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CVDおよびPECVD炉
液体ガス化装置付きスライド PECVD 管状炉 PECVD 装置
商品番号 : KT-PE12
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 最大。温度
- 1200℃
- 一定の作業温度
- 1100℃
- 炉管径
- 60mm
- 加熱ゾーンの長さ
- 1×450mm
- 加熱速度
- 0~20℃/分
- 摺動距離
- 600mm
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配送:
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アプリケーション
液体ガス化装置を備えた KT-PE12 スライド PECVD システムは、500W RF プラズマ源 1 台、TF-1200 スライド炉 1 台、MFC ガス精密制御ユニット 4 台、および標準真空ステーション 1 台で構成されます。急速加熱と急速冷却の目的を実現できる炉室レールスライドシステム。オプションの補助強制空気循環ファンを取り付けて冷却速度を速めることができます。オプションのスライド移動は自動的に動作します。最大。動作温度は最大1200℃、炉管は直径60mmの石英管です。 CH4、H2、O2、N2 のソースガスを備えた 4 チャンネル MFC 質量流量計。真空ステーションは 4L/S ロータリーベーン真空ポンプ 1 台、最大 200 kW です。真空圧力は最大10Paまで対応可能です。
利点
- RFプラズマ自動マッチングソース、広い5-500W出力電力範囲の安定した出力
- 炉室スライド方式による高速加熱・短時間冷却、補助急速冷却、自動スライド移動も可能
- PIDプログラマブル温度制御、優れた制御精度、リモート制御と集中制御をサポート
- 高精度MFC質量流量計制御、原料ガスの予混合と安定したガス供給速度
- さまざまな真空ポンプステーションの設定に対応するさまざまな適応ポートを備えたステンレス鋼製真空フランジ、優れたシール性と高真空度
- CTF Pro は 1 つの 7 インチ TFT タッチ スクリーン コントローラーを適用し、より使いやすいプログラム設定と履歴データ分析を実現します。
さまざまな温度および設定の CVD システムが利用可能
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安全上の利点
- Kindle Tech 管状炉は過電流保護と過熱警報機能を備えており、炉は自動的に電源をオフにします。
- 炉には熱電対検出機能が組み込まれており、破損または故障が検出されると炉は加熱を停止し、アラームが鳴ります。
- PE Proは停電再起動機能をサポートしており、障害後に電力が供給されると炉は炉加熱プログラムを再開します。
技術仕様
炉モデル | KT-PE12-60 |
最大。温度 | 1200℃ |
一定の作業温度 | 1100℃ |
炉管材質 | 高純度クォーツ |
炉管径 | 60mm |
加熱ゾーンの長さ | 1×450mm |
チャンバー材質 | 日本製アルミナファイバー |
発熱体 | Cr2Al2Mo2線コイル |
加熱速度 | 0~20℃/分 |
熱電対 | ビルドインKタイプ |
温度調節器 | デジタルPIDコントローラー/タッチスクリーンPIDコントローラー |
温度制御精度 | ±1℃ |
摺動距離 | 600mm |
RFプラズマユニット | |
出力電力 | 5 -500W ± 1% の安定性で調整可能 |
RF周波数 | 13.56MHz ±0.005%の安定性 |
反射力 | 最大350W |
マッチング | 自動 |
ノイズ | <50dB |
冷却 | 空冷。 |
ガス精密制御ユニット | |
流量計 | MFC質量流量計 |
ガスチャネル | 4チャンネル |
流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2:0-20SCMCH4 MFC3: 0-100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
直線性 | ±0.5%FS |
再現性 | ±0.2%FS |
パイプラインとバルブ | ステンレス鋼 |
最高使用圧力 | 0.45MPa |
流量計コントローラ | デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー |
標準真空ユニット(オプション) | |
真空ポンプ | ロータリーベーン真空ポンプ |
ポンプ流量 | 4L/S |
真空吸引ポート | KF25 |
真空計 | ピラニ/抵抗シリコン真空計 |
定格真空圧力 | 10Pa |
高真空ユニット(オプション) | |
真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ+分子ポンプ |
ポンプ流量 | 4L/S+110L/S |
真空吸引ポート | KF25 |
真空計 | 複合真空計 |
定格真空圧力 | 6×10-5Pa |
上記の仕様および設定はカスタマイズ可能です |
標準パッケージ
いいえ。 | 説明 | 量 |
1 | 炉 | 1 |
2 | 石英管 | 1 |
3 | 真空フランジ | 2 |
4 | チューブサーマルブロック | 2 |
5 | チューブサーマルブロックフック | 1 |
6 | 耐熱手袋 | 1 |
7 | RFプラズマ源 | 1 |
8 | 正確なガス制御 | 1 |
9 | バキュームユニット | 1 |
10 | 取扱説明書 | 1 |
オプションのセットアップ
- H2、O2 などのチューブ内ガスの検出と監視
- 独立した炉温度の監視と記録
- PC リモート制御およびデータエクスポート用の RS 485 通信ポート
- 質量流量計やフロート流量計などのインサートガス供給流量制御
- オペレーターに優しい多彩な機能を備えたタッチスクリーン温度コントローラー
- ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなどの高真空ポンプステーションのセットアップ
警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
PECVD法とは何ですか?
Mpcvdとは何ですか?
PECVD は何に使用されますか?
Mpcvdマシンとは何ですか?
PECVD の利点は何ですか?
Mpcvd の利点は何ですか?
ALD と PECVD の違いは何ですか?
CVD ダイヤモンドは本物ですか、それとも偽物ですか?
PECVDとスパッタリングの違いは何ですか?
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PECVD を理解する: プラズマ化学気相成長ガイド
PECVD は、酸化物、窒化物、炭化物などのさまざまな材料の堆積を可能にするため、薄膜コーティングを作成するのに有用な技術です。
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PECVD (プラズマ化学蒸着) 炉は、軟質物質の表面に薄膜を蒸着するための一般的なソリューションとなっています。
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PECVD プロセスのステップバイステップ ガイド
PECVD は、プラズマを使用して気相前駆体と基板間の化学反応を促進する化学蒸着プロセスの一種です。
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PECVD 手法を理解する
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MPCVD マシンの初心者向けガイド
MPCVD (マイクロ波プラズマ化学蒸着) は、マイクロ波によって生成されたプラズマを使用して基板上に材料の薄膜を堆積するために使用されるプロセスです。