KinTek 生化学装置は、ロータリーエバポレーター、ガラスおよびステンレス鋼の反応器、蒸留システム、循環ヒーターおよびチラー、真空装置で構成されています。
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
液体ガス化装置付きスライド PECVD 管状炉 PECVD 装置
商品番号 : KT-PE12
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実験室用循環水真空ポンプを使用することで、従来の方法に比べてどのような利点があるのかを探る。
分子ポンプやロータリーベーンポンプなど、研究室で使用される様々な真空ポンプの概要。
様々な実験における金属浴、水浴、サーモスタット加熱法の違いを理解する。
加水分解法、熱分解法、改質バイエル法、沈殿法、焼成法、ゾル-ゲル法、火花放電法など、高純度酸化アルミニウムを製造するさまざまな方法の概要。
酸化アルミニウムるつぼ内での焼結中の試料結合を防止するための戦略。
熱分析試験用のセラミックアルミナるつぼの選択と使用に関する詳細なガイドで、試験結果に影響する要因に焦点を当てています。
粉末冶金プロセスにおけるアルミナるつぼの特性、用途、使用法を詳しく紹介。
薄膜製造における電子ビーム蒸発の技術と応用を探る。
電子ビーム蒸着コーティング技術の詳細な分析、その利点、欠点、薄膜製造における応用。
真空コーティングプロセスにおける電子ビーム蒸着、その種類、利点、欠点を詳しく紹介。
この記事では、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングを中心に、さまざまな真空コーティング技術を掘り下げ、その原理、利点、用途について詳しく説明する。
フィラメント、るつぼ、蒸発ボートなど、薄膜蒸着に使用されるさまざまな蒸発源を探る。
平面シリコンターゲットと回転シリコンターゲットの長所と短所を、薄膜蒸着技術における特性や応用シーンに焦点を当てて徹底比較。
PVDスパッタリングターゲットの品質と均一性の向上における熱間静水圧プレスの役割について、製造技術と利点に焦点を当てながら解説。
スパッタリングターゲット製造における粉末冶金の詳細なプロセスと応用。
この記事では、さまざまな産業におけるマグネトロンスパッタリングターゲットの分類、用途、原理について詳しく説明する。
ドライコールドトラップは、ガスを凝縮・回収し、機器を保護し、プロセス効率を向上させるため、さまざまな用途で使用されています。
ロータリーベーン真空ポンプの構造、作動原理、用途、利点を徹底分析。
機械式、ターボ分子式、スパッタリングイオン式、チタン昇華式、クライオジェニックポンプなど、超高真空システムで使用される主なポンプタイプの概要。
真空ポンプの種類、用途、真空度の計算を考慮し、様々な実験室の用途に適した真空ポンプを選択するためのガイド。
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様々な実験における金属浴、水浴、サーモスタット加熱法の違いを理解する。
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酸化アルミニウムるつぼ内での焼結中の試料結合を防止するための戦略。
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