CVDおよびPECVD炉
プラズマ蒸着PECVDコーティング機
商品番号 : KT-PED
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- サンプルホルダー加熱温度
- ≤800℃
- ガスパージチャンネル
- 4チャンネル
- 真空チャンバーチャンバーサイズ
- Φ500mm×550mm
配送:
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アプリケーション
PECVD コーティング装置は、プラズマを使用して堆積の化学反応を促進し、低温で高品質の固体膜を気相化学堆積で形成できます。
PECVD コーティング装置の用途には、主に LED 照明、パワー半導体、MEMS などが含まれます。SiO2 (SiH4、TEOS)、SiNx、SiOxNy などのメディア膜の成膜や、SiO 厚膜の高速成膜に適しています。 PSS複合基板上で。
技術仕様
| サンプルホルダー | サイズ | 1～6インチ |
| 回転速度 | 0-20rpm調整可能 | |
| 加熱温度 | ≤800℃ | |
| 制御精度 | ±0.5℃ シマデン製PIDコントローラー | |
| ガスパージ | 流量計 | マスフローメータコントローラ (MFC) |
| チャンネル | 4チャンネル | |
| 冷却方法 | 循環水冷却 | |
| 真空室 | チャンバーサイズ | Φ500mm×550mm |
| 展望港 | バッフル付きフルビューポート | |
| チャンバー材質 | 316 ステンレス鋼 | |
| 扉の種類 | フロントオープンタイプのドア | |
| キャップ材質 | 304 ステンレス鋼 | |
| 真空ポンプポート | CF200フランジ | |
| ガス導入口 | φ6ビデオデッキコネクタ | |
| プラズマパワー | ソースパワー | DC電源またはRF電源 |
| カップリングモード | 誘導結合またはプレート容量性 | |
| 出力電力 | 500W—1000W | |
| バイアスパワー | 500v | |
| 真空ポンプ | プレポンプ | 15L/Sベーン真空ポンプ |
| ターボポンプポート | CF150/CF200 620L/S～1600L/S | |
| リリーフポート | KF25 | |
| ポンプ速度 | ベーンポンプ:15L/s、ターボポンプ:1200l/sまたは1600l/s | |
| 真空度 | ≤5×10-5Pa | |
| 真空センサー | 電離真空計・抵抗真空計・膜計 | |
| システム | 電力供給 | AC220V/380 50Hz |
| 定格出力 | 5kW | |
| 寸法 | 900mm×820mm×870mm | |
| 重さ | 200kg |
警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
PECVD法とは何ですか？
Mpcvdとは何ですか?
PECVD は何に使用されますか?
Mpcvdマシンとは何ですか?
PECVD の利点は何ですか?
Mpcvd の利点は何ですか?
ALD と PECVD の違いは何ですか?
CVD ダイヤモンドは本物ですか、それとも偽物ですか?
PECVDとスパッタリングの違いは何ですか?
4.9
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