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真空歯科用ポーセリン焼結炉

歯科用炉

真空歯科用ポーセリン焼結炉

商品番号 : KT-DV10

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高気温
1200℃ max(2283°F)
真空度
1-101%
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用途

真空ポーセリン炉。プレスセラミック修復物の製作には、焼成/プレス複合炉が使用されます(プレス手順は鋳造に似ており、圧力と熱を利用してセラミックブロックを溶解し、ロストワックス鋳造用の耐火鋳型に押し込みます)。特殊な焼成チャンバーとプレスプランジャーを使用します。

KinTekポーセリン炉は、IVOCLAR、VITA、NORITAKEなどの市場にあるあらゆる種類のポーセリンパウダーに適しています。

特徴

  • 双曲線セラミック炉機能、プログラムはシングルカーブモードまたは双曲線モードに設定可能、双曲線モードはガラスセラミック結晶化のための完全な結晶化プロセスを提供します。
  • 音声プロンプト機能。
  • 高品質の温度自動調整機能により、実際の温度誤差を+ / - 1度以内に保証します。
  • 精密ステッピングモーター駆動、スムーズでスムーズな操作、ガタつきなし。
  • 石英スパイラル炉。
  • 各焼成手順の前に自動温度校正。
  • 低ノイズトレイ、プログラム可能な速度。
  • フルカラータッチスクリーン、操作が簡単。
  • 90個のカスタムプログラムと組み込みプログラム。
  • ステータス表示。

詳細と部品

真空ポーセリン炉前面図
真空ポーセリン炉前面図
真空ポーセリン炉チャンバー
真空ポーセリン炉チャンバー
真空ポンプフィルター
真空ポンプフィルター
炉で作成されたクラウン
炉で作成されたクラウン

環境条件

  • 屋内使用
  • 周囲温度:2℃~40℃
  • 相対湿度:31℃で80%
  • 最大高度:1500 m(特殊モデル:3500m)
  • 定格電圧の変動は、定格電圧のプラス/マイナス10%を超えないこと

技術仕様

加熱速度 最大200℃/分(392°F/分)
最高温度 最大1200℃(2283°F)
最高温度保持時間 2時間
真空度 1-101%
電源 100-120V 50/60HZ 230V 50/60HZ
定格電流 14.5アンペア@110V 7.0アンペア@230V
定格出力電力 最大1500w
寸法 高さ27cm x 幅36cm x 奥行き53cm
焼成チャンバー直径 9cm(3.5インチ)
正味重量 20Kg
梱包重量 23.5Kg

標準梱包

  • 1 炉
  • 1 焼成パン
  • 1 電源接続ケーブル
  • 1 取扱説明書
  • 1 焼成ラック

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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KinTek は世界中の顧客に高度なカスタムメイドのサービスと機器を提供しており、当社の専門チームワークと豊富な経験豊富なエンジニアは、ハードウェアおよびソフトウェア機器の要件に合わせてカスタマイズすることができ、お客様が独自のパーソナライズされた機器とソリューションを構築できるよう支援します。

あなたのアイデアを私たちに送っていただけませんか。当社のエンジニアがすぐに対応します。

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FAQ

歯科用炉とは何ですか?

歯科用オーブンとも呼ばれる歯科用炉は、クラウン、ブリッジ、インレー、アンレーなどのセラミック歯科修復物の製造に使用される装置です。炉は高温と高圧に達して、セラミック材料を硬化した最終状態に加工します。歯科用炉には、セラミック併用炉、焼結炉、グレージング炉など、さまざまな種類があります。最新の歯科用炉はマイクロプロセッサーで制御されており、プログラム可能性と最大 200 の異なるプログラムを記憶できるメモリー システムの利点があり、ユーザーはそのすべてを正確に実行できます。

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

歯科用炉にはどのような種類がありますか?

さまざまな種類の歯科用炉には、セラミック炉、セラミック組み合わせ炉、焼結炉、グレージング炉などがあります。セラミック炉は従来のセラミックを処理し、セラミック複合炉はプレス可能なセラミックの処理に必要な圧力下で動作する能力を追加し、焼結炉はジルコニアの処理に必要な極端な温度に達することができ、グレージング炉は特定の汚れや釉薬を定着させるために使用されます。歯科用炉を選択するときは、診療所や研究室で使用される材料を処理でき、掃除が簡単で、適切にメンテナンスされているものを選択することが重要です。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

歯科用炉の温度は何度ですか?

歯科用炉の温度は通常 600°C ~ 1600°C の範囲です。得られる焼成結果は実際の温度の精度に影響されます。異なる歯科用炉は同一のデジタル外部ディスプレイを備えている可能性がありますが、同じセラミックを同様の条件で処理すると、焼成の程度に関する異なる結果が識別される可能性があります。国際規格は、熱電対による焼成室内の温度制御の最終調整を通じて、製造元の工場に基づいた歯科用炉の最終校正間の現在存在する差異を、例えば 800°C で平準化します。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

磁器炉の用途は何ですか?

磁器炉は歯科分野で歯科用磁器を製造するために使用されます。歯科用磁器は、クラウンやベニアなどの歯科修復物に使用される素焼きのセラミック材料です。炉はセラミック材料を十分に柔らかくなり成形できるまで加熱し、その後冷却して研磨して目的の歯のパターンを作成します。歯科用磁器炉システムには主に 2 つのタイプがあります。1 つは直接焼成またはコールドプレス焼成、もう 1 つはホットプレスまたは熱溶融焼成です。直接焼成技術は外部ソースを使用してセラミック材料を直接焼成するため、間接焼成技術よりもコスト効率が高くなります。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。
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