化学的気相成長法（CVD）には、不規則な形状の表面に均一でコンフォーマルの高い膜を作る能力、多様なコーティング材料、バッチ生産の拡張性など、いくつかの利点がある。また、比較的安価で、汎用性が高く、高純度であり、高い成膜速度と優れた密着性を持つ方法である。CVDは非直視型であるため、表面の向きに関係なくコーティングすることができ、高ストレス環境や極端な温度にも耐える耐久性のあるコーティングを形成することができる。さらに、CVDは超薄膜の形成に優れているため、電気回路の製造などの用途に最適です。
均一性と適合性
CVDは、基材表面上を流れる気体状の反応物質を利用するため、不規則な形状の表面でも均一でコンフォーマルの高い膜を形成することができます。この特性は、複雑な形状でも一貫したコーティングを実現できるため、表面形状の制御が不可欠な用途に不可欠です。多様なコーティング材料
CVDのプロセスでは、金属、合金、セラミックなど、幅広い材料の成膜が可能です。CVDの化学反応は、合金を形成するために操作することもでき、製造できるコーティングの多様性を広げます。
拡張性とコスト効率：
CVDは拡張性が高く、バッチ生産に適している。この拡張性は、大量の材料に効率的にプロセスを適用できるため、規模の経済による大幅なコスト削減につながる。手頃な価格と多様性：
他のコーティング法に比べ、CVDは比較的手頃な価格である。その汎用性は、複数の元素や化合物をコーティングできることで実証されており、さまざまな産業で好まれている。
高い成膜速度と密着性：
CVDは高い成膜速度を誇り、生産性に有利です。また、生成されたコーティングは基材との密着性が高く、コーティングの耐久性と寿命を保証します。均一なコーティングと高純度：
CVDで生成されるコーティングは均一であり、正確な膜厚と一貫性が要求される用途には不可欠です。さらに、CVD製品は純度が高く、汚染を最小限に抑えなければならない用途には不可欠です。
非直視型プロセス：
