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半導体およびラボアプリケーション用カスタマイズ可能PTFEウェハキャリア

PTFE素材

半導体およびラボアプリケーション用カスタマイズ可能PTFEウェハキャリア

商品番号 : PTFE-39

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


材質
PTFE
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製品紹介

PTFEフラワーバスケット(テフロンフラワーバスケット)は、高純度実験用グレードのPTFEを使用しており、化学的安定性、耐食性、シール性、耐高温・耐低温性(-180℃~+250℃)に優れています。

ガラス基板(ITO、FTO、シリコンウエハー等)用PTFE洗浄ラック、フラワーバスケット等のカスタマイズサービスを提供し、お客様の説明やスケッチに基づき、無料で設計・製図を行い、様々な業界のニーズにお応えします。

詳細と部品

PTFE洗浄ラックの詳細

PTFE洗浄ラックの詳細

PTFE のクリーニングの棚の細部

主な利点

PTFEを使用することにより、ハイテク用途に不可欠な様々な利点が得られます:

  • 優れた耐薬品性: 優れた耐薬品性:PTFEは、ウェハーのエッチングや洗浄工程で使用される強酸、塩基、有機溶剤など、ほとんどの薬品に対して実質的に不活性です。このため、キャリアは腐食、劣化、不純物の溶出がなく、プロセスケミストリーとウェハーの両方を保護します。
  • 卓越した熱安定性: 広い動作温度範囲(-200℃~260℃)により、これらのキャリアは、反りや構造的完全性を失うことなく、加熱された薬液浴とその後のすすぎまたは乾燥工程の両方で使用することができます。
  • 究極の純度と非汚染性: PTFEは本質的に純粋な素材であり、抽出物のレベルは極めて低い。このため、イオン性物質や有機汚染物質がウェーハ表面に混入することがなく、デバイスの歩留まりと性能を最大化する上で極めて重要です。
  • 優しく非研磨性の接触: 低摩擦係数と滑らかな表面により、繊細で高度に研磨されたウェーハ表面は、ハンドリングや処理中に傷ついたり損傷したりすることはありません。

技術仕様

パラメータ 対応サイズ
標準ラウンドサイズ 1", 2", 3", 4", 5", 6", 8", 12"
標準正方形サイズ 4" x 4"(ご要望に応じてその他のカスタムサイズも対応可能)

用途

当社のPTFEウェハーキャリアは、様々な産業向けに設計されており、高い信頼を得ています:

  • 半導体製造: 半導体製造:ウェハークリーニング(RCAクリーンなど)、エッチング、剥離、リンスなどのウェットベンチプロセスに不可欠です。
  • 研究開発: 新素材、MEMSデバイス、プロセス開発など、柔軟性と純度が重要な研究室に最適です。
  • 太陽電池製造: 太陽電池製造のテクスチャリングや洗浄段階でのシリコン基板の取り扱いに使用されます。
  • 医療機器と光学機器 繊細なガラス、石英、サファイア部品の洗浄や化学処理に適しています。

カスタムソリューションのパートナー

私たちは、標準サイズではすべてのユニークなアプリケーションに適合しないことを理解しています。当社のコアバリューは、お客様と協力して完全にカスタマイズされたPTFEキャリアを設計・製造する能力にあります。非標準的なウェーハ厚さ用の特定のスロット幅、ロボットオートメーション用の異なるハンドル設計、正方形または長方形の基板用のキャリアなど、どのようなご要望にも当社のエンジニアリングチームが対応いたします。このオーダーメイドアプローチにより、お客様の装置に完璧にフィットし、プロセスの信頼性を高め、高価値の資産を保護します。

お客様独自の要件について話し合い、ワークフローにシームレスに統合するカスタムソリューションの開発を開始するには、以下のお問い合わせフォームからご連絡ください。 お問い合わせフォームからご連絡ください。 .プロトタイプから本格的な生産まで、当社の技術エキスパートがお手伝いいたします。

FAQ

超低温フリーザーは何に使用されますか?

超低温フリーザーは主に、DNA、ワクチン、試薬、その他の重要な研究材料などの繊細な生物学的サンプルを極低温(通常-86℃前後)で保管するために研究室で使用されます。

熱蒸発源とは?

熱蒸発源は、基板上に薄膜を蒸着する熱蒸発システムで使用される装置である。材料(蒸発剤)を高温に加熱して蒸発させ、基板上に凝縮させて薄膜を形成します。

超低温フリーザーの主な種類は?

超低温フリーザーには、28Lのコンパクトなものから938Lの大型のものまで、様々なサイズと容量のものがあります。スペースを最適化するために縦型冷凍庫として設計され、ステンレス製の庫内や精密な温度制御などの特徴を備えています。

熱蒸発源の主な種類は何ですか?

熱蒸発源の主な種類には、抵抗蒸発源、電子ビーム蒸発源、フラッシュ蒸発源があります。それぞれのタイプは、抵抗加熱、電子ビーム加熱、高温表面との直接接触など、蒸発物を加熱する方法が異なります。

光学ガラスは何に使われているのですか?

光学ガラスは、その並外れたレベルの透明性と耐久性により、分析機器や医療機器用のレンズなど、さまざまな光学用途に最も一般的に使用される材料です。写真レンズ。光学システムおよび機器用の窓。

超低温フリーザーの仕組みは?

超低温フリーザーは、高度な冷凍技術により庫内温度を-86℃に保ちます。精密なデジタル制御とエネルギー効率の高い冷却システムを搭載し、繊細なサンプルの安定した保存を可能にします。

熱蒸発源の仕組み

熱蒸発源は、高温に加熱された抵抗体に電流を流すことで機能します。この熱が蒸発剤に伝わり、蒸発剤が溶けて気化します。その後、蒸気は真空チャンバーを通って基板上に凝縮し、薄膜を形成する。

光学ガラスの成分は何ですか?

すべてのガラスの約 95% は、二酸化ケイ素 (シリカ)、Na2O (ソーダ)、CaO (石灰) を含む「ソーダ石灰」タイプです。クラウン ガラスはソーダ石灰シリカ複合材料です。

超低温フリーザーを使用する利点は何ですか?

超低温フリーザーの利点は、繊細な生物学的サンプルの完全性を保ち、安定した超低温を維持し、重要な研究材料を安全に保管できることです。また、エネルギー効率に優れ、耐久性に優れたステンレス製で長寿命であることも特長です。

熱蒸着ソースを使用する利点は何ですか?

熱蒸発源の利点には、高い蒸着速度、良好な指向性、優れた均一性、様々な材料との適合性などがある。また、比較的シンプルで安価であるため、薄膜蒸着における幅広い用途に適しています。

最も一般的な光学ガラスは何ですか?

IR スペクトル用の最も一般的な光学ガラスは、フッ化カルシウム、溶融シリカ、ゲルマニウム、フッ化マグネシウム、臭化カリウム、サファイア、シリコン、塩化ナトリウム、セレン化亜鉛、および硫化亜鉛です。

超低温フリーザーの材質は?

ほとんどの超低温フリーザーは、耐久性と極端な温度への耐性のために、内部がステンレス鋼でできています。外装は通常、内部環境を断熱・保護するよう設計された頑丈な素材でできています。

熱蒸着源はどのような用途に使用されますか?

熱蒸着ソースは、光学コーティング、半導体デバイス、各種薄膜の製造など、様々な用途で使用されています。特に、基板への材料の蒸着に精密な制御を必要とする産業で有用です。

超低温フリーザーは省エネですか?

最新の超低温フリーザーは、正確な温度制御を維持しながら消費電力を最小限に抑えるため、高度な冷却技術と断熱材を取り入れ、エネルギー効率に優れた設計になっています。

超低温フリーザーにはどのような安全機能がありますか?

このような冷凍庫には、温度アラーム、ドアロック、バックアップ冷却システムなどの高度な安全機能が搭載されていることが多く、サンプルの安全性を確保し、保管物を危険にさらす可能性のある温度変動を防ぎます。

超低温フリーザーは工業用途に使用できますか?

超低温フリーザーは主に実験室用に設計されていますが、一部の超低温フリーザーやチリングサーキュレーターのような関連機器は、特定の製造プロセスや材料試験のような精密な低温制御を必要とする産業用アプリケーションに適合させることができます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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