知識 2種類の蛍光X線分析システムとは?(2つの主要なタイプを説明)
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 month ago

2種類の蛍光X線分析システムとは?(2つの主要なタイプを説明)

蛍光X線分析システム(XRFシステム)は、さまざまな産業において、材料の元素組成を分析するために不可欠なツールです。

蛍光X線分析装置には、主に2つのタイプがあります:エネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)と波長分散型蛍光X線分析装置(WD-XRF)です。

XRFシステムの主な2つのタイプについて説明します。

2種類の蛍光X線分析システムとは?(2つの主要なタイプを説明)

1.エネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)

エネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)は、シンプルで使いやすいことで知られています。

複数の元素から同時に信号を収集できるため、迅速な分析に適しています。

ED-XRFシステムの分解能は、通常150eV~600eVです。

このため、高精度が第一の要件ではない幅広い用途に適しています。

2.波長分散型蛍光X線分析 (WD-XRF)

波長分散型蛍光X線分析装置(WD-XRF)は、より複雑で高価です。

WD-XRFは、ゴニオメータを使用して、一度に1つの信号を異なる角度で収集します。

これにより、通常5eVから20eVという、はるかに高い分解能が可能になります。

この高い分解能により、WD-XRFシステムは、研究や高精度産業における品質管理など、詳細で精密な元素分析を必要とする用途に最適です。

どちらのタイプの蛍光X線分析システムも、セメント、金属鉱石、鉱物鉱石、石油・ガス、環境、地質学的アプリケーションを含むさまざまな産業で広く使用されています。

ED-XRFとWD-XRFのどちらを選択するかは、スピード、精度、コストの必要性など、分析の具体的な要件によって決まります。

当社の専門家にご相談ください。

KINTEK SOLUTIONの最先端の蛍光X線分析システムで、お客様のニーズに合わせた分析の精度を実感してください。

エネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)の迅速な効率性、または波長分散型蛍光X線分析装置(WD-XRF)の比類のない分解能のいずれをお求めであっても、当社の最先端技術は、お客様のラボが最高水準の精度と生産性を達成するための力となります。

今すぐKINTEK SOLUTIONをお選びいただき、分析能力を高めてください!

関連製品

自動ラボ XRF & KBR ペレットプレス 30T / 40T / 60T

自動ラボ XRF & KBR ペレットプレス 30T / 40T / 60T

KinTek 自動ラボ ペレット プレスを使用すると、高速かつ簡単に XRF サンプル ペレットを準備できます。蛍光 X 線分析のための多用途かつ正確な結果。

XRDサンプルホルダー/X線回折装置パウダースライド

XRDサンプルホルダー/X線回折装置パウダースライド

粉末 X 線回折 (XRD) は、結晶材料を特定し、その単位格子の寸法を決定するための迅速な手法です。

XRF & KBR 20T / 30T / 40T / 60T 用電動油圧プレス

XRF & KBR 20T / 30T / 40T / 60T 用電動油圧プレス

電動油圧プレスを使用してサンプルを効率的に準備します。コンパクトでポータブルなため、研究室に最適で、真空環境でも作業できます。

XRF & KBR スチールリングラボパウダーペレットプレス金型

XRF & KBR スチールリングラボパウダーペレットプレス金型

当社のスチールリングラボパウダーペレットプレスモールドを使用して、完璧な XRF サンプルを生成します。速い打錠速度とカスタマイズ可能なサイズにより、毎回正確な成形が可能です。

XRF & KBR プラスチック リング ラボ パウダー ペレット プレス金型

XRF & KBR プラスチック リング ラボ パウダー ペレット プレス金型

当社のプラスチックリングラボパウダーペレットプレスモールドを使用して、正確な XRF サンプルを取得します。速い打錠速度とカスタマイズ可能なサイズで、いつでも完璧な成形が可能です。

XRD X線回折研削盤

XRD X線回折研削盤

KT-XRD180 は、X 線回折 (XRD) 分析のサンプル前処理用に特別に開発された小型卓上多機能横型グラインダーです。

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

当社の真空溶融紡糸システムを使用して、準安定材料を簡単に開発します。アモルファスおよび微結晶材料の研究および実験作業に最適です。効果的な結果を得るには今すぐ注文してください。

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF-PECVD は、「Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition」の頭字語です。ゲルマニウムおよびシリコン基板上にDLC(ダイヤモンドライクカーボン膜)を成膜します。 3~12umの赤外線波長範囲で利用されます。

液体ガス化装置付きスライド PECVD 管状炉 PECVD 装置

液体ガス化装置付きスライド PECVD 管状炉 PECVD 装置

KT-PE12 スライド PECVD システム: 広い出力範囲、プログラム可能な温度制御、スライド システムによる高速加熱/冷却、MFC 質量流量制御および真空ポンプ。

XRF ホウ酸ラボ粉末ペレットプレス金型

XRF ホウ酸ラボ粉末ペレットプレス金型

XRF ホウ酸ラボ用パウダー ペレット プレス金型を使用して、正確な結果を取得します。蛍光X線分析用のサンプル調製に最適です。カスタムサイズも利用可能です。

MgF2フッ化マグネシウム結晶基板/窓/塩板

MgF2フッ化マグネシウム結晶基板/窓/塩板

フッ化マグネシウム (MgF2) は異方性を示す正方晶系結晶であるため、高精度のイメージングや信号伝送を行う場合には単結晶として扱うことが不可欠です。

高純度酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズに合った高品質の酸化エルビウム (Er2O3) 材料を競争力のある価格で見つけてください。さまざまな純度、形状、サイズの当社のカスタマイズされたソリューションは、独自の要件に適合します。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどをご覧ください。

フッ化エルビウム(ErF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化エルビウム(ErF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用に、さまざまな純度、形状、サイズのフッ化エルビウム (ErF3) 材料を購入します。当社の製品には、スパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などが含まれます。今すぐ閲覧してください!

乾湿両用三次元振動ふるい

乾湿両用三次元振動ふるい

KT-VD200は、実験室での乾式および湿式試料のふるい分け作業に使用できます。ふるい分け品質は20g-3kgです。KT-VD200はユニークな機械構造で、電磁式振動体を採用し、振動数は毎分3000回です。


メッセージを残す