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真空ろう付け炉

真空炉

真空ろう付け炉

商品番号 : KT-BF

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仕様
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導入

真空ろう付け炉は、母材よりも低い温度で溶けるろう材を使用して 2 つの金属を接合する金属加工プロセスであるろう付けに使用される工業炉の一種です。真空ろう付け炉は通常、強力できれいな接合が必要な高品質の用途に使用されます。

真空ろう付け炉は、炉室内を真空にして、ろう付けプロセスを妨げる可能性のある酸素やその他のガスを除去します。これにより、強力で信頼性の高い接合を促進するクリーンな環境が作成されます。真空ろう付け炉は非常に高い温度を達成することもできるため、ステンレス鋼、チタン、アルミニウムなどのさまざまな金属のろう付けが可能になります。

詳細と部品

真空ろう付け炉

アプリケーション

真空ろう付け炉は、強力で漏れのない接合を作成できるため、さまざまな業界や用途で広く使用されています。主な応用分野には次のようなものがあります。

  • 加熱および冷却アセンブリ
  • マイクロチャネル熱交換器
  • 航空機部品
  • センサー
  • 医療機器
  • 構造コンポーネント
  • その他の温熱製品

特徴

真空ろう付け炉は、その機能と顧客の価値を高める数多くの利点を提供します。

  • 卓越した温度均一性:炉の設計により、チャンバー全体で均一な加熱が保証され、一貫した正確なろう付け結果が得られます。
  • 効率的な加熱システム:この炉は、所望の温度に迅速に到達して維持する高性能加熱システムを利用しており、サイクル時間を短縮して生産性を向上させます。
  • 高度な真空システム:炉には、チャンバーから酸素やその他の汚染物質を効果的に除去する高度な真空システムが装備されており、クリーンで制御されたろう付け環境が確保されます。
  • ユーザーフレンドリーなインターフェイス:この炉は、操作と監視を簡素化し、広範なトレーニングの必要性を最小限に抑える直感的で使いやすいインターフェイスを備えています。
  • 堅牢な構造:炉は耐久性のある材料とコンポーネントで作られており、要求の厳しい実験室環境でも長寿命と信頼性を保証します。

原理

真空ろう付け炉は横型の炉本体で、炉殻、炉内張り、発熱体、炉タンク、材料トレイ、真空システム、電子制御システムで構成されています。炉殻は炭素鋼板と形鋼を溶接して作られています。高品質の断熱レンガと耐火レンガが敷き詰められ、3つのゾーンで構成されています。発熱体は鉄-クロム-アルミニウム線でできており、炉の両側と底部のワイヤーレンガ上に螺旋状に配置されています。真空系は真空ユニット、油拡散ポンプ、ルーツポンプ、メカニカルポンプ、空圧バッフルバルブ、手動バタフライバルブから構成される3段真空ポンプを使用しています。

利点

  • ボイドを最小限に抑え、優れた機械的特性を備えた高品質の接合部
  • フラックスが不要なため、潜在的な汚染やろう付け後の洗浄が不要になります。
  • 酸化とスケールが減少し、接合部がよりきれいになります
  • 正確な温度制御により、融点の異なる材料の接合が可能
  • 複雑なコンポーネントやアセンブリの結合に適しています
  • 廃棄物の発生を最小限に抑えた環境に優しいプロセス

技術仕様

定格出力100Kw
定格温度700℃
電源380V、50Hz
作業領域のサイズΦ820×1700㎜
低温極限真空6.67×10-3Pa
圧力上昇率2pa/h
温度制御精度±1℃

FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

CVD炉とは何ですか?

化学蒸着 (CVD) は、加熱、プラズマ励起、光放射などのさまざまなエネルギー源を使用して、気相または気固界面で気体または蒸気の化学物質を化学反応させ、反応器内に固体堆積物を形成する技術です。化学反応。簡単に言うと、2 つ以上のガス状原料が反応チャンバーに導入され、それらが互いに反応して新しい材料を形成し、それを基板表面に堆積させます。

CVD炉は、高温管状炉ユニット、ガス制御ユニット、真空ユニットを備えた1つの複合炉システムであり、複合材料の調製、マイクロエレクトロニクスプロセス、半導体オプトエレクトロニクス、太陽エネルギー利用、光ファイバー通信、超伝導体の実験と生産に広く使用されています。技術、保護コーティング分野。

歯科用炉とは何ですか?

歯科用オーブンとも呼ばれる歯科用炉は、クラウン、ブリッジ、インレー、アンレーなどのセラミック歯科修復物の製造に使用される装置です。炉は高温と高圧に達して、セラミック材料を硬化した最終状態に加工します。歯科用炉には、セラミック併用炉、焼結炉、グレージング炉など、さまざまな種類があります。最新の歯科用炉はマイクロプロセッサーで制御されており、プログラム可能性と最大 200 の異なるプログラムを記憶できるメモリー システムの利点があり、ユーザーはそのすべてを正確に実行できます。

ラボプレスとは何ですか?

ラボ プレス (ラボ プレスとも呼ばれます) は、医薬品開発、分光分析、爆弾熱量測定などのさまざまな用途のために、粉末材料から圧縮ペレットを作成するために使用される機械です。粉末を金型に入れ、油圧作用により圧縮して成形します。ラボ用プレスは、15 ~ 200 トンの幅広い圧力に対応でき、さまざまなサイズの金型やカスタマイズされた金型に対応できます。これらは、製薬、ラミネート、ゴムおよびプラスチック成形などの業界で、また研究開発作業、テスト、短納期、限定生産、セル製造、無駄のない製造などで一般的に使用されています。

真空ろう付けの利点は何ですか?

真空ろう付けには、従来のろう付け方法に比べて、次のようないくつかの利点があります。 - フラックスの除去により、接合部がきれいになります。 - 酸化を防止し、高品質の接合を保証します。 - 正確な温度制御により、複雑な部品の接合が可能になります。

真空ろう付けできる材料は何ですか?

真空ろう付けは、次のような幅広い材料に適しています。 - 金属: スチール、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、チタン - セラミックス: アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素 - 複合材料: カーボンファイバー、ガラスファイバー

コールドウォール真空炉とホットウォール真空炉の違いは何ですか?

コールドウォール炉では、加熱要素は真空チャンバーの外側に配置されますが、ホットウォール炉では、加熱要素はチャンバーの内側に配置されます。コールドウォール炉はより優れた温度均一性と低い運転コストを提供し、ホットウォール炉はより速い加熱速度を提供します。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

真空アーク溶解法とは何ですか?

真空アーク溶解 (VAR) は、航空宇宙、エネルギー、原子力などの産業における重要な用途向けに、化学的および機械的均質性の高い金属インゴットを製造するために使用される二次溶解プロセスです。このプロセスには、真空下で液体金属を精製し、その凝固速度を制御することが含まれます。鋳造耐火物と接触せずに反応性のチタンまたはジルコニウム合金を精製したり、鋼や超合金の介在物の清浄度を向上させるために使用されます。再溶解された円筒形インゴットの重さは数トンにもなり、VAR は特殊冶金技術業界に革命をもたらしました。

真空誘導溶解炉はどのように動作するのですか?

真空誘導溶解炉は、真空または保護雰囲気条件下で電磁誘導を利用して、酸素、窒素、水素と結合しやすい金属や合金、または酸素、窒素、水素と親和性の高い金属や合金を溶解します。炉には、処理される材料内に熱の渦電流を生成する誘導コイルで囲まれた耐火物で裏打ちされたるつぼが含まれています。炉の真空システムは溶融金属からのガスを完全に除去し、冷却システムは溶解温度の制御に貢献します。この炉は信頼性が高く、生産性が高く、組成公差が非常に近い金属を生産します。

CVD炉はどのように動作するのですか?

CVD炉システムは、高温管状炉ユニット、反応ガス源精密制御ユニット、真空ポンプステーションおよび対応する組立部品で構成されています。

真空ポンプは反応管から空気を除去し、反応管内に不要なガスがないことを確認します。その後、管状炉が反応管を目標温度まで加熱し、反応ガス源の精密制御ユニットがさまざまなガスを導入できます。化学反応用の炉管内に設定された比率のガスが導入され、CVD 炉内で化学気相成長が形成されます。

歯科用炉にはどのような種類がありますか?

さまざまな種類の歯科用炉には、セラミック炉、セラミック組み合わせ炉、焼結炉、グレージング炉などがあります。セラミック炉は従来のセラミックを処理し、セラミック複合炉はプレス可能なセラミックの処理に必要な圧力下で動作する能力を追加し、焼結炉はジルコニアの処理に必要な極端な温度に達することができ、グレージング炉は特定の汚れや釉薬を定着させるために使用されます。歯科用炉を選択するときは、診療所や研究室で使用される材料を処理でき、掃除が簡単で、適切にメンテナンスされているものを選択することが重要です。

研究室における油圧プレスの目的は何ですか?

実験室の油圧プレスは、材料の強度と耐久性をテストし、さまざまな物質に対する高圧の影響を調査し、サンプル分析用のペレットを作成するために使用されます。これは、流体圧力を使用して力を生成し、材料を圧縮または成形するために使用できる機械です。実験用油圧プレスは、より高い精度と制御を提供する産業用機械の小型版です。これらは、材料の元素組成を研究するために、FTIR 用の KBr ペレットや XRF 用の一般的なサンプル ペレットを作成するために一般的に使用されます。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

VAR真空アーク再溶解(VAR)炉とは何ですか?

VAR または真空アーク再溶解は、標準的な空気溶解、真空誘導溶解、または ESR 再溶解合金から作られたインゴットの精製と清浄度の向上に使用されるプロセスです。航空宇宙、発電、防衛、医療、原子力などの産業における鋼、超合金、チタン、ジルコニウム、およびそれらの合金に使用されています。 VAR は、電極と銅モールドの間にアークを発生させるために DC 電力を使用して、真空下で消耗電極を連続的に再溶解するプロセスです。このプロセスにより、溶存ガスが除去され、望ましくない微量元素が減少し、酸化物の清浄度が向上し、インゴットの底部から上部への指向性凝固が達成されます。

真空誘導溶解の利点は何ですか?

真空誘導溶解 (VIM) の利点には、ガスの除去、優れたプロセス制御、化学分析の厳密な制御、スラグのない溶解、および溶解保護が含まれます。 VIM は現在、金属材料を加熱するための最もエネルギー効率が高く、最速、低消費電力で環境に優しい誘導加熱技術です。この技術は、反応性元素を含む組成物の優れた再現可能な制御を提供し、スラグ保護カバーの必要性を排除し、インゴット内の偶発的な汚染や介在物の可能性を減らします。このプロセスは真空環境で行われるため、金属内部のガス不純物を除去するのに有益であり、その結果、より純粋な金属合金材料が得られます。

CVDプロセスで使用されるガスは何ですか?

CVD プロセスでは使用できるガス源が膨大にあり、CVD の一般的な化学反応には熱分解、光分解、還元、酸化、酸化還元が含まれるため、これらの化学反応に関与するガスを CVD プロセスで使用できます。

CVD グラフェン成長を例に挙げます。CVD プロセスで使用されるガスは CH4、H2、O2、N2 です。

歯科用炉の温度は何度ですか?

歯科用炉の温度は通常 600°C ~ 1600°C の範囲です。得られる焼成結果は実際の温度の精度に影響されます。異なる歯科用炉は同一のデジタル外部ディスプレイを備えている可能性がありますが、同じセラミックを同様の条件で処理すると、焼成の程度に関する異なる結果が識別される可能性があります。国際規格は、熱電対による焼成室内の温度制御の最終調整を通じて、製造元の工場に基づいた歯科用炉の最終校正間の現在存在する差異を、例えば 800°C で平準化します。

ラボ用プレスにはどのような種類がありますか?

ラボ用プレスには、手動油圧プレス、自動油圧プレスなどのさまざまな種類があります。手動油圧プレスは手動レバーを使用して圧力を加えますが、自動プレスにはプログラム可能な制御装置が装備されており、製品をより正確かつ一貫してプレスします。油圧プレスを選択するときは、特定のサンプルに必要な力の量、実験室に提供されるスペース、プレスをポンピングするのに必要なエネルギーと強度を考慮することが重要です。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。

真空アーク溶解炉はどのように動作するのですか?

真空アーク溶解炉は、電気アークを使用して真空または低圧雰囲気下で材料を溶解することによって機能します。炉は 2 つの電極を使用し、そのうちの 1 つは溶解する材料です。電極を近づけると電極間にアークが発生し、材料が溶解します。次に、炉を真空にして不純物を除去し、溶融材料を所望の形状に鋳造します。このプロセスは、航空宇宙、エレクトロニクス、生体医工学などの産業で使用される高純度の金属、合金、金属間化合物の製造に使用されます。

真空は誘導溶解炉でどのように役立ちますか?

真空条件は、溶融金属からガスを除去し、急速な酸化を防ぐのに役立つため、誘導溶解炉では非常に重要です。溶解プロセス中にガスが存在しないため、非常に近い組成公差が得られ、結果として一貫した金属が得られます。真空はまた、酸素、窒素、水素と容易に結合する金属、またはそれらと親和性の高い金属を保護する雰囲気を提供します。真空誘導溶解炉は、電磁誘導を使用して、誘導コイルで囲まれた耐火物内張りるつぼ内で金属および合金を溶解し、溶解プロセスを可能にする渦電流を生成します。

CVD装置の利点は何ですか?

  • 金属膜、非金属膜、多成分合金膜など、ご要望に応じて幅広い膜の製造が可能です。同時に、GaNやBPなど他の方法では得られない高品質な結晶を作製することができます。
  • 成膜速度は速く、通常は毎分数ミクロン、場合によっては毎分数百ミクロンです。液相エピタキシー(LPE)や分子線エピタキシー(MBE)など他の成膜法とは比べものにならない、均一な組成のコーティングを同時に大量に成膜することが可能です。
  • 作業条件は常圧または低真空条件下で行われるため、コーティングの回折性が良好で、複雑な形状のワークピースでも均一にコーティングでき、PVD に比べてはるかに優れています。
  • 反応ガス、反応生成物、基材の相互拡散により、耐摩耗性や耐腐食性の皮膜などの表面強化皮膜の作製に重要な密着強度の高い皮膜が得られます。
  • 一部のフィルムは、フィルム材料の融点よりもはるかに低い温度で成長します。低温成長条件下では、反応ガスと反応炉壁およびそれらに含まれる不純物とがほとんど反応しないため、高純度で結晶性の良い膜が得られる。
  • 化学気相成長法では平滑な成膜面が得られます。これは、LPE と比較して、化学気相成長 (CVD) が高飽和下で行われるため、核生成率が高く、核生成密度が高く、面内均一に分布するため、巨視的に滑らかな表面が得られます。同時に、化学蒸着では、分子(原子)の平均自由行程が LPE よりもはるかに大きいため、分子の空間分布がより均一になり、滑らかな蒸着表面の形成に役立ちます。
  • 金属酸化物半導体(MOS)やその他のデバイスの製造に必要な条件である放射線ダメージが低い

磁器炉の用途は何ですか?

磁器炉は歯科分野で歯科用磁器を製造するために使用されます。歯科用磁器は、クラウンやベニアなどの歯科修復物に使用される素焼きのセラミック材料です。炉はセラミック材料を十分に柔らかくなり成形できるまで加熱し、その後冷却して研磨して目的の歯のパターンを作成します。歯科用磁器炉システムには主に 2 つのタイプがあります。1 つは直接焼成またはコールドプレス焼成、もう 1 つはホットプレスまたは熱溶融焼成です。直接焼成技術は外部ソースを使用してセラミック材料を直接焼成するため、間接焼成技術よりもコスト効率が高くなります。

真空誘導溶解炉とは何ですか?

真空誘導溶解炉は、真空または保護雰囲気下で交流電磁場を使用してさまざまな材料を溶解および形成する冶金炉です。真空冶金の分野で広く使用されており、航空宇宙、エレクトロニクス、原子力産業で使用される合金や特殊鋼の製造に不可欠です。真空誘導溶解炉は、ニッケル、コバルト、鉄基超合金の熱間加工性や機械的性質の向上をはじめ、ステンレス鋼、耐熱鋼、超高張力鋼などのさまざまな材料の溶解にも使用されています。品質とパフォーマンスを保証します。

PECVD とは何の略ですか?

PECVDは、プラズマを利用して反応ガスを活性化し、基板表面または表面近傍空間での化学反応を促進し、固体膜を生成する技術です。プラズマ化学蒸着技術の基本原理は、RF または DC 電場の作用下でソースガスがイオン化されてプラズマを形成し、低温プラズマがエネルギー源として使用され、適切な量の反応ガスが生成されます。を導入し、プラズマ放電を利用して反応ガスを活性化し、化学気相成長を実現します。

プラズマの発生方法により、RFプラズマ、DCプラズマ、マイクロ波プラズマCVDなどに分けられます。

CVDとPECVDの違いは何ですか?

PECVD と従来の CVD 技術の違いは、プラズマには大量の高エネルギー電子が含まれており、化学蒸着プロセスで必要な活性化エネルギーを提供できるため、反応システムのエネルギー供給モードが変化することです。プラズマ中の電子温度は 10000K と高いため、電子とガス分子の衝突により反応ガス分子の化学結合の切断と再結合が促進され、より活性な化学基が生成され、同時に反応系全体がより低い温度を維持します。

したがって、CVD プロセスと比較して、PECVD は同じ化学気相成長プロセスをより低い温度で実行できます。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

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This vacuum brazing furnace is a game-changer for our laboratory. The speed of delivery was exceptional, and the quality of the product is top-notch.

Carlito MacAllister

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Mustafa Murat

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真空誘導溶解炉の複雑さ、構成部品、操作、利点、用途をご覧ください。これらの炉がどのように金属加工に革命をもたらし、卓越した材料特性を実現するのかをご覧ください。

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真空ホットプレス炉:総合ガイド

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真空ホットプレス炉、その構成部品、利点、および様々な産業における用途に関する深い知識を得ることができます。これらの炉がどのように材料加工に革命をもたらし、卓越した結果を達成するのかを探求してください。

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先端材料研究における真空実験炉

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工業規模の真空炉と実験用真空炉との間には、サイズ以外にもいくつかの重要な違いがあります。

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真空ホットプレス炉応用総合ガイド

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真空ホットプレス炉は、非金属材料、カーボン複合材料、セラミック材料、金属粉末材料を含む焼結実験に特に適した多用途ツールです。

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タングステン真空炉の探求:操作、用途、利点

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実験室におけるタングステン真空炉の操作、用途、利点をご覧ください。KinTekの高度な機能、制御メカニズム、高温環境でのタングステンの使用についてご紹介します。

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真空誘導溶解炉とアーク溶解炉: プロセスに適した装置の選択

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真空誘導溶解炉とアーク溶解炉の主な違いを、それぞれの利点や用途など、特定のニーズに最適な機器を選択できるように説明します。

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外部真空熱処理炉のメリットとデメリットを評価する

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当社では、外部真空熱処理炉の使用の長所と短所を評価し、メーカーが特定のプロセスにとってそれが正しい選択であるかどうかを判断できるように支援します。

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真空誘導溶解炉の溶解プロセスとメンテナンス

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