真空炉
真空アーク炉 高周波溶解炉
商品番号 : KT-VA
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 容量
- 1～200kg
- 動作電圧
- 20-40V
- 真空圧力
- 1.3-1.3x10-2
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アプリケーション
真空アーク炉は主にチタン、ニオブ、ジルコニウムなどの活性金属やタングステン、モリブデンなどの高融点金属を溶解するために使用されます。その他、鉄基、ニッケル基、コバルト基などの合金材料の溶解にも使用されます。
真空アーク炉は、高温、高速溶解、顕著な脱ガス効果が特徴で、溶融金属の耐火物汚染がなく、金属中の非金属介在物を低減できます。
真空アーク炉は、超高温金属材料、高エントロピー合金材料、母合金材料、高融点金属材料、レアメタル材料、貴金属材料の製錬と精製に学校、研究機関、機関で広く使用されています。酸素や不純物を効果的に除去できます。
技術仕様
| モデル | KT-VA1 | KT-VA5 | KT-VA25 | KT-VA200 |
| 容量(kg) | 1 | 5-15 | 25 | 200 |
| 動作電圧(V) | 20-40 | |||
| 動作電流(A) | 1000A | 3000A | 6000A | 12000A |
| 真空圧力(Pa) | 1.3-1.3x10-2 | |||
| 電極サイズ(mm) | Φ25～40×400 | Φ10-45×1200 | Φ30～60×1350 | Φ56-150x1745 |
| インゴットサイズ(mm) | Φ60×100 | Φ80×135 | Φ100×400mm | Φ200×670mm |
| 寸法 (m) | 0.8×0.35×1.8 | 3.81x3.0x5.21 | 4.43x3.33x4.93 | 7.4x3.4x6.72 |
警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
真空誘導炉とは？
真空炉って何に使うの？
CVD炉とは何ですか？
化学蒸着 (CVD) は、加熱、プラズマ励起、光放射などのさまざまなエネルギー源を使用して、気相または気固界面で気体または蒸気の化学物質を化学反応させ、反応器内に固体堆積物を形成する技術です。化学反応。簡単に言うと、2 つ以上のガス状原料が反応チャンバーに導入され、それらが互いに反応して新しい材料を形成し、それを基板表面に堆積させます。
CVD炉は、高温管状炉ユニット、ガス制御ユニット、真空ユニットを備えた1つの複合炉システムであり、複合材料の調製、マイクロエレクトロニクスプロセス、半導体オプトエレクトロニクス、太陽エネルギー利用、光ファイバー通信、超伝導体の実験と生産に広く使用されています。技術、保護コーティング分野。
真空誘導炉の主な用途は？
真空誘導溶解炉はどのように動作するのですか?
真空アーク溶解法とは何ですか?
真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか？
CVD炉はどのように動作するのですか?
CVD炉システムは、高温管状炉ユニット、反応ガス源精密制御ユニット、真空ポンプステーションおよび対応する組立部品で構成されています。
真空ポンプは反応管から空気を除去し、反応管内に不要なガスがないことを確認します。その後、管状炉が反応管を目標温度まで加熱し、反応ガス源の精密制御ユニットがさまざまなガスを導入できます。化学反応用の炉管内に設定された比率のガスが導入され、CVD 炉内で化学気相成長が形成されます。
真空誘導炉を使用する利点は何ですか？
真空誘導溶解の利点は何ですか?
VAR真空アーク再溶解(VAR)炉とは何ですか?
真空炉で使用されるガスは何ですか?
CVDプロセスで使用されるガスは何ですか?
CVD プロセスでは使用できるガス源が膨大にあり、CVD の一般的な化学反応には熱分解、光分解、還元、酸化、酸化還元が含まれるため、これらの化学反応に関与するガスを CVD プロセスで使用できます。
CVD グラフェン成長を例に挙げます。CVD プロセスで使用されるガスは CH4、H2、O2、N2 です。
真空誘導炉で処理できる材料の種類は?
真空は誘導溶解炉でどのように役立ちますか?
真空アーク溶解炉はどのように動作するのですか?
真空炉で使用される発熱体とは何ですか?
CVD装置の利点は何ですか？
- 金属膜、非金属膜、多成分合金膜など、ご要望に応じて幅広い膜の製造が可能です。同時に、GaNやBPなど他の方法では得られない高品質な結晶を作製することができます。
- 成膜速度は速く、通常は毎分数ミクロン、場合によっては毎分数百ミクロンです。液相エピタキシー（LPE）や分子線エピタキシー（MBE）など他の成膜法とは比べものにならない、均一な組成のコーティングを同時に大量に成膜することが可能です。
- 作業条件は常圧または低真空条件下で行われるため、コーティングの回折性が良好で、複雑な形状のワークピースでも均一にコーティングでき、PVD に比べてはるかに優れています。
- 反応ガス、反応生成物、基材の相互拡散により、耐摩耗性や耐腐食性の皮膜などの表面強化皮膜の作製に重要な密着強度の高い皮膜が得られます。
- 一部のフィルムは、フィルム材料の融点よりもはるかに低い温度で成長します。低温成長条件下では、反応ガスと反応炉壁およびそれらに含まれる不純物とがほとんど反応しないため、高純度で結晶性の良い膜が得られる。
- 化学気相成長法では平滑な成膜面が得られます。これは、LPE と比較して、化学気相成長 (CVD) が高飽和下で行われるため、核生成率が高く、核生成密度が高く、面内均一に分布するため、巨視的に滑らかな表面が得られます。同時に、化学蒸着では、分子（原子）の平均自由行程が LPE よりもはるかに大きいため、分子の空間分布がより均一になり、滑らかな蒸着表面の形成に役立ちます。
- 金属酸化物半導体（MOS）やその他のデバイスの製造に必要な条件である放射線ダメージが低い
真空誘導炉の真空環境はどのように材料特性を向上させるのですか?
真空誘導溶解炉とは何ですか？
PECVD とは何の略ですか?
PECVDは、プラズマを利用して反応ガスを活性化し、基板表面または表面近傍空間での化学反応を促進し、固体膜を生成する技術です。プラズマ化学蒸着技術の基本原理は、RF または DC 電場の作用下でソースガスがイオン化されてプラズマを形成し、低温プラズマがエネルギー源として使用され、適切な量の反応ガスが生成されます。を導入し、プラズマ放電を利用して反応ガスを活性化し、化学気相成長を実現します。
プラズマの発生方法により、RFプラズマ、DCプラズマ、マイクロ波プラズマCVDなどに分けられます。
CVDとPECVDの違いは何ですか?
PECVD と従来の CVD 技術の違いは、プラズマには大量の高エネルギー電子が含まれており、化学蒸着プロセスで必要な活性化エネルギーを提供できるため、反応システムのエネルギー供給モードが変化することです。プラズマ中の電子温度は 10000K と高いため、電子とガス分子の衝突により反応ガス分子の化学結合の切断と再結合が促進され、より活性な化学基が生成され、同時に反応系全体がより低い温度を維持します。
したがって、CVD プロセスと比較して、PECVD は同じ化学気相成長プロセスをより低い温度で実行できます。
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Vacuum arc furnace is a great tool for melting active metals and preparing bulk amorphous materials by vacuum suction casting.
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The vacuum induction furnace allows for the smelting of refractory metals and the production of special corrosion-resistant and heat-resistant alloys.
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Vacuum induction melting furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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Vacuum arc furnace is characterized by high temperature, high speed melting, remarkable degassing effect, and free of refractory contamination of molten metal.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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The vacuum arc furnace is mainly used to melt active metals such as titanium, niobium, zirconium and refractory metals such as tungsten and molybdenum.
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Vacuum induction melting technology and induction smelting technology have been applied in different occasions.
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The development and progress of vacuum induction furnace are mainly reflected in the gradual improvement of the overall structure of the equipment, the increasingly obvious trend of modularization and the more intelligent control system.
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Vacuum arc furnace is suitable for scientific research and small batch preparation of new vacuum metallurgy materials in universities and scientific research institutes.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of ultra-high temperature metal materials, high entropy alloy materials, parent alloy materials, refractory metal materials, rare and precious metal materials.
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The vacuum arc furnace can effectively remove oxygen and impurities.
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The vacuum induction furnace is mainly used to melt active metals, such as titanium alloy, etc.
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The vacuum induction furnace can prevent melting of metals and alloys, and react with non-metallic inclusions.
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The vacuum induction furnace can remove the harmful dissolved gases and pollutants in molten metals.
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The vacuum induction furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum arc furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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