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手動式高温ヒートプレス

カスタマー・メイド・プレス

手動式高温ヒートプレス

商品番号 : PCHT

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


加圧プロセス
手動加圧
加圧保持時間
1秒~∞秒
シリンダーストローク
80mm
加熱温度
最高1000
ISO & CE icon

配送:

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はじめに

高温ホットプレスは、高温環境下で材料をプレス、焼結、加工するために特別に設計された機械です。数百℃から数千℃の範囲で作動し、様々な高温プロセス要件に対応します。運転中の圧力、温度、その他のパラメーターの調整と制御には、手動操作が必要です。

用途

高温ホットプレスは、以下の分野で広く使用されています:

高温合金製造:航空エンジン部品、宇宙船材料などの製造に使用されます。

粉末冶金:精密部品や複雑な構造の金属製品の製造に使用されます。

セラミック材料:高温セラミックの焼結および加工に使用される。

電子材料:半導体材料や磁性材料の製造に用いられる。

詳細と部品

手動高温ヒートプレス

設定インターフェイス
設定インターフェイス
操作インターフェース
操作インターフェイス
  • ステップ 1: データ スクリーンを選び、設定インターフェイスに入ります
  • ステップ 2: 「プログラム可能な区分の設定」を選んで下さい
  • ステップ 3: プログラムに 20 の温度上昇制御プログラムがあります、最初の区分を選んで下さい
  • ステップ4:実験要求に従って、最初のセグメントの温度と加熱速度を設定する。
  • ステップ5:複数の昇温プログラムが必要な場合は、20のセグメントを設定できます。
  • ステップ6:設定後、メインボタンを押して操作画面に戻ります。
  • ステップ7:メイン画面で "加熱開始 "を押してください。
  • ステップ8: プログラムに従って加熱が開始されます。
  • ステップ9:加熱終了後、自動的に停止します。設定が間違っている場合、例えば設定温度に指定時間内に達しない場合、装置は自動的に終了します。

原理

高温ホットプレスは、高温・高圧環境の物理的・化学的効果を利用し、材料に高圧・高温を加えることで、材料分子の再配列や結晶化を促し、材料のプレス・焼結・加工を行います。高温条件下では、材料原子はエネルギー障壁を容易に超えることができ、化学反応、結晶粒成長、材料の緻密化が促進されるため、材料の機械的特性や耐熱性が向上し、複雑な構造材料の製造が可能になる。

特徴

高温運転が可能数千℃までの超高温で安定した運転が可能。

精密な制御精密な温度制御と圧力制御システムを備え、正確で再現性の高い加工を実現。

多様な材料への適応:金属、セラミックス、複合材料など、さまざまな種類の材料に対応可能。

高性能:設備設計とプロセスの最適化により、高い生産性と高品質な製品の大量生産が可能。

技術仕様

機種 PCHT
圧力範囲 0~5.0トン
加圧プロセス 手動加圧
加圧保持時間 1秒~∞秒
シリンダーストローク 80mm
加熱温度 最高1000
金型材質 ニッケル基合金(耐高温材料)
サンプルサイズ 中型10~30mm
金型形状 中型 50×90mm
炉径 中 60mm
完全な機械サイズ 400x380x780 (LxWxH)
電源 220V 50Hz
粉末錠剤機寸法図 粉末錠剤プレスサイズ図

操作手順

1.サンプルを金型に入れる

1.サンプルを金型に入れます。

2.金型をホットプレスに入れる。

2.金型をホットプレスに入れます。

サンプルを予備プレスする。

3.試料を予備プレスする。

4.データ画面をクリックして加熱温度を設定する。

4.データ画面をクリックし、加熱温度を設定する。

5.データ画面では、最大20の加熱プログラムを設定することができ、加熱速度を調整することができます。

5.データ画面では、最大20の加熱プログラムを設定することができ、加熱速度を調整することができます。

6.メイン画面に戻り、加熱を開始する。

6.メイン画面に戻り、加熱を開始する。

7.設定温度に達したら、加圧を開始する。

7.温度が設定温度に達したら、加圧を始める。

8.サンプルを取り出す。

8.メイン画面に戻り、加熱を開始する。

FAQ

Mpcvdとは何ですか?

MPCVD はマイクロ波プラズマ化学蒸着の略で、表面に薄膜を堆積するプロセスです。真空チャンバー、マイクロ波発生器、ガス供給システムを使用して、反応する化学物質と必要な触媒で構成されるプラズマを生成します。 MPCVD は、メタンと水素を使用してダイヤモンドの層を堆積し、ダイヤモンドシード基板上に新しいダイヤモンドを成長させるために、ANFF ネットワークで頻繁に使用されています。これは、低コストで高品質の大型ダイヤモンドを生産するための有望な技術であり、半導体およびダイヤモンド切断業界で広く使用されています。

Mpcvdマシンとは何ですか?

MPCVD (マイクロ波プラズマ化学蒸着) 装置は、高品質のダイヤモンド膜を成長させるために使用される実験装置です。炭素含有ガスとマイクロ波プラズマを使用してダイヤモンド基板上にプラズマ ボールを生成し、それを特定の温度に加熱します。プラズマボールはキャビティ壁に接触しないため、ダイヤモンドの成長プロセスに不純物が含まれず、ダイヤモンドの品質が向上します。 MPCVD システムは、真空チャンバー、マイクロ波発生器、チャンバーへのガスの流れを制御するガス供給システムで構成されます。

Mpcvd の利点は何ですか?

MPCVD には、より高い純度、より少ないエネルギー消費、より大きなダイヤモンドを製造できるなど、他のダイヤモンド製造方法に比べていくつかの利点があります。

CVD ダイヤモンドは本物ですか、それとも偽物ですか?

CVD ダイヤモンドは本物のダイヤモンドであり、偽物ではありません。これらは、化学蒸着 (CVD) と呼ばれるプロセスを通じて研究室で成長します。地表下から採掘される天然ダイヤモンドとは異なり、CVD ダイヤモンドは実験室で高度な技術を使用して作成されます。これらのダイヤモンドは 100% 炭素であり、タイプ IIa ダイヤモンドとして知られる最も純粋な形のダイヤモンドです。天然ダイヤモンドと同じ光学的、熱的、物理的、化学的特性を持っています。唯一の違いは、CVD ダイヤモンドは実験室で作成され、地球から採掘されたものではないことです。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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