管状炉は、化学でさまざまな無機および有機化合物の合成に使用される電気加熱装置です。これは加熱マントルで囲まれた円筒形のチューブで構成されており、石英、アルミナ、グラファイト、金属などの材料で作られています。管状炉はコントロールパネルで制御でき、高温に達することができます。エージング、アニーリング、コーティング、乾燥、硬化、焼成、脱ガス、焼結、はんだ付け、焼き戻し、熱電対校正などの幅広いプロセスに使用されます。管状炉は、方向と管の形状に基づいて分類することもできます。
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管状炉は、化学でさまざまな無機および有機化合物の合成に使用される電気加熱装置です。これは加熱マントルで囲まれた円筒形のチューブで構成されており、石英、アルミナ、グラファイト、金属などの材料で作られています。管状炉はコントロールパネルで制御でき、高温に達することができます。エージング、アニーリング、コーティング、乾燥、硬化、焼成、脱ガス、焼結、はんだ付け、焼き戻し、熱電対校正などの幅広いプロセスに使用されます。管状炉は、方向と管の形状に基づいて分類することもできます。
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
当社は、予算に関係なく、お客様の期待を超える最高の管状炉ソリューションをご用意しています。当社の広範なポートフォリオは、さまざまなニーズに適したさまざまな標準ソリューションを提供しており、当社のオーダーメイド設計サービスは、ほぼすべての固有の顧客要件を満たすことができます。当社の管状炉は、シングルまたはマルチゾーン、水平/垂直、分割および回転モデル、連続またはバッチ回転式管状炉など、さまざまなモデルで利用できます。
KINTEK 管状炉の利点
当社の管状炉は、お客様の実験装置のニーズに最適です。豊富な製品ラインにより、標準ソリューションを手頃な価格で提供します。そのユニークな機能は、お客様の特定の要件に応えるカスタム設計サービスです。この炉は、シングルまたはマルチゾーン、水平/垂直、分割および回転、連続またはバッチ回転管状炉など、さまざまなモデルで利用できます。 2 つ以上の加熱ゾーンが装備されており、最大 1800°C の温度を生成できます。当社の管状炉は、比較的小さな作業スペースや、独立して制御される複数のゾーンなどの機能を必要とする用途に最適です。
実験用管状炉は、古典的な外部加熱高温管状炉の 1 つであり、ホットウォール加熱炉とも呼ばれます。
異なる使用温度に応じて、炉管の材質は通常、透明な石英管、高純度のアルミナセラミック管、高強度金属合金管になります。
さまざまな熱研究目的を満たすために、管状炉は複数の加熱ゾーンを備えて設計でき、管状作業室内の温度勾配を柔軟に制御できます。炉心管は、制御された雰囲気作業環境または高真空作業環境で動作できます。
管状炉の加熱要素は円筒状キャビティの周囲に配置されます。炉は間接的な熱放射によってのみ円筒状キャビティ内のサンプルを加熱できます。これは、管状炉によりサンプル材料が炉の加熱要素や断熱材と接触するのを防ぐことができるため、管状炉はきれいな隔離された炉を作成します。チャンバーを加熱し、サンプル材料が炉によって汚染されるリスクを軽減します。
管状炉は主に冶金、ガラス、熱処理、リチウムアノードおよびカソード材料、新エネルギー、研磨材およびその他の産業で使用され、特定の温度条件下で材料を測定するための専門的な機器です。
シンプルな構造、簡単な操作、簡単な制御、連続生産が特徴の管状炉です。
管状炉は、CVD (化学気相成長) およびプラズマ強化 CVD システムにも広く適用されています。
管状炉はさまざまな機械的機能をスムーズに動作させることができるため、さまざまな実験目的に応じてさまざまなタイプの管状炉のバリエーションがあり、代表的な炉炉は次のとおりです。
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