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実験室用高圧管状炉

管状炉

実験室用高圧管状炉

商品番号 : KT-PTF

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1100℃
定常作業温度
1000℃
炉管直径
50 / 60 / 80 / 100 mm
加热区长度
300 / 450 / 600 / 800 mm
加热区数量
1-10 zones
额定真空压力
0.001 Pa/10E5 torr
额定正压
15 Mpa
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はじめに

高圧管状炉は、金属、ガラス、熱処理などのさまざまな産業で、制御された雰囲気下で材料を処理するために使用される特殊な装置です。抵抗加熱エレメントを採用して高温を達成し、粉末焼結や焼鈍などのプロセスに不可欠です。炉はサンプルの完全性を保証し、汚染を防ぎます。オプションの真空または変更された雰囲気設定、および正確な温度制御のための高品質加熱エレメントなどの機能を備えています。用途

KT-PTF 高圧管状炉は、さまざまな産業や研究分野で幅広い用途を持つ汎用性の高い実験装置です。この製品の主な用途分野を以下に示します。

  • 焼鈍:材料を軟化させ、加工性を改善し、内部応力を除去するために使用されます。
  • ろう付け:フィラーメタルを接合部に溶かして金属を接合するのに理想的です。
  • か焼:揮発性物質を除去するために鉱物や鉱石を処理します。
  • セラミックス:セラミック材料の焼成および焼結に不可欠です。
  • 結晶成長:特定の雰囲気下での結晶の制御された成長を促進します。
  • 焼成:セラミックおよびガラス産業で材料を硬化させるために重要です。
  • ガラス:ガラス材料の焼鈍、応力除去、および研究に使用されます。
  • グラデーション作業:組成が変化する材料の作成を可能にします。
  • 熱処理:金属および合金の機械的特性を向上させます。
  • 実験室研究:さまざまな科学実験のための制御された環境を提供します。
  • 材料試験:高温下での材料の特性と挙動をテストするために使用されます。
  • 融解:鋳造またはさらなる処理のための金属および合金の融解に理想的です。
  • 粉末:金属粉末およびセラミック粉末の処理に使用されます。

原理

高圧管状炉は、正確な抵抗加熱を使用して、制御された雰囲気または高真空条件下で動作します。高温および高圧に耐える高温ニッケル基超合金炉管を採用しています。炉の作業温度は最大1100℃に達し、作業圧力は周囲温度で15 MPa、800℃で4 MPaに達します。炉管フランジシールは固体銅Oリングを採用しており、負圧と正圧の両方に対応して耐用年数を延ばします。

詳細と部品

高圧管状炉前面1.電磁弁 2.SSフランジ 3.炉管 4.炉 5.ファン 6.圧力センサー 7.バルブ 8.真空ポート 9.ガス入口ポート 10.バルブ 11.温度コントローラー 12.圧力コントローラー 13.冷却リング 14.機械式圧力バルブ 15.圧力解放ポート
1.電磁弁 2.SSフランジ 3.炉管 4.炉 5.ファン 6.圧力センサー 7.バルブ 8.真空ポート 9.ガス入口ポート 10.バルブ 11.温度コントローラー 12.圧力コントローラー 13.冷却リング 14.機械式圧力バルブ 15.圧力解放ポート

高圧管状炉前面

特徴

  • 高圧耐性:周囲温度で最大15MPaの正圧に耐え、高圧用途と安全性の向上を可能にします。
  • 耐久性のある炉管材料:高温ニッケル基超合金で構成され、熱および化学反応に対する優れた耐性を提供し、長期的な信頼性を確保します。
  • 汎用性の高い雰囲気制御:制御雰囲気と高真空の両方の条件下で動作し、幅広い実験の可能性を可能にします。
  • 正確な圧力調整:過圧アラームおよび緊急停止機能を備えたデジタル正圧計により、正確な圧力制御と安全性が保証されます。
  • 自動圧力解放:設定圧力値に達すると炉管が自動的に圧力を解放し、過圧および潜在的な危険を防ぎます。
  • 効率的な温度制御:PIDプログラマブル温度制御は、優れた精度と安定した加熱性能を提供し、正確な温度調整を保証します。
  • リモート接続:リモート制御と集中制御をサポートし、遠隔からの便利な操作と監視を可能にします。
  • 高度なタッチスクリーンインターフェイス:PTF Proモデルは、ユーザーフレンドリーなプログラム設定とデータ分析のための7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを備えており、操作を簡素化し、アクセシビリティを向上させます。
  • 広い温度範囲:炉の温度は最大1100℃まで対応し、用途の範囲を広げ、高温プロセスを可能にします。
  • 制御雰囲気:可燃性ガスおよび複数の雰囲気の処理が可能で、さまざまな実験要件に対応する柔軟性を提供します。
  • 高度なプッシャー技術:高温用途向けのグラファイトプッシャーは、温度均一性を向上させ、エネルギー消費を削減します。
  • 正確な雰囲気制御:洗練されたガス分配技術により、炉長に沿った雰囲気露点の正確な制御が保証され、プロセス条件が最適化されます。
  • モジュラー設計:モジュラー構造により、メンテナンスと部品交換が容易になり、設置の手間とダウンタイムが最小限に抑えられます。
  • 独立した温度ゾーン:複数の独立して制御された温度ゾーンにより、正確な加熱および冷却プロファイルが可能になり、複雑なプロセス要件に対応できます。

安全上の利点

  • PTF高圧管状炉は、管内圧力が設定圧力値に達すると自動的に正圧を解放します。
  • KINTEK管状炉は、過電流保護および過熱アラーム機能を備えており、過電流が検出されると炉は自動的に電源をオフにします。
  • 炉には熱電対検出機能が内蔵されており、熱電対が破損または故障した場合は加熱を停止し、アラームを鳴らします。
  • PTF Proは、停電再起動機能をサポートしており、停電後に電源が復旧すると炉は炉の加熱プログラムを再開します。

利点

  • 高温耐性:炉管は高温ニッケル基超合金製で、最大1100℃の温度に耐えることができます。
  • 高圧耐性:炉は、周囲温度で最大15MPa、800℃で4MPaの正圧下で動作できます。
  • 汎用性の高い雰囲気制御:炉は、最大真空度10E-5 torrの制御雰囲気または高真空条件下で動作できます。
  • 自動圧力解放:正圧が設定値に達すると炉管が自動的に圧力を解放し、安全性を確保します。
  • 二重炉殻設計:強制空気を備えた二重炉殻設計により、炉の表面温度が低く保たれ、安全性と快適性が向上します。
  • 正確な温度制御:PIDプログラマブル温度制御は、優れた制御精度と安定した加熱性能を提供し、正確な温度調整を可能にします。
  • リモート制御と集中制御:炉はリモート制御と集中制御をサポートしており、便利な操作と監視が可能です。
  • ユーザーフレンドリーなインターフェイス:PTF Proモデルは、プログラム設定と履歴データ分析が容易な7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを備えており、効率的な操作とデータ管理が可能です。

技術仕様

炉モデル KT-PTF KT-PTF Pro
温度コントローラー デジタルPIDコントローラー タッチスクリーンPIDコントローラー
マルチプログラムプリセット いいえ はい
停電再起動 いいえ はい
最高温度 1100℃
定常作業温度 1000℃
炉管材質 超ニッケル基合金
炉管径 50 / 60 / 80 / 100 mm
加熱ゾーン長 300 / 450 / 600 / 800 mm
加熱ゾーン数 1〜10ゾーン
真空シールソリューション SS 304フランジ、固体銅シールリング付き
定格真空圧力 0.001Pa / 10E5 torr
定格正圧 15 MPa
チャンバー材質 日本アルミナ繊維 Al2O3
加熱エレメント Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル
温度センサー 内蔵K型熱電対
温度制御精度 ±1℃
温度均一性 ±5℃
電源 AC110-220V、50/60HZ
その他の超ニッケル基合金管サイズおよび加熱ゾーン長はカスタマイズ可能です

標準パッケージ

番号 説明 数量
1 1
2 ニッケル基超合金管 1
3 真空フランジ 2
4 管熱ブロック 2
5 管熱ブロックフック 1
6 耐熱手袋 1
7 操作マニュアル 1

オプション設定

  • 管内ガス検出・監視(H2、O2など)
  • 独立した炉温度監視・記録
  • PCリモート制御およびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
  • マスフローメーターやフロートフローメーターなどの挿入ガス供給流量制御
  • 多機能で使いやすいタッチスクリーン温度コントローラー
  • 高真空ポンプステーション設定(ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなど)

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。
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Ingrid Weiss

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Flawless operation from day one. The safety features provide immense peace of mind. An incredibly smart and well-engineered piece of equipment.

Kenji Tanaka

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