KinTek サンプル前処理装置には、サンプルの粉砕、粉砕、ふるい分け装置、油圧プレス装置には手動プレス、電動プレス、静水圧プレス、ホットプレス、プレス濾過機が含まれます。
KinTek は、蒸着材料、ターゲット、金属、電気化学部品に加え、粉末、ペレット、ワイヤ、ストリップ、ホイル、プレートなどを含む、ラボ用消耗品や材料を幅広く提供しています。
KinTek 生化学装置は、ロータリーエバポレーター、ガラスおよびステンレス鋼の反応器、蒸留システム、循環ヒーターおよびチラー、真空装置で構成されています。
高純度アンチモン(Sb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SB
高純度スカンジウム(Sc)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SC
高純度セレン(Se)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SE
高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SI
高純度錫(Sn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SN
高純度タンタル(Ta)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TA
高純度テルル(Te)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TE
高純度チタン(Ti)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TI
高純度バナジウム(V)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-V
高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-W
高純度亜鉛(Zn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZN
高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZR
高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HF
高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-RE
高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-IR
高純度ランタン(La)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-LA
高純度エルビウム(Er)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ER
高純度セリウム(Ce)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CE
高純度サマリウム(Sm)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SM
高純度ユウロピウム(Eu)スパッタリングターゲット/ 粉末 / ワイヤー / ブロック / 顆粒
商品番号 : LM-EU
高純度ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-GD
高純度テルビウム(Tb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TB
高純度ジスプロシウム(Dy)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-DY
高純度イッテルビウム(Yb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-YB
高純度ルテチウム(Lu)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-LU
高純度プラセオジム(Pr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-PR
高純度ネオジム(Nd)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ND
高純度ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HO
高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SIO2
高純度酸化ハフニウム(HfO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HfO2
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炭化ケイ素スティックを取り付ける際の注意事項。
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熱間静水圧プレス(HIP)は、高温高圧で材料を高密度化するために使用される技術です。このプロセスでは、材料を密閉容器に入れ、不活性ガスで加圧し、高温に加熱します。
FTIR (フーリエ変換赤外) 分光法は、赤外吸収スペクトルに基づいて化合物を特定し、特性評価するための強力な分析手法です。
冷間静水圧プレス (CIP) サービスは、製品または冷間圧縮粉末を滅菌するために非常に高い圧力を利用します。 CIP は、複雑な形状を作成し、材料の最終密度を高めるのに特に効果的です。
温間静水圧プレス (WIP) は、熱と圧力を組み合わせて高品質の部品を作成する静水圧プレスの一種です。 WIP プロセスでは、部品を柔軟な金型内に配置し、その後気体または液体の媒体で満たします。
静水圧プレスプロセスは 1950 年代半ばに開発され、研究の好奇心から実用的な生産ツールへと着実に成長してきました。多くの業界では、粉末の強化や鋳物の欠陥修復にこの技術を適用しています。このプロセスは、セラミック、金属、複合材料、プラスチック、カーボンなどのさまざまな材料に使用されており、粉末の固化や鋳物の欠陥修復などの業界で広く応用されています。セラミックや耐火物の用途に独自の利点をもたらし、正確な公差に合わせて製品形状を形成できるようになり、コストのかかる機械加工の必要性が軽減されます。
粉末冶金 (PM) などのほとんどの粉末ベースの製造プロセスの目標は、出発材料を溶かさずに気孔率 1% 未満の緻密な部品を製造することです。これらのプロセスで使用されるルースパウダーは通常、積層密度が低く、ランダムに積層された完全な球形の粒子の理論上の最大密度はわずか 64% です。ただし、適切な粉末粒度分布または変形可能な粉末を使用することにより、90% を超える充填密度を達成できます。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
静水圧プレスは、あらゆる方向から均等な圧力を加えることによって材料を成形し、強化するために使用される製造プロセスです。この技術では、材料を圧力容器に入れ、材料に静水圧を加えます。
温間静水圧プレス (WIP) は、材料の密度を高め、欠陥を減らすために使用される高圧技術です。これには、材料を高圧および高温にさらすと同時に、不活性ガスを適用して材料を均一に圧縮することが含まれます。