カテゴリを切り替える
バイオ化学装置
KinTek 生化学装置は、ロータリーエバポレーター、ガラスおよびステンレス鋼の反応器、蒸留システム、循環ヒーターおよびチラー、真空装置で構成されています。
製品
高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SI
高純度錫(Sn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SN
高純度タンタル(Ta)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TA
高純度テルル(Te)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TE
高純度チタン(Ti)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TI
高純度バナジウム(V)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-V
高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-W
高純度亜鉛(Zn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZN
高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZR
高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HF
高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-RE
高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-IR
高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SIO2
高純度酸化ハフニウム(HfO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HfO2
高純度二酸化チタン(TiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiO2
高純度酸化ジルコニウム(ZrO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZrO2
高純度酸化タングステン(WO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-WO3
高純度酸化ニオブ(Nb2O5)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Nb2O5
高純度酸化タンタル(Ta2O5)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Ta2O5
高純度酸化モリブデン(MoO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MoO3
高純度酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Al2O3
高純度酸化亜鉛(ZnO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZnO
高純度酸化マグネシウム(MgO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MgO
高純度酸化ビスマス(Bi2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Bi2O3
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Cr2O3
高純度酸化ニッケル(Ni2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Ni2O3
高純度酸化バナジウム(V2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-V2O3
高純度アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AZO
高純度インジウムスズ酸化物(ITO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ITO
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Fe3O4
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連記事
熱間静水圧プレス：先端材料加工のための多用途技術
様々な材料分野における熱間等方圧加圧の起源、原理、応用を探る。
PVDスパッタリングターゲットと熱間静水圧プレス：パート1
高品質のスパッタリングターゲットの製造における熱間静水圧プレスの使用と、PVDスパッタリング技術の応用について解説。
PVDスパッタリングターゲットと熱間静水圧プレス：パート2
この記事では、熱間静水圧プレスや高圧熱処理などの技術を中心に、PVDスパッタリングターゲットの製造と最適化について説明する。
太陽電池産業における等方性黒鉛の応用
太陽電池製造の様々な段階における等方性黒鉛の使用とその市場需要の概要。
温間等方圧プレス（WIP）の能力と応用を探る
温間静水圧プレス(WIP)、その技術、用途、材料加工における利点についての包括的なガイドに飛び込んでください。WIPがどのように材料特性を向上させるか、また高度な製造におけるWIPの役割をご覧ください。
電気化学研究における回転円板電極（RDE）の総合ガイド
電気化学研究における回転円板電極（RDE）の詳細な仕組み、用途、重要性を探ります。燃料電池や触媒開発などでRDEがどのように使用されているかをご覧ください。
炭化ケイ素スティックを取り付ける際の注意事項
炭化ケイ素スティックを取り付ける際の注意事項。
ふるい分けの科学的原理：粒度分布と試験ふるいを理解する
ふるい分けの科学的原理について、粒径に基づく粒子の分離プロセス、試験室用試験ふるいの種類などをご紹介します。ふるい分けがさまざまな産業にどのような影響を与えるか、また粒度分布測定の精度について学びます。
スパークプラズマ焼結炉：SPS炉の究極ガイド
スパークプラズマ焼結炉（SPS）の世界をご覧ください。この包括的なガイドでは、その利点や用途からプロセスや設備に至るまで、すべてを網羅しています。SPS炉がお客様の焼結作業にどのような革命をもたらすかをご覧ください。
最適な微細構造の均一性を実現する熱間静水圧プレス
熱間静水圧プレス(HIP)は、高温高圧で材料を高密度化するために使用される技術です。このプロセスでは、材料を密閉容器に入れ、不活性ガスで加圧し、高温に加熱します。
分光分析のためのサンプル調製における FTIR ペレットプレスの仕組み
FTIR (フーリエ変換赤外) 分光法は、赤外吸収スペクトルに基づいて化合物を特定し、特性評価するための強力な分析手法です。
冷間静水圧プレスサービスの詳細な分析
冷間静水圧プレス (CIP) サービスは、製品または冷間圧縮粉末を滅菌するために非常に高い圧力を利用します。 CIP は、複雑な形状を作成し、材料の最終密度を高めるのに特に効果的です。
温間静水圧プレスで成形の品質と効率を確保する方法
温間静水圧プレス (WIP) は、熱と圧力を組み合わせて高品質の部品を作成する静水圧プレスの一種です。 WIP プロセスでは、部品を柔軟な金型内に配置し、その後気体または液体の媒体で満たします。
冷間静水圧プレスにおける粉末特性の役割
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。
冷間静水圧プレス: 概要とその産業用途
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
高密度で欠陥の少ない材料のための温間静水圧プレス
温間静水圧プレス (WIP) は、材料の密度を高め、欠陥を減らすために使用される高圧技術です。これには、材料を高圧および高温にさらすと同時に、不活性ガスを適用して材料を均一に圧縮することが含まれます。
冷間等方圧プレスと熱間等方圧プレス どちらが良いか
静水圧プレスは、高性能な素材や部品の製造に用いられるプロセスです。材料や部品の全面に均一な圧力を加えることで、密度が均一になり、機械的特性が向上します。
高品質ジルコニア焼結炉の5つの特長
高品質のジルコニア修復物を一貫して製造したい歯科技工所にとって、高品質の焼結オーブンへの投資は非常に重要です。
薄膜堆積における蒸着技術とスパッタリング技術の比較研究
薄膜の堆積に使用される最も一般的な 2 つの技術は、蒸着とスパッタリングです。
炉の加熱にタングステンを使用する利点を探る
タングステンには、高温炉での使用に適した多くの特性があります。