蒸気の蒸着とは、気化した物質から固体膜を表面に形成するプロセスである。
このプロセスは、化学的または物理的手段によって行われる。
様々な産業用途、特に電子機器、光学機器、医療機器用の薄膜形成において非常に重要です。
蒸着とは？5つのポイントを解説
1.化学気相成長法（CVD）
CVDでは、気相での化学反応によって固体膜の蒸着が行われる。
このプロセスには、通常3つの主要ステップが含まれる：
1.1 揮発性化合物の蒸発
蒸着する物質をまず蒸発させる。
これは多くの場合、前駆物質を高温に加熱し、気相に蒸発させることで達成される。
1.2 熱分解または化学反応
蒸気は熱分解を経て原子や分子になるか、基板表面で他の蒸気やガスと反応する。
このステップは、膜形成に必要な化学変化を開始するため、非常に重要である。
1.3 不揮発性反応生成物の堆積
固体状態になった化学反応生成物は、基板上に堆積し、薄膜を形成する。
この析出は、CVDプロセスでは一般的に高い温度や圧力などの要因に影響される。
2.物理蒸着（PVD）
PVDは、基板上で材料を固体状態から蒸気状態へ、そして再び固体状態に戻すことを含む。
プロセスには以下が含まれる：
2.1 固体材料の気化蒸着される材料は、気化するまで加熱される。これは、スパッタリング、蒸発、電子ビーム加熱など、さまざまな方法で行うことができる。
