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化学気相成長CVD装置システム チャンバースライド式 PECVD管状炉 液体気化器付き PECVDマシン

CVDおよびPECVD炉

化学気相成長CVD装置システム チャンバースライド式 PECVD管状炉 液体気化器付き PECVDマシン

商品番号 : KT-PE12

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1200 ℃
定工作温度
1100 ℃
炉管直径
60 mm
加热区长度
1x450 mm
升温速率
0-20 ℃/min
滑动距离
600mm
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はじめに

液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、幅広い薄膜堆積アプリケーション向けに設計された、多機能で高性能なシステムです。500WのRFプラズマソース、スライド式電気炉、精密なガス流量制御、および真空ステーションを備えています。このシステムは、自動プラズママッチング、高速加熱・冷却、プログラム可能な温度制御、ユーザーフレンドリーなインターフェースなどの利点を提供します。エレクトロニクス、半導体、光学など、さまざまな業界の研究および生産環境で薄膜堆積に広く使用されています。

用途

液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、以下の分野で活用されています:

  • 化学気相成長 (CVD)
  • プラズマ励起化学気相成長 (PECVD)
  • 薄膜堆積
  • 太陽電池の製造
  • 半導体プロセス
  • ナノテクノロジー
  • 材料科学
  • 研究開発

利用可能な異なる温度およびセットアップのCVDシステム

PECVD front

PECVD side

PECVD side

PECVD local

PECVD local

原理

液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、低温プラズマを使用してプロセスチャンバーのカソード(試料トレイ)にグロー放電を発生させます。グロー放電(または別の熱源)によって試料の温度が所定のレベルまで上昇します。その後、制御された量のプロセスガスが導入され、化学反応およびプラズマ反応を経て、試料の表面に固体膜が形成されます。

特徴

液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、ユーザーに多くの利点を提供します:

  • 太陽電池ウェーハの発電効率向上:革新的なグラファイトボート構造により、太陽電池の出力電力が大幅に向上します。
  • 管状PECVDセルの色差解消:この装置は、管状PECVDセルにおける色のばらつきの問題を効果的に解決します。
  • 広い出力電力範囲 (5-500W):RFプラズマ自動マッチング電源は、汎用性の高い出力電力範囲を提供し、さまざまな用途で最適なパフォーマンスを保証します。
  • 高速加熱および冷却:炉体スライドシステムにより、急速な加熱と冷却が可能になり、処理時間が短縮されます。補助強制空冷により、冷却速度がさらに加速されます。
  • 自動スライド移動:オプションのスライド移動機能により自動運転が可能になり、効率が向上し、手動介入が削減されます。
  • 精密な温度制御:PIDプログラム可能な温度制御により、正確な温度調節が保証され、利便性を高めるためのリモート制御および集中制御をサポートします。
  • 高精度MFC質量流量計制御:MFC質量流量計がソースガスを精密に制御し、安定した一貫したガス供給を保証します。
  • 多機能真空ステーション:複数のアダプティングポートを備えたステンレス製真空フランジは、さまざまな真空ポンプステーションの構成に対応し、高い真空度を保証します。
  • ユーザーフレンドリーなインターフェース:CTF Pro 7インチTFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラム設定が簡素化され、履歴データの分析が容易になります。

利点

  • RFプラズマ自動マッチング電源、5〜500Wの広い出力範囲で安定した出力
  • 高速加熱と短時間冷却のための炉体スライドシステム、補助急速冷却および自動スライド移動が利用可能
  • PIDプログラム可能な温度制御、優れた制御精度、リモート制御および集中制御をサポート
  • 高精度MFC質量流量計制御、ソースガスの予備混合および安定したガス供給速度
  • さまざまな真空ポンプステーションのセットアップに対応する、多様なアダプティングポートを備えたステンレス製真空フランジ、良好なシール性と高い真空度
  • CTF Proは7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを採用し、より使いやすいプログラム設定と履歴データ分析を実現

安全上の利点

  • Kindle Tech管状炉は、過電流保護および過熱アラーム機能を備えており、炉の電源を自動的に遮断します
  • 熱電対検出機能を内蔵しており、断線や故障が検出されると加熱を停止し、アラームが作動します
  • PE Proは停電復旧機能をサポートしており、停電後の通電時に加熱プログラムを再開します

技術仕様

炉モデル KT-PE12-60
最高温度 1200℃
常用温度 1100℃
炉管材質 高純度石英
炉管径 60mm
加熱ゾーン長 1x450mm
チャンバー材質 日本産アルミナファイバー
加熱エレメント Cr2Al2Mo2 ワイヤーコイル
昇温速度 0-20℃/min
熱電対 内蔵Kタイプ
温度コントローラー デジタルPIDコントローラー/タッチスクリーンPIDコントローラー
温度制御精度 ±1℃
スライド距離 600mm
RFプラズマユニット
出力電力 5 -500W 調整可能(安定性 ± 1%)
RF周波数 13.56 MHz(安定性 ±0.005%)
反射電力 最大350W
マッチング 自動
ノイズ <50 dB
冷却 空冷
ガス精密制御ユニット
流量計 MFC質量流量計
ガスチャンネル 4チャンネル
流量 MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
直線性 ±0.5% F.S.
再現性 ±0.2% F.S.
配管およびバルブ ステンレス鋼
最大動作圧力 0.45MPa
流量計コントローラー デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー
標準真空ユニット(オプション)
真空ポンプ ロータリーベーン真空ポンプ
ポンプ排気速度 4L/S
真空吸気口 KF25
真空計 ピラニ/抵抗シリコン真空計
定格真空圧 10Pa
高真空ユニット(オプション)
真空ポンプ ロータリーベーンポンプ + 分子ポンプ
ポンプ排気速度 4L/S + 110L/S
真空吸気口 KF25
真空計 複合真空計
定格真空圧 6x10-4Pa
上記の仕様およびセットアップはカスタマイズ可能です

標準パッケージ

No. 名称 数量
1 電気炉本体 1
2 石英管 1
3 真空フランジ 2
4 炉管断熱ブロック 2
5 断熱ブロック用フック 1
6 耐熱手袋 1
7 RFプラズマソース 1
8 精密ガス制御装置 1
9 真空ユニット 1
10 取扱説明書 1

オプション設定

  • H2、O2などの管内ガス検出およびモニタリング
  • 独立した炉内温度のモニタリングおよび記録
  • PCリモートコントロールおよびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
  • 質量流量計やフロート流量計などの不活性ガス供給流量制御
  • 多彩なオペレーターフレンドリーな機能を備えたタッチスクリーン温度コントローラー
  • ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなどの高真空ポンプステーションのセットアップ

警告

オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。

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FAQ

PECVD法とは何ですか?

PECVD (プラズマ化学気相成長) は、マイクロ電子デバイス、太陽電池、およびディスプレイ パネルに薄膜を堆積するために半導体製造で使用されるプロセスです。 PECVD では、前駆体はガス状態で反応チャンバーに導入され、プラズマ反応媒体の助けにより、CVD よりもはるかに低い温度で前駆体が解離します。 PECVD システムは、優れた膜均一性、低温処理、および高スループットを提供します。これらは幅広い用途で使用されており、高度な電子デバイスの需要が成長し続けるにつれて、半導体業界でますます重要な役割を果たすことになります。

Mpcvdとは何ですか?

MPCVD はマイクロ波プラズマ化学蒸着の略で、表面に薄膜を堆積するプロセスです。真空チャンバー、マイクロ波発生器、ガス供給システムを使用して、反応する化学物質と必要な触媒で構成されるプラズマを生成します。 MPCVD は、メタンと水素を使用してダイヤモンドの層を堆積し、ダイヤモンドシード基板上に新しいダイヤモンドを成長させるために、ANFF ネットワークで頻繁に使用されています。これは、低コストで高品質の大型ダイヤモンドを生産するための有望な技術であり、半導体およびダイヤモンド切断業界で広く使用されています。

PECVD は何に使用されますか?

PECVD (プラズマ化学気相成長) は、集積回路を製造する半導体業界だけでなく、太陽光発電、トライボロジー、光学、生物医学の分野でも広く使用されています。マイクロ電子デバイス、太陽電池、ディスプレイ パネル用の薄膜を堆積するために使用されます。 PECVD は、一般的な CVD 技術だけでは作成できない独自の化合物と膜、および化学的および熱的安定性を備えた高い耐溶剤性と耐腐食性を示す膜を生成できます。また、広い表面上で均質な有機および無機ポリマーを製造したり、トライボロジー用途向けのダイヤモンド状カーボン (DLC) を製造したりするためにも使用されます。

Mpcvdマシンとは何ですか?

MPCVD (マイクロ波プラズマ化学蒸着) 装置は、高品質のダイヤモンド膜を成長させるために使用される実験装置です。炭素含有ガスとマイクロ波プラズマを使用してダイヤモンド基板上にプラズマ ボールを生成し、それを特定の温度に加熱します。プラズマボールはキャビティ壁に接触しないため、ダイヤモンドの成長プロセスに不純物が含まれず、ダイヤモンドの品質が向上します。 MPCVD システムは、真空チャンバー、マイクロ波発生器、チャンバーへのガスの流れを制御するガス供給システムで構成されます。

PECVD の利点は何ですか?

PECVD の主な利点は、より低い堆積温度で動作できること、凹凸のある表面での適合性とステップ カバレッジの向上、薄膜プロセスのより厳密な制御、および高い堆積速度です。 PECVD を使用すると、従来の CVD 温度ではコーティングされるデバイスや基板に損傷を与える可能性がある状況でも適用できます。 PECVD は、より低い温度で動作することにより、薄膜層間の応力を低減し、高効率の電気的性能と非常に高い基準での接合を可能にします。

Mpcvd の利点は何ですか?

MPCVD には、より高い純度、より少ないエネルギー消費、より大きなダイヤモンドを製造できるなど、他のダイヤモンド製造方法に比べていくつかの利点があります。

ALD と PECVD の違いは何ですか?

ALD は、原子層の厚さの分解能、高アスペクト比の表面とピンホールのない層の優れた均一性を可能にする薄膜堆積プロセスです。これは、自己制限反応における原子層の連続的な形成によって達成されます。一方、PECVD では、プラズマを使用して原料と 1 つ以上の揮発性前駆体を混合し、原料を化学的に相互作用させて分解します。このプロセスでは高圧で熱を使用するため、膜厚を時間/電力で管理できる、より再現性の高い膜が得られます。これらの膜はより化学量論的で密度が高く、より高品質の絶縁膜を成長させることができます。

CVD ダイヤモンドは本物ですか、それとも偽物ですか?

CVD ダイヤモンドは本物のダイヤモンドであり、偽物ではありません。これらは、化学蒸着 (CVD) と呼ばれるプロセスを通じて研究室で成長します。地表下から採掘される天然ダイヤモンドとは異なり、CVD ダイヤモンドは実験室で高度な技術を使用して作成されます。これらのダイヤモンドは 100% 炭素であり、タイプ IIa ダイヤモンドとして知られる最も純粋な形のダイヤモンドです。天然ダイヤモンドと同じ光学的、熱的、物理的、化学的特性を持っています。唯一の違いは、CVD ダイヤモンドは実験室で作成され、地球から採掘されたものではないことです。

PECVDとスパッタリングの違いは何ですか?

PECVD とスパッタリングはどちらも薄膜の堆積に使用される物理蒸着技術です。 PECVD は拡散ガス駆動のプロセスであり、スパッタリングは見通し内堆積ですが、非常に高品質の薄膜が得られます。 PECVD は、溝、壁などの凹凸のある表面をより良好にカバーし、高い適合性を実現し、独自の化合物やフィルムを生成できます。一方、スパッタリングは複数の材料の微細層の堆積に適しており、多層および多段階のコーティング システムを作成するのに理想的です。 PECVD は主に半導体産業、トライボロジー、光学、生物医学の分野で使用され、スパッタリングは主に誘電体材料とトライボロジーの用途に使用されます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

4.9 / 5

The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.

Elara Vesper

4.8 / 5

Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.

Caius Thorne

4.9 / 5

The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.

Anya Sharma

4.7 / 5

A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.

Kenji Tanaka

4.9 / 5

The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.

Soren Lindgren

4.8 / 5

Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.

Zara Petrova

4.7 / 5

Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.

Rafael Silva

4.9 / 5

The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.

Priya Kapoor

4.8 / 5

A marvel of engineering. The slide-out furnace for fast cooling is a brilliant feature that boosts our lab's overall efficiency significantly.

Lars Bjornsson

4.9 / 5

Top-tier advancement. The ability to eliminate color difference in our PECVD cells has elevated the quality of our entire product line.

Mei Lin Chen

4.7 / 5

Speed and quality in one package. The rapid processing time doesn't compromise the exceptional thin film results. Highly recommended.

Oscar Valdez

4.8 / 5

Worth every penny. The versatility for nanotechnology and materials science research is unmatched by any other system we've used.

Chloe Dubois

4.9 / 5

The attention to detail in safety and control is superb. The power failure restart function alone has saved us countless hours of work.

Akachi Nwosu

4.8 / 5

Seamless integration into our workflow. The remote control capabilities and data export make analysis and reporting incredibly efficient.

Leif Eriksen

製品データシート

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CvdおよびPecvd炉


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