化学気相成長法（CVD）は、気体状の前駆物質の化学反応により、基板上に薄膜やコーティングを成膜するプロセスである。CVDの原理には、揮発性化合物の蒸発、基材での蒸気の熱分解または化学反応、不揮発性反応生成物の蒸着という3つの主要ステップが含まれる。このプロセスは通常、反応を促進し、均一なコーティングを保証するために、高温と特定の圧力範囲を必要とします。
回答の要約
CVDの原理は、揮発性前駆体を使用し、真空チャンバー内で加熱・反応させて基板上に固体膜を形成するものです。このプロセスは、前駆体の蒸発、基材表面での化学反応、生成物の蒸着という3つの重要なステップで特徴付けられます。
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詳しい説明揮発性化合物の蒸発：
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最初のステップでは、蒸着する物質の化合物である揮発性前駆体を蒸発させる。この前駆体は通常、ハロゲン化物または水素化物であり、基板上に蒸着される所望の物質に基づいて選択される。蒸発プロセスにより、前駆体はその後の反応に備えられる。
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熱分解または化学反応：
前駆体が気体状態になると、反応チャンバーに導入され、高温（多くの場合1000℃前後）にさらされる。この温度で前駆体は熱分解を起こすか、チャンバー内に存在する他のガスと反応する。この反応によって前駆体は分解され、蒸着に適した原子や分子になる。不揮発性反応生成物の蒸着：
