知識 サンプルホルダーに適用可能なサンプル寸法はどのくらいですか?ラボサンプルに完璧にフィットするように
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 4 days ago

サンプルホルダーに適用可能なサンプル寸法はどのくらいですか?ラボサンプルに完璧にフィットするように


サンプルホルダーは、直径20mm以上の円形サンプル、および辺長15mm以上の正方形サンプルに対応しています。最適な性能を得るためには、サンプルの厚さは1mmから3mmの間に保つ必要があります。あらゆるサンプルの活性反応領域は、標準化された1平方センチメートルです。

物理的な寸法を超えて、ホルダーの真の有用性はその操作上の限界によって定義されます。特定の温度、圧力、および取り扱いに関する制約を遵守することは、実験の精度と機器の寿命の両方にとって不可欠です。

必要なサンプル寸法

確実なフィットと適切な機能を確保するために、サンプルは一連の最小寸法と特定の厚さ範囲に適合する必要があります。

円形サンプル用

円形サンプルの許容される最小直径は20mmです。これより小さいものは、ホルダーによって適切に固定されません。

正方形サンプル用

正方形のサンプルの場合、必要な最小辺長は15mmです。

推奨される厚さ

理想的なサンプルの厚さは1mmから3mmです。この範囲は、ホルダーのアセンブリ内での適切な接触と安定性を保証します。

反応領域の重要性

全体のサンプルサイズに関わらず、相互作用の有効面積は1平方センチメートル(1 cm²)に固定されています。対象の材料がこの指定された領域を完全に覆うことが重要です。

サンプルホルダーに適用可能なサンプル寸法はどのくらいですか?ラボサンプルに完璧にフィットするように

操作上の制約を理解する

このサンプルホルダーは、特定の実験条件のために設計された精密機器です。これらの範囲外で操作すると、不正確な結果につながったり、機器が損傷したりする可能性があります。

室温での使用を想定

ホルダーは、室温での使用を明示的に設計されています。高温は物理構造を変化させ、それが電気伝導度や化学的安定性に影響を与える可能性があります。

高圧条件下での使用は不可

同様に、ホルダーは高圧環境で使用すべきではありません。その構造はそのような条件には評価されていません。

適切な取り扱い手順

常に実験の標準操作手順に従ってください。過度の力を加えたり、衝突させたりすることは、サンプルとホルダーの両方を損傷する可能性があるため避けてください。

真空チャンバーに関する注意

ホルダーを真空チャンバーで使用する際は、ゆっくりとチャンバーに入れる必要があります。急な動きは、サンプルをその位置からずらす気流を発生させる可能性があります。

重要な保管とメンテナンスのガイドライン

適切な保管は選択肢ではなく、ホルダーの完全性と性能を長期にわたって維持するための基本です。

環境条件

ホルダーは、腐食性ガスが完全にない乾燥した換気の良い環境で保管してください。高湿度または極端な温度の場所は避けてください。

物理的損傷の防止

可能な限り、ホルダーを鋭利なものや重いものとは別に保管してください。これにより、偶発的な衝突、圧縮、または傷による損傷を防ぎます。

信頼性と安全な使用を確保する方法

あなたの目標によって、これらのガイドラインをどのように優先すべきかが決まります。

  • 適切なフィットを確保することが主な焦点の場合: サンプルが最小直径20mmまたは辺長15mmを満たし、1-3mmの厚さ範囲内にあることを確認してください。
  • ホルダーの寿命を最大化することが主な焦点の場合: 室温での操作制限と、乾燥した換気の良い保管要件を厳守してください。
  • 正確な結果を達成することが主な焦点の場合: サンプルが1 cm²の反応領域を完全に覆っていること、およびホルダーの環境制限内で操作していることを確認してください。

これらの仕様に従うことで、機器が確実に動作し、有効で再現性のある結果が得られます。

要約表:

サンプルタイプ 最小寸法 推奨厚さ 活性反応領域
円形 直径20mm 1mm - 3mm 1 cm²
正方形 辺長15mm 1mm - 3mm 1 cm²

適切な機器で正確で信頼性の高い結果を確保しましょう。

KINTEKは、精度と耐久性のために設計された精密サンプルホルダーを含む、高品質のラボ機器と消耗品を専門としています。円形サンプルでも正方形サンプルでも、当社の製品は実験の完全性を維持し、再現性のある結果を達成するのに役立ちます。

お客様のラボの成功をサポートいたします。 今すぐ専門家にお問い合わせください。お客様の特定のニーズに最適なサンプルホルダーを見つけ、当社の信頼できるラボソリューションの全範囲について詳しく知ることができます。

ビジュアルガイド

サンプルホルダーに適用可能なサンプル寸法はどのくらいですか?ラボサンプルに完璧にフィットするように ビジュアルガイド

関連製品

よくある質問

関連製品

無アルカリ・ホウアルミノケイ酸ガラス

無アルカリ・ホウアルミノケイ酸ガラス

ボロアルミノケイ酸ガラスは熱膨張に対する耐性が高いため、実験用ガラス器具や調理器具など、温度変化への耐性が必要な用途に適しています。

ラボおよび半導体プロセス用カスタムPTFEウェハホルダー

ラボおよび半導体プロセス用カスタムPTFEウェハホルダー

導電性ガラス、ウェハー、光学部品などのデリケートな基板を安全に取り扱い、加工するために専門的に設計された、高純度の特注PTFE(テフロン)ホルダーです。

真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉

真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉

バキュームステーションを備えた効率的なスプリットチャンバー式CVD炉。最高温度1200℃、高精度MFC質量流量計制御。

1200℃ 石英管付き分割管炉

1200℃ 石英管付き分割管炉

KT-TF12 分割式管状炉: 高純度絶縁、発熱線コイル内蔵、最高温度 1200℃。1200C.新素材や化学蒸着に広く使用されています。

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

研究室用真空チルト式回転式管状炉 回転式管状炉

研究室用真空チルト式回転式管状炉 回転式管状炉

実験用回転炉の多様性をご覧ください: 脱炭酸、乾燥、焼結、高温反応に最適。最適な加熱のために回転と傾斜機能を調整可能。真空および制御雰囲気環境に適しています。さらに詳しく

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

真空歯科用磁器焼結炉

真空歯科用磁器焼結炉

KinTek の真空磁器炉を使用すると、正確で信頼性の高い結果が得られます。すべての磁器粉末に適しており、双曲線セラミック炉機能、音声プロンプト、および自動温度校正を備えています。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉は、高真空および高温条件下での金属材料の取り出し、ろう付け、焼結および脱ガスに適した縦型または寝室構造です。石英材料の脱水酸化処理にも適しています。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

ボトムリフト炉

ボトムリフト炉

ボトムリフティング炉を使用することで、温度均一性に優れたバッチを効率的に生産できます。2つの電動昇降ステージと1600℃までの高度な温度制御が特徴です。

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレスでクリーンで正確なラミネーションを体験してください。ウェハーボンディング、薄膜変換、LCPラミネーションに最適です。今すぐご注文ください!

600T真空誘導ホットプレス炉

600T真空誘導ホットプレス炉

真空または保護された雰囲気での高温焼結実験用に設計された 600T 真空誘導ホットプレス炉をご覧ください。正確な温度と圧力制御、調整可能な作動圧力、高度な安全機能により、非金属材料、カーボン複合材料、セラミック、金属粉末に最適です。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

9MPa空気加圧焼結炉

9MPa空気加圧焼結炉

空圧焼結炉は、先端セラミック材料の焼結に一般的に使用されるハイテク装置です。真空焼結と加圧焼結の技術を組み合わせ、高密度・高強度セラミックスを実現します。


メッセージを残す