製品 熱機器 真空炉 セラミックファイバーライナー付き真空炉
セラミックファイバーライナー付き真空炉

真空炉

セラミックファイバーライナー付き真空炉

商品番号 : KT-VF

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1200 / 1700℃
一定作業温度
1100 / 1600℃
加熱速度
0-20 ℃/min
有効体積
1-512 L
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はじめに

セラミックファイバー・ライニング真空炉は、セラミックファイバーを断熱ライナーとして使用するタイプの真空炉である。セラミックファイバーは軽量で多孔質の材料であり、断熱性に優れています。そのため、真空炉での熱損失の低減と温度均一性の向上に役立つ理想的な材料です。

セラミックファイバーライナー付き真空炉には2つの使用温度範囲があり、1つは最高1200℃です。Cr2Al2Mo2抵抗線コイル発熱体と多結晶セラミックファイバーライナーを適用する使用温度と、最高1700℃の使用温度があります。最高使用温度は1700℃で、二珪化モリブデン発熱体と多結晶セラミックファイバーライナーが使用されます。

セラミックファイバーライナー付き真空炉は、以下のような様々な用途に使用されています:

  • 真空熱処理
  • 真空ロウ付け
  • 焼結
  • 脱ガス

セラミックファイバーライナー付き真空炉の詳細

セラミックファイバーライナー付き真空炉の詳細 2

セラミックファイバーライナー付き真空炉 3

セラミックファイバーライナー付き真空炉の詳細

炉室は高密度の軽質アルミナセラミックファイバーを採用し、安定した構造、熱衝撃性能と熱安定性、良好な性能、低熱容量、低熱伝導率、従来の炭化ケイ素炉に比べて50%以上の省エネ。

用途

セラミックファイバーが内張りされた真空炉は、様々な産業分野で以下のような用途に広く使用されています:

  • 熱処理:焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし
  • ろう付け:** 真空環境下での金属部品の接合
  • 焼結:** 制御された温度と圧力の下での粉末材料の接合
  • 脱ガス:** 金属やセラミックなどの材料からガスを除去する。
  • 高温処理:** 真空炉は精密な温度制御とクリーンで安全な環境での高温処理を可能にします。

特徴

KinTekの真空炉は、精密な温度制御、優れた温度均一性、および研究室、大学、および工業炉モデルを使用するあらゆる小規模生産用途向けの幅広いアプリケーションを提供します。標準型およびカスタマイズ型の真空炉には、それぞれ次のような特長と利点があります:

  • 優れた温度精度と均一性
  • エネルギー効率の高いセラミックファイバー断熱
  • 自動シャットオフ安全機能

これらの真空炉には、従来の真空炉にはない以下のような利点があります:

  • 表面の酸化や変色がない
  • 歪みの最小化
  • フラックス不要のろう付け
  • 再現性のある品質
  • クリーン、安全、静かで効率的

原理

セラミックファイバーライニング付き真空炉は、抵抗線または二珪化モリブデン製の発熱体を使用して炉室を加熱します。セラミックファイバーライニングは炉室を断熱し、熱損失を最小限に抑えます。炉には真空ポンプが装備され、炉室内の空気を排出して真空環境を作り出します。この真空環境は被加熱物の酸化を防ぎ、正確な温度制御を可能にします。炉には炉室の温度を調節する温度制御装置も装備されています。

利点

  • 表面の酸化や変色がない真空環境のため酸素がワークに到達せず、酸化や変色が生じません。
  • 歪みが少ない: 均一な加熱・冷却速度により、熱応力が最小限に抑えられ、歪みが減少します。
  • フラックスフリーろう付け:真空炉ではフラックスレスろう付けが可能なため、ろう付け後の洗浄が不要です。
  • 再現性のある品質制御された雰囲気と精密な温度制御により、一貫した再現性の高い結果が得られます。
  • クリーンで安全、静かで効率的:真空炉は密閉された環境で作動するため、騒音や排気ガスが最小限に抑えられます。また、熱損失が減少するため、エネルギー効率が向上します。
  • 優れた断熱性:多結晶セラミックファイバー製ライナーは優れた断熱性を発揮し、熱損失が減少してエネルギーが節約されます。
  • 優れた温度均一性:セラミックファイバー・ライニングは炉室全体の温度分布を均一にします。
  • 高真空性能:最大6*10-3Paの真空度により、ガスや汚染物質の効果的な除去を保証します。
  • 優れた真空圧維持性能:**低真空圧上昇率(0.67Pa/h)により、安定した真空環境を維持します。
  • PIDプログラマブルマイクロプロセッサ温度制御システム:正確な温度制御により、正確で信頼性の高い加熱を実現します。
  • セーフティインターロックシステム:ドア開閉、温度過昇、センサー異常の場合、自動電源遮断で安全運転を保証します。

真空炉の安全性

  • Kindle Tech 真空炉は電流保護、温度アラーム機能、炉の電源を自動的にオフにします。
  • 炉は熱カップルの検出機能で造られ、炉は壊れるか、または検出される失敗一度暖房および警報であることを止めます
  • 電源異常の再始動機能、炉は力が失敗の後で入っているとき炉の暖房プログラムを再開します

技術仕様

炉モデル KT-VF12/KT-VF17
最高温度 1200/1700℃
一定作業温度 1100/1600℃
チャンバー材質 セラミック多結晶ファイバー
発熱体 Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル/二珪化モリブデン
加熱速度 0~20℃/分
温度センサー K/Bタイプサーマルカップル内蔵
温度コントローラー PLC付きタッチスクリーンPIDコントローラー
温度制御精度 ±1℃
温度均一性 ±5℃
電源 AC110-440V、50/60Hz
標準チャンバーサイズ
チャンバーサイズ(mm) 有効容積 (L) チャンバーサイズ(mm) 有効容積(L)
100x100x100 1 400x400x500 80
150x150x200 4.5 500x500x600 125
200x200x300 12 600x600x700 253
300x300x400 36 800x800x800 512
顧客の設計サイズおよび容積は受け入れられる

オプション設定

  • 独立した炉温度のモニタリングと記録
  • RS 485通信ポートによるPCからの遠隔操作およびデータ出力
  • 温度制御装置と連動する空気圧式真空バルブ (オプション)
  • タッチスクリーンの温度制御装置にはオペレーターが使いやすい多彩な機能を装備
  • 炉シェルジャケット冷却システム用冷水循環冷却装置

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

真空炉って何に使うの?

真空炉は、汚染のない制御された環境で材料を高温処理するために使用されます。製品の周囲を真空にすることで動作し、対流による製品の酸化や熱損失を防ぎます。この炉は通常、1200 °C 未満の温度で合金鋼を熱処理するために使用されます。高温真空炉は最高 3000°C の温度に達することができ、焼結、ろう付け、アニーリング、熱処理などの工業プロセスに高い一貫性と低汚染性で使用されます。ワークピース全体にわたって均一な加熱を達成できることは、高温真空炉を使用する主な利点です。

真空炉ではどのようなプロセスが行われるのでしょうか?

真空炉のプロセスでは、部品をチャンバーにロードし、真空ポンプを利用してチャンバー内を真空にします。次のステップでは、温度制御を使用して部品を加熱します。温度は華氏 1,500 ~ 5,400 度に達します。このプロセスにより酸化や汚染の可能性が排除され、より高純度の最終製品が得られます。加熱後、部品は冷却され、真空炉から取り出される前に仕上げられます。炉は、真空システム、炉シェル、電気発熱体、温度制御、電源システム、搬送装置などのさまざまなコンポーネントで構成されています。

真空ホットプレス炉の目的は何ですか?

真空ホットプレス炉の目的は、真空または大気、ホットプレス、高温焼結を組み合わせて新しい材料を形成することです。透明セラミックス、工業用セラミックス、金属などの真空焼結や、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料の高温焼結に使用できます。さらに、主成分の融点より低い温度での粉末や成形体の熱処理にも使用でき、粒子間の冶金学的結合により強度が向上します。完成した材料は、機械的、電子的、熱的特性が向上しています。

真空炉で使用されるガスは何ですか?

真空炉では用途に応じてさまざまなガスを使用できます。一般に、真空炉は、アルゴン、窒素、水素、一酸化炭素、ヘリウムなどのガスまたは混合物を使用できます。これらのガスを使用すると、真空はんだ付けやろう付け、真空アニーリング、焼結などのさまざまな用途に必要な、ほとんど非酸化性の規定された雰囲気での熱処理が可能になります。さらに、空気組成とは異なる定義された酸素濃度で作業することも可能です。

真空ホットプレス炉のメリットは何ですか?

真空ホットプレス炉の利点には、金属およびセラミック粉末のホットプレス焼結、セラミック/金属複合材料および金属間化合物の調製、拡散溶接プロセスの研究開発、および酸素/窒素/ホウ素/炭素化合物の緻密化ホットプレス焼結が含まれます。それらの混合物。真空または大気下での高温および高圧は、原材料の固体粒子を結合し、空隙や粒界を減少させ、完成した材料の機械的、電子的、および熱的特性を向上させるのに役立ちます。

真空炉で使用される発熱体とは何ですか?

真空炉の発熱体は、その適切な機能にとって非常に重要であり、最高動作温度、電力負荷、分圧およびクエンチガス、期待寿命などの要因に依存します。真空炉は、ステンレス鋼、ニッケルクロム、モリブデン、タングステン、タンタルなどの高温金属合金、またはグラファイトや炭化ケイ素などの非金属材料を含む、さまざまな材料で作られた電気抵抗要素によって加熱されます。発熱体の材料の選択は、寿命、信頼性、効率、そして最終的にはプロセスの結果を最大化する上で重要です。

真空ホットプレス炉はどのように動作するのですか?

真空ホットプレス炉は、真空、ホットプレス、高温焼結を組み合わせた装置です。真空または大気下で材料を加熱および加圧して、機械的、電子的、および熱的特性が向上したコンパクトな多結晶焼結体を作成します。炉は炉体、加熱・保温、温度測定系、真空系、給気系、水冷系、制御系、圧力系などのシステムから構成されています。発熱体にはグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、誘導加熱などがあり、油圧加圧には一方向加圧または双方向加圧を使用できます。
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