油圧ラボプレスは、材料研究室、薬局、触媒反応、セラミック、電子産業で広く使用されており、設置面積が小さいため、持ち運びや移動が簡単で、真空内で作業できる、サンプル調製用の高効率装置の1つです。真空環境下での処理を行うためのグローブボックス。
12-24T モデルのマシン出力サンプルは、赤外分光計の要件を満たすことができます。
24-40T モデルのマシン出力サンプルは、蛍光分光計の要件を満たすことができます。
カテゴリを切り替える
ラボプレス
商品番号 : PMS
電気ラボ冷間静水圧プレス (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T
商品番号 : PCIE
商品番号 : PMAS
商品番号 : PMAC
商品番号 : RPM-07
商品番号 : RPM-05
商品番号 : KT-BF
商品番号 : KT-VTW
商品番号 : KT-VPS
商品番号 : PCVM
商品番号 : KT-VTP
商品番号 : PCSM
商品番号 : KT-CRTF
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
商品番号 : KT-VHP
油圧によって熱くする実験室の餌の出版物 24T/30T/60T
商品番号 : PCH
商品番号 : PCV
商品番号 : PCG
割れた電気実験室の餌出版物 40T/65T/100T/150T/200T
商品番号 : PCES
自動実験室の餌の出版物機械 20T/30T/40T/60T/100T
商品番号 : PCEA
XRF & KBR 20T / 30T / 40T / 60T 用電動油圧プレス
商品番号 : PCPE
商品番号 : KH-01
手動ラボ油圧プレス 12T / 15T / 24T / 30T / 40T
商品番号 : PCMP
商品番号 : PCKBR
商品番号 : PMID
当社は、お客様の研究室のニーズを満たす最高のラボ プレス ソリューションをご用意しています。標準ソリューションが必要な場合でも、オーダーメイドの設計が必要な場合でも、当社の広範なポートフォリオにより、ほぼすべての顧客の要件を満たすことができます。当社の実験用印刷機は、研究開発作業、テスト、短期間の生産、教育目的に最適です。紛れもない精度と耐久性を備え、長期にわたって一貫した結果が得られます。
応用
実験室用油圧プレスは以下の分野で広く使用されています。
- 材料研究室
- 薬局
- 触媒反応
- セラミックス
- 電子産業
- 分光法
ラボ用油圧プレスは、真空グローブボックス内で真空環境下での加工が可能です。サンプルのプレスから圧力測定まで、さまざまな作業に使用できる多用途ツールです。
ラボプレスの利点
- 精度と精度: ラボ用プレスは、正確で正確な結果が得られるため、科学者や研究者に好まれています。これらは、研究、テスト、および限定された生産アプリケーションの厳しい要求を満たします。
- 耐久性: ラボ用プレスの耐久性により、ラボでの寿命が長くなり、一貫した長期にわたる結果が得られます。
- プログラム可能な制御: ラボ用プレスの設計と製造にはプログラム可能な制御が含まれており、ユーザーは特定の要件に従ってより正確に、一貫して製品をプレスできるようになります。
- カスタマイズ可能: 一部のラボ用プレスは、さまざまなサイズの金型やカスタマイズされた金型に幅広く対応できます。
- 幅広い用途: ラボ用プレスは、製薬、ラミネート、ゴムおよびプラスチック成形、研究開発作業、テスト、短納期、限定生産、セル製造、リーン製造、大学での教育および研究目的など、さまざまな業界で使用されています。
研究室用油圧プレスのいくつかのオプション
ラボ用プレスは通常、特定のプロセスに合わせてカスタマイズするとともに、さまざまな範囲の温度、圧力、プラテン サイズを備えたいくつかのオプションを提供します。
ラボプレスの選び方
実験室環境ではスペースが限られていることが多いため、印刷機は利用可能なスペースに収まるように設計する必要があります。印刷機は、使いやすく、掃除しやすいように設計されている必要もあります。機器の安全だけでなく、オペレータの安全も考慮する必要があります。
Kindle Tech では、ラボ用印刷機の選択方法を検討できるように、これらの条件のいくつかをまとめました。
- 必要なサンプルの形状とサイズ
- サンプルにどれくらいの荷重や力を加える必要がありますか?
- 研究室の規模要件
- 必要な負荷までプレス機をポンピングするにはどのくらいの強度またはエネルギー (仕事) が必要ですか?
- ラボプレスの動力システムは手動、空気圧、電気のいずれかを選択しますか？
- 電気の使用と安全性
- ラボ用プレス機を移動する必要がありますか?
- 必要な機能の費用はいくらですか?また、オプション機能の費用にいくら追加されますか?
FAQ
ラボプレスとは何ですか?
ラボ プレス (ラボ プレスとも呼ばれます) は、医薬品開発、分光分析、爆弾熱量測定などのさまざまな用途のために、粉末材料から圧縮ペレットを作成するために使用される機械です。粉末を金型に入れ、油圧作用により圧縮して成形します。ラボ用プレスは、15 ～ 200 トンの幅広い圧力に対応でき、さまざまなサイズの金型やカスタマイズされた金型に対応できます。これらは、製薬、ラミネート、ゴムおよびプラスチック成形などの業界で、また研究開発作業、テスト、短納期、限定生産、セル製造、無駄のない製造などで一般的に使用されています。
研究室における油圧プレスの目的は何ですか?
実験室の油圧プレスは、材料の強度と耐久性をテストし、さまざまな物質に対する高圧の影響を調査し、サンプル分析用のペレットを作成するために使用されます。これは、流体圧力を使用して力を生成し、材料を圧縮または成形するために使用できる機械です。実験用油圧プレスは、より高い精度と制御を提供する産業用機械の小型版です。これらは、材料の元素組成を研究するために、FTIR 用の KBr ペレットや XRF 用の一般的なサンプル ペレットを作成するために一般的に使用されます。
ラボ用プレスにはどのような種類がありますか?
ラボ用プレスには、手動油圧プレス、自動油圧プレスなどのさまざまな種類があります。手動油圧プレスは手動レバーを使用して圧力を加えますが、自動プレスにはプログラム可能な制御装置が装備されており、製品をより正確かつ一貫してプレスします。油圧プレスを選択するときは、特定のサンプルに必要な力の量、実験室に提供されるスペース、プレスをポンピングするのに必要なエネルギーと強度を考慮することが重要です。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連記事
赤外分光のための6つの試料前処理技術
赤外分光分析のための様々な試料調製法の概要。
続きを読む
その場赤外分光法：原理、試料条件、試料調製法
in situ赤外分光法の原理、試料要件、前処理法の概要。
続きを読む
マグネトロンスパッタ薄膜の密着性に影響する因子
マグネトロンスパッタリング技術によって作製された薄膜の接着性に影響を与える主要因を詳細に分析。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングターゲット中毒の理解と予防
マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットの被毒現象、その原因、影響、予防策について解説。
続きを読む
各種電源がスパッタ・フィルムのモルフォロジーに与える影響
この記事では、電源の違いがスパッタ膜の形態にどのような影響を与えるかについて、DC、PDC、RF電源に焦点を当てて説明する。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングにおけるセラミックターゲット中心領域の激しいアブレーションの解析
本稿では、マグネトロンスパッタリングでセラミックターゲットの中心領域が激しくアブレーションする原因と解決策について述べる。
続きを読む
スパッタフィルム層の剥離強度の測定
スパッタフィルム層の剥離強度を評価するための定義、測定方法、影響因子、装置に関する詳細なガイド。
続きを読む
マグネトロンスパッタリング成膜における膜厚公差の制御
最適な材料性能を得るためのマグネトロンスパッタリングコーティングにおける膜厚公差を確保する方法について説明する。
続きを読む
電子ビーム蒸着コーティング：利点、欠点、および応用
電子ビーム蒸着コーティングの長所と短所、そして産業における様々な用途について詳しく解説。
続きを読む
PVDコーティングプロセスの包括的な概要
PVDコーティングプロセスの原理、種類、ガスアプリケーション、実用的な使用法について詳しく解説。
続きを読む
薄膜システム設計：原理、考察、実用的アプリケーション
薄膜システムの設計原理、技術的考察、様々な分野での実用的応用を徹底的に探求する。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングの問題点：グローは発生するが成膜されない理由
マグネトロンスパッタリングでグローが発生するにもかかわらず成膜されない要因を分析。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングの均一性に影響する要因
装置パラメータ、スパッタリングパワー、ガス圧、磁場構成、基板特性など、マグネトロンスパッタリングにおける薄膜成膜の均一性に影響を与える主な要因について解説。
続きを読む
真空コーティング材料の選択：主な要因と考慮事項
用途、材料特性、成膜方法、経済性、基材適合性、安全性に基づいて適切な真空コーティング材料を選択するためのガイドライン。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングにおけるレニウムターゲットのグロー放電実現への挑戦
マグネトロンスパッタリングでレニウムターゲットが光らない理由を探り、最適化の提案を行う。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングプロセスにおけるスパッタリング効果に影響するパラメータ
マグネトロンスパッタリングにおけるスパッタリング効果に影響する主なパラメータ（空気圧、電力、ターゲット距離、基板タイプなど）。
続きを読む
マグネトロンスパッタ法によるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)薄膜作製時の注意事項
マグネトロンスパッタリングによるPZT膜層作製のガイドラインと注意事項。
続きを読む
マグネトロンスパッタリングにおけるバイアス電源の種類とその目的
マグネトロンスパッタリングにおけるバイアス電源の種類と、膜の密着性と密度を向上させるための役割の概要。
続きを読む
薄膜作製におけるDC、MF、RFスパッタリングの違いと用途を理解する
この記事では、薄膜作製におけるDC、MF、RFスパッタリング技術の区別と応用について説明する。
続きを読む
マグネトロンスパッタリング成膜中のターゲット材のスパーク：原因と解決策
マグネトロンスパッタリング中にターゲット材料がスパークする理由を説明し、それを防止するためのソリューションを提供。
続きを読む