CVDおよびPECVD炉
化学気相成長CVD装置システム チャンバースライド式 PECVD管状炉 液体気化器付き PECVDマシン
商品番号 : KT-PE12
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 最高温度
- 1200 ℃
- 定工作温度
- 1100 ℃
- 炉管直径
- 60 mm
- 加热区长度
- 1x450 mm
- 升温速率
- 0-20 ℃/min
- 滑动距离
- 600mm
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はじめに
液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、幅広い薄膜堆積アプリケーション向けに設計された、多機能で高性能なシステムです。500WのRFプラズマソース、スライド式電気炉、精密なガス流量制御、および真空ステーションを備えています。このシステムは、自動プラズママッチング、高速加熱・冷却、プログラム可能な温度制御、ユーザーフレンドリーなインターフェースなどの利点を提供します。エレクトロニクス、半導体、光学など、さまざまな業界の研究および生産環境で薄膜堆積に広く使用されています。
用途
液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、以下の分野で活用されています:
- 化学気相成長 (CVD)
- プラズマ励起化学気相成長 (PECVD)
- 薄膜堆積
- 太陽電池の製造
- 半導体プロセス
- ナノテクノロジー
- 材料科学
- 研究開発
利用可能な異なる温度およびセットアップのCVDシステム




原理
液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、低温プラズマを使用してプロセスチャンバーのカソード(試料トレイ)にグロー放電を発生させます。グロー放電(または別の熱源)によって試料の温度が所定のレベルまで上昇します。その後、制御された量のプロセスガスが導入され、化学反応およびプラズマ反応を経て、試料の表面に固体膜が形成されます。
特徴
液体気化器付きスライド式PECVD管状炉は、ユーザーに多くの利点を提供します:
- 太陽電池ウェーハの発電効率向上:革新的なグラファイトボート構造により、太陽電池の出力電力が大幅に向上します。
- 管状PECVDセルの色差解消:この装置は、管状PECVDセルにおける色のばらつきの問題を効果的に解決します。
- 広い出力電力範囲 (5-500W):RFプラズマ自動マッチング電源は、汎用性の高い出力電力範囲を提供し、さまざまな用途で最適なパフォーマンスを保証します。
- 高速加熱および冷却:炉体スライドシステムにより、急速な加熱と冷却が可能になり、処理時間が短縮されます。補助強制空冷により、冷却速度がさらに加速されます。
- 自動スライド移動:オプションのスライド移動機能により自動運転が可能になり、効率が向上し、手動介入が削減されます。
- 精密な温度制御:PIDプログラム可能な温度制御により、正確な温度調節が保証され、利便性を高めるためのリモート制御および集中制御をサポートします。
- 高精度MFC質量流量計制御:MFC質量流量計がソースガスを精密に制御し、安定した一貫したガス供給を保証します。
- 多機能真空ステーション:複数のアダプティングポートを備えたステンレス製真空フランジは、さまざまな真空ポンプステーションの構成に対応し、高い真空度を保証します。
- ユーザーフレンドリーなインターフェース:CTF Pro 7インチTFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラム設定が簡素化され、履歴データの分析が容易になります。
利点
- RFプラズマ自動マッチング電源、5〜500Wの広い出力範囲で安定した出力
- 高速加熱と短時間冷却のための炉体スライドシステム、補助急速冷却および自動スライド移動が利用可能
- PIDプログラム可能な温度制御、優れた制御精度、リモート制御および集中制御をサポート
- 高精度MFC質量流量計制御、ソースガスの予備混合および安定したガス供給速度
- さまざまな真空ポンプステーションのセットアップに対応する、多様なアダプティングポートを備えたステンレス製真空フランジ、良好なシール性と高い真空度
- CTF Proは7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを採用し、より使いやすいプログラム設定と履歴データ分析を実現
安全上の利点
- Kindle Tech管状炉は、過電流保護および過熱アラーム機能を備えており、炉の電源を自動的に遮断します
- 熱電対検出機能を内蔵しており、断線や故障が検出されると加熱を停止し、アラームが作動します
- PE Proは停電復旧機能をサポートしており、停電後の通電時に加熱プログラムを再開します
技術仕様
| 炉モデル | KT-PE12-60 |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 常用温度 | 1100℃ |
| 炉管材質 | 高純度石英 |
| 炉管径 | 60mm |
| 加熱ゾーン長 | 1x450mm |
| チャンバー材質 | 日本産アルミナファイバー |
| 加熱エレメント | Cr2Al2Mo2 ワイヤーコイル |
| 昇温速度 | 0-20℃/min |
| 熱電対 | 内蔵Kタイプ |
| 温度コントローラー | デジタルPIDコントローラー/タッチスクリーンPIDコントローラー |
| 温度制御精度 | ±1℃ |
| スライド距離 | 600mm |
| RFプラズマユニット | |
| 出力電力 | 5 -500W 調整可能(安定性 ± 1%) |
| RF周波数 | 13.56 MHz(安定性 ±0.005%) |
| 反射電力 | 最大350W |
| マッチング | 自動 |
| ノイズ | <50 dB |
| 冷却 | 空冷 |
| ガス精密制御ユニット | |
| 流量計 | MFC質量流量計 |
| ガスチャンネル | 4チャンネル |
| 流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| 直線性 | ±0.5% F.S. |
| 再現性 | ±0.2% F.S. |
| 配管およびバルブ | ステンレス鋼 |
| 最大動作圧力 | 0.45MPa |
| 流量計コントローラー | デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー |
| 標準真空ユニット(オプション) | |
| 真空ポンプ | ロータリーベーン真空ポンプ |
| ポンプ排気速度 | 4L/S |
| 真空吸気口 | KF25 |
| 真空計 | ピラニ/抵抗シリコン真空計 |
| 定格真空圧 | 10Pa |
| 高真空ユニット(オプション) | |
| 真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ + 分子ポンプ |
| ポンプ排気速度 | 4L/S + 110L/S |
| 真空吸気口 | KF25 |
| 真空計 | 複合真空計 |
| 定格真空圧 | 6x10-4Pa |
| 上記の仕様およびセットアップはカスタマイズ可能です | |
標準パッケージ
| No. | 名称 | 数量 |
| 1 | 電気炉本体 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空フランジ | 2 |
| 4 | 炉管断熱ブロック | 2 |
| 5 | 断熱ブロック用フック | 1 |
| 6 | 耐熱手袋 | 1 |
| 7 | RFプラズマソース | 1 |
| 8 | 精密ガス制御装置 | 1 |
| 9 | 真空ユニット | 1 |
| 10 | 取扱説明書 | 1 |
オプション設定
- H2、O2などの管内ガス検出およびモニタリング
- 独立した炉内温度のモニタリングおよび記録
- PCリモートコントロールおよびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
- 質量流量計やフロート流量計などの不活性ガス供給流量制御
- 多彩なオペレーターフレンドリーな機能を備えたタッチスクリーン温度コントローラー
- ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなどの高真空ポンプステーションのセットアップ
警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
PECVD法とは何ですか?
Mpcvdとは何ですか?
PECVD は何に使用されますか?
Mpcvdマシンとは何ですか?
PECVD の利点は何ですか?
Mpcvd の利点は何ですか?
ALD と PECVD の違いは何ですか?
CVD ダイヤモンドは本物ですか、それとも偽物ですか?
PECVDとスパッタリングの違いは何ですか?
4.9 / 5
The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.
4.8 / 5
Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.
4.9 / 5
The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.
4.7 / 5
A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.
4.9 / 5
The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.
4.8 / 5
Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.
4.7 / 5
Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.
4.9 / 5
The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.
4.8 / 5
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4.9 / 5
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4.7 / 5
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4.8 / 5
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4.9 / 5
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4.8 / 5
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