電子ビーム蒸発は、原料を蒸発するところまで加熱するプロセスである。
これには通常、材料の融点を超える温度が必要である。
例えば、融点の高いタングステンやタンタルのような耐火性金属は、電子ビーム蒸発法を用いて蒸発させるのが一般的である。
電子ビーム自体は約3000℃に加熱される。
電子ビームがソース材料に衝突すると、電子の運動エネルギーが熱エネルギーに変換され、材料を加熱して蒸発させる。
Eビーム蒸発の温度とは?(4つのポイントを解説)
1.原料の加熱
このプロセスでは、原料を蒸発するところまで加熱する。
そのためには通常、材料の融点を超える温度が必要となる。
2.電子ビームの加熱
電子ビーム自体は約3000℃に加熱される。
それがソース材料に当たると、電子の運動エネルギーが熱エネルギーに変換され、材料を加熱して蒸発させる。
3.局所加熱
電子ビーム蒸発プロセスでは、集束した電子ビームを使用して金属を加熱・蒸発させる。
電子ビームは通常約3000℃に加熱され、100kVの直流電圧源によってターゲット材料に向かって加速される。
この方法は高融点材料の蒸着に特に有効で、加熱が線源表面のビーム照射部位近傍で非常に局所的に行われるからである。
この局所的な加熱により、るつぼからの汚染を防ぐことができる。
4.高真空環境
このプロセスでは、ソース原子とバックグラウンドガス原子の衝突を最小限に抑えるため、通常10^-5Torr以下の高真空環境が必要です。
この高真空要件は、蒸気圧が約10mTorrでなければならない妥当な蒸着速度に必要である。
このため、電子ビーム蒸発法は、気化温度が高いために熱蒸発法で蒸発させることができない材料に適している。
例えば、白金を蒸発させるには約2000℃の温度が必要であり、これは熱蒸発の動作範囲を超えているが、電子ビーム蒸発では実現可能である。
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