真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
液体ガス化装置付きスライド PECVD 管状炉 PECVD 装置
商品番号 : KT-PE12
ラボおよびダイヤモンド成長用の円筒共振器 MPCVD マシン
商品番号 : KTWB315
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ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)ガスケットは、そのユニークな化学的安定性と高温耐性により、フランジシールの分野で理想的な選択肢となっています。
Explores key technologies and preparation methods for precision ceramic components, highlighting their applications and challenges.
Exploring the use of precision ceramics in semiconductor equipment, their properties, and manufacturing processes.
精密セラミック射出成形の段階を、グラウティング、保圧、冷却、脱型に焦点を当てて詳しく見ていきます。
先端セラミック材料とその特性、その性能を高めるための様々な急速焼結技術について解説。
長所、短所、改善方法など、セラミックスの機械的特性を詳細に分析。
優れた特性を持ち、過酷な環境下での応用が可能な新しいエンジニアリング・セラミックスについて、従来の素材と比較しながら解説。
CVDダイヤモンドの卓越した特性と光学窓への応用を探る。
航空宇宙、軍事、科学研究など、極限環境におけるハイエンド用途のCVDダイヤモンド光学ウインドウの利点を探る。
防衛、航空宇宙、エネルギーなど様々な分野におけるダイヤモンド光学窓部品の開発と応用について解説。
材料、研磨、コーティングなど、大きな光学窓を選択する際の考慮事項。
第三世代半導体材料の製造における黒鉛るつぼの役割と今後の動向を探る。
高純度黒鉛るつぼ、その製造プロセス、およびその産業用途を詳しく紹介。
加水分解法、熱分解法、改質バイエル法、沈殿法、焼成法、ゾル-ゲル法、火花放電法など、高純度酸化アルミニウムを製造するさまざまな方法の概要。
酸化アルミニウムるつぼ内での焼結中の試料結合を防止するための戦略。
熱分析試験用のセラミックアルミナるつぼの選択と使用に関する詳細なガイドで、試験結果に影響する要因に焦点を当てています。
粉末冶金プロセスにおけるアルミナるつぼの特性、用途、使用法を詳しく紹介。
窒化ホウ素るつぼの適切な使用、注意事項、および適合性に関する指示。
電子ビーム蒸着コーティング技術の原理と応用について、材料選択や様々な応用分野を含めて詳しく解説。
薄膜製造における電子ビーム蒸発の技術と応用を探る。