実験室用ラピッドサーマルプロセス（RTP）石英管炉

はじめに

RTP（ラピッドサーマルプロセス）チューブファーネスは、目標温度にほぼ瞬時に到達するように設計されています。化学気相成長（CVD）、特に大面積グラフェンの成長に広く使用されています。さまざまな真空ポンプステーションで構成可能で、制御雰囲気と高真空環境の両方で効果的に動作します。

このファーネスは、最大100℃/秒の加熱速度と110℃/秒の冷却速度で卓越した性能を発揮します。チューブフランジ用のスライドレール機構を備えており、加熱ゾーンからリアクターチューブを簡単に引き出すことができます（高速冷却を容易にします）。さらに、温度センサーはサンプルホルダーに直接接触するように配置されており、実際のサンプルの正確な温度監視と制御を保証します。

詳細と部品

用途

• RTPラピッドヒーティングチューブファーネスは、高速加熱および冷却用途向けに設計されています。以下の分野で広く使用されています。
• グラフェン成長：RTPファーネスは、制御された雰囲気下でグラフェン前駆体を高温に加熱し、グラフェン成長を促進するために使用されます。
• 温度センサーの校正：RTPファーネスは、正確に制御された温度にさらすことによって温度センサーを校正するために使用できます。
• 材料試験：RTPファーネスは、融点や熱伝導率などの材料の熱特性を試験するために使用できます。
• 熱処理：RTPファーネスは、強度や硬度などの特性を改善するために材料を熱処理するために使用できます。
• 焼なまし：RTPファーネスは、材料を高温に加熱してからゆっくり冷却して応力を除去し、延性を改善する焼なましに使用できます。
• ろう付け：RTPファーネスは、材料をろう付けするために使用できます。これは、材料を高温に加熱し、ろう材を溶かして接合することを含みます。
• か焼：RTPファーネスは、材料を高温に加熱して揮発性成分を追い出すか焼に使用できます。
• 洗浄：RTPファーネスは、材料を高温に加熱して汚染物質を除去することによって洗浄するために使用できます。
• 結晶成長：RTPファーネスは、材料を高温に加熱してからゆっくり冷却して結晶を形成させることにより、結晶を成長させるために使用できます。
• 焼成：RTPファーネスは、材料を高温に加熱して硬化および強化する焼成に使用できます。
• ガラス：RTPファーネスは、ガラスを溶融および焼なましするために使用できます。これは、ガラスを高温に加熱してからゆっくり冷却して応力を除去し、強度を改善することを含みます。
• 勾配作業：RTPファーネスは、温度勾配を作成するために使用できます。これは、材料に対する温度の影響を研究するために使用できます。
• 実験室研究：RTPファーネスは、材料科学、化学、物理学などのさまざまな実験室研究用途で使用されます。
• 融解：RTPファーネスは、金属やプラスチックなどの材料を融解するために使用できます。
• 粉末：RTPファーネスは、粉末を加熱および冷却するために使用でき、新しい材料を作成したり、既存の材料の特性を変更したりするために使用できます。

特徴

RTPラピッドヒーティングチューブファーネスは、さまざまな用途に対応できる汎用性の高い強力なツールです。主な特徴と利点を以下に示します。

• 高速加熱と冷却：RTPファーネスは、わずか1分で1000℃まで加熱でき、最大110℃/秒の速度で冷却できます。これにより、正確な温度制御と高速処理時間が不可欠なアプリケーションに最適です。
• 正確な温度制御：ファーネスの温度センサーはサンプルに接触するように配置されており、正確で信頼性の高い温度制御を保証します。これは、半導体やその他の電子デバイスの製造など、正確な温度制御が不可欠なアプリケーションにとって重要です。
• 制御雰囲気環境：RTPファーネスには、制御された雰囲気環境を作成するための真空ポンプステーションを装備できます。これは、酸素やその他のガスの存在がプロセスに悪影響を与える可能性のあるアプリケーションに最適です。
• 使いやすい：RTPファーネスは、セットアップと操作が簡単で、ユーザーフレンドリーなインターフェイスとさまざまなプログラム可能な設定を備えています。これにより、経験豊富なユーザーと初心者ユーザーの両方にとって優れた選択肢となります。

原理

RTPヒーティングチューブファーネスの原理：RTPチューブファーネスは、非常に短時間で高い目標温度に到達するように設計されています。ファーネス本体をチューブと断熱チャンバーからスライドさせることで、高速冷却を実現します。その後、強制空冷により、周囲環境での熱放散が加速されます。

利点

• 最大加熱速度は1秒あたり100℃までで、1000℃の高温に到達するのにわずか1分しかかかりません
• 最大冷却速度は1秒あたり110℃までで、高速循環気流を制御することで、サンプルを非常に高速で冷却します
• ファーネスチューブフランジを保持するためのスライドレールがあり、ファーネス加熱断熱チャンバーからチューブを引き出すのに便利です
• サンプルホルダーに接触するように配置された温度センサーにより、より正確な温度制御と指示が可能です
• 二重ファーネスシェル設計、内外シェル間の強制気流により、ファーネス表面の低温を維持します
• PIDプログラム可能な温度制御、優れた制御精度と安定した加熱性能、リモート制御と集中制御をサポート
• RTP Proは、7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを採用しており、より使いやすいプログラム設定と履歴データ分析、さまざまなプログラムレシピを保存して選択できます

安全上の利点

• KINTEKチューブファーネスは、過電流保護および過熱アラーム機能を備えており、過電流が検出されるとファーネスは自動的に電源をオフにします
• ファーネスは熱電対検出機能を内蔵しており、熱電対の断線または故障が検出されると、ファーネスは加熱を停止し、アラームが鳴ります
• RTP Proは、停電再起動機能をサポートしており、停電後に電源が復旧すると、ファーネスはファーネス加熱プログラムを再開します

技術仕様

標準パッケージ

オプション設定

• 管内ガス検出・監視（H2、O2など）
• 独立したファーネス温度監視・記録
• PCリモート制御およびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
• マスフローメーターやフロートフローメーターなどの管内ガス供給流量制御
• 多機能で使いやすい機能を持つタッチスクリーン温度コントローラー
• 高真空ポンプステーションセットアップ（ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなど）

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

あなたのために設計

KinTek は世界中の顧客に高度なカスタムメイドのサービスと機器を提供しており、当社の専門チームワークと豊富な経験豊富なエンジニアは、ハードウェアおよびソフトウェア機器の要件に合わせてカスタマイズすることができ、お客様が独自のパーソナライズされた機器とソリューションを構築できるよう支援します。

あなたのアイデアを私たちに送っていただけませんか。当社のエンジニアがすぐに対応します。

業界リーダーからの信頼