知識 化学蒸着法の原理とは?(3つのステップ)
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技術チーム · Kintek Solution

更新しました 2 months ago

化学蒸着法の原理とは?(3つのステップ)

化学気相成長法(CVD)は、気体状の前駆物質の化学反応により、基板上に薄膜やコーティングを成膜するプロセスである。

CVDの原理には、揮発性化合物の蒸発、基材での蒸気の熱分解または化学反応、不揮発性反応生成物の蒸着という3つの主要ステップが含まれる。

このプロセスは通常、反応を促進し、均一なコーティングを確実にするために、高温と特定の圧力範囲を必要とします。

化学蒸着法の原理とは?(3つの主要ステップ)

化学蒸着法の原理とは?(3つのステップ)

1.揮発性化合物の蒸発

最初のステップでは、蒸着する物質の化合物である揮発性前駆体を蒸発させる。

この前駆体は、通常、ハロゲン化物または水素化物であり、基板上に蒸着される所望の材料に基づいて選択される。

蒸発プロセスにより、前駆体はその後の反応に備えられる。

2.熱分解または化学反応

前駆体が気体状態になると、反応チャンバーに導入され、高温(多くの場合1000℃前後)にさらされる。

この温度で前駆体は熱分解を起こすか、チャンバー内に存在する他のガスと反応する。

この反応により、前駆体は蒸着に適した原子や分子に分解される。

3.不揮発性反応生成物の蒸着

分解や反応の結果生じた原子や分子は、加熱された基板上に堆積する。

この析出は、時間とともに均一に積み重なる薄膜またはコーティングを形成する。

反応の不揮発性生成物は基板に付着し、未反応の前駆体や副生成物はチャンバーから除去されます。

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