プレート間の可動距離:15 mm。
  • 最大圧力はデジタル圧力計で自動制御。
  • 圧力精度+/-圧力精度:±0.01 Mpa ( 0.1 kg/cm²)
  • 2枚のフラットヒーティングプレートに水冷プレートを装備。使用温度500℃。
  • 使用温度が200 ºCを超える場合は、加熱プレートを冷却するために水冷(15L/min以上)が必要です。
温度制御と圧力表示
  • 30個のプログラム可能なセグメントを持つ2つの精密温度コントローラーが、加熱プレートを個別に制御します。
  • の精度で個別に制御します。
  • 温度コントローラーは、PID自動調整機能、過熱保護機能、サーマルカップル破損保護機能を備えています。
  • 最大温度最高温度:500℃、不活性ガスまたは真空、精度±1
  • マックス。加熱速度: 2.5°C/min
  • ソフトウェアとPCインターフェースはコントローラに内蔵されており、RS232コネクタを介してPCに接続し、コンピュータで制御することができます。
  • デジタル圧力計(コントローラー)は真空チャンバーの外に設置されています。
  • 圧力は、電動油圧プレスを自動的に停止することができます希望の値に設定することができます。
真空容器
  • 電動油圧プレスとヒータープレートは真空チャンバー内に設置されます。
  • 真空チャンバーはSS304製で、サイズは525Lx480Wx450H(mm)です。
  • 真空チャンバー容量:約75リットル。
  • φ300mm真空シールヒンジ式ドア、φ150mm石英ガラス窓付で試料投入、観察が容易。
  • 真空シールにはシリコンOリングを使用。
  • 精密デジタル真空計(10E-4 torr)が真空チャンバーに設置されています。

技術パラメーター

モデル KT-VLP100 KT-VLP300 KT-VLP400
加熱プレートサイズ 100x100mm 300x300mm 400x400mm
プレート移動距離 30mm 40mm 40mm
使用圧力 加熱時30T/冷間時40T
圧力計 デジタル圧力計
加熱温度 <500℃
温度制御 PIDサーマルコントローラー付きタッチスクリーン
真空チャンバー 304ステンレス
真空ポンプ ロータリーベーン真空ポンプ
真空圧 -0.1Mpa
電源 AC110-220V、50/60Hz

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。
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Sebastian Meyer

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