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半導体およびラボ用途向けのカスタマイズ可能なPTFEウェーハキャリア

PTFE素材

半導体およびラボ用途向けのカスタマイズ可能なPTFEウェーハキャリア

商品番号 : PTFE-39

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PTFE
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はじめに

PTFE製フラワーバスケット(テフロン製フラワーバスケット)は、高純度の実験用グレードPTFE製で、優れた化学的安定性、耐食性、シール性、および高温・低温耐性(-180℃~+250℃)を備えています。

ガラス基板(ITO、FTO、シリコンウェーハなど)用のPTFE洗浄ラックおよびフラワーバスケットなどのカスタマイズサービスを提供しており、お客様の記述またはスケッチに基づいて無料のデザインおよび図面サービスを提供し、さまざまな業界のニーズに対応します。

詳細と部品

PTFE洗浄ラックの詳細

PTFE洗浄ラックの詳細

PTFE洗浄ラックの詳細

主な利点

PTFEの使用は、ハイテクアプリケーションに不可欠なさまざまな利点をもたらします。

  • 優れた耐薬品性:PTFEは、ウェーハのエッチングおよび洗浄プロセスで使用される強酸、強塩基、有機溶剤を含むほとんどの化学薬品に対して事実上不活性です。これにより、キャリアの腐食、劣化、不純物の溶出を防ぎ、プロセス化学薬品とウェーハ自体の両方を保護します。
  • 優れた熱安定性:広い動作温度範囲(-200℃~260℃)により、これらのキャリアは、加熱された化学浴と後続のすすぎまたは乾燥ステップの両方で使用でき、反りや構造的完全性の喪失なしに使用できます。
  • 究極の純度と非汚染性:PTFEは、抽出物が極めて少ない、本質的に純粋な材料です。これにより、ウェーハ表面へのイオン性または有機性汚染物質の導入を防ぎ、デバイスの収率とパフォーマンスを最大化するために不可欠です。
  • 穏やかな非研磨性接触:材料の低い摩擦係数と滑らかな表面により、取り扱いおよび加工中に、繊細で高度に研磨されたウェーハ表面が傷ついたり損傷したりしないことが保証されます。

技術仕様

パラメータ 利用可能なサイズ
標準丸型サイズ 1インチ、2インチ、3インチ、4インチ、5インチ、6インチ、8インチ、12インチ
標準角型サイズ 4インチ x 4インチ(その他のカスタムサイズもご要望に応じて利用可能)

アプリケーション

当社のPTFEウェーハキャリアは、さまざまな高リスク産業向けに設計されており、信頼されています。

  • 半導体製造:ウェーハ洗浄(例:RCA洗浄)、エッチング、ストリッピング、すすぎなどのウェットベンチプロセスに不可欠です。
  • 研究開発:柔軟性と純度が鍵となる、新しい材料、MEMSデバイス、プロセス開発を扱う研究所に最適です。
  • 太陽電池(ソーラー)製造:太陽電池製造のテクスチャリングおよびクリーニング段階でのシリコン基板の取り扱いに使用されます。
  • 医療機器および光学:繊細なガラス、石英、またはサファイア部品のクリーニングおよび化学処理に適しています。

カスタムソリューションのパートナー

標準サイズがすべてのユニークなアプリケーションに適合するわけではないことを理解しています。当社のコアバリューは、クライアントと協力して完全にカスタマイズされたPTFEキャリアを設計および製造する能力にあります。標準外のウェーハ厚さ向けの特定の溝幅、ロボット自動化向けの異なるハンドル設計、または角型または長方形基板用のキャリアが必要な場合でも、当社のエンジニアリングチームはソリューションを提供する準備ができています。このオーダーメイドのアプローチにより、機器への完璧な適合が保証され、プロセス信頼性が向上し、高価値資産が保護されます。

独自の要件について話し合い、ワークフローにシームレスに統合されるカスタムソリューションの開発を開始するには、お問い合わせフォームからお問い合わせください。当社の技術専門家が、プロトタイプからフルスケール生産まで、お客様をサポートする準備ができています。

FAQ

超低温フリーザーは何に使用されますか?

超低温フリーザーは主に、DNA、ワクチン、試薬、その他の重要な研究材料などの繊細な生物学的サンプルを極低温(通常-86℃前後)で保管するために研究室で使用されます。

熱蒸発源とは?

熱蒸発源は、基板上に薄膜を蒸着する熱蒸発システムで使用される装置である。材料(蒸発剤)を高温に加熱して蒸発させ、基板上に凝縮させて薄膜を形成します。

超低温フリーザーの主な種類は?

超低温フリーザーには、28Lのコンパクトなものから938Lの大型のものまで、様々なサイズと容量のものがあります。スペースを最適化するために縦型冷凍庫として設計され、ステンレス製の庫内や精密な温度制御などの特徴を備えています。

熱蒸発源の主な種類は何ですか?

熱蒸発源の主な種類には、抵抗蒸発源、電子ビーム蒸発源、フラッシュ蒸発源があります。それぞれのタイプは、抵抗加熱、電子ビーム加熱、高温表面との直接接触など、蒸発物を加熱する方法が異なります。

光学ガラスは何に使われているのですか?

光学ガラスは、その並外れたレベルの透明性と耐久性により、分析機器や医療機器用のレンズなど、さまざまな光学用途に最も一般的に使用される材料です。写真レンズ。光学システムおよび機器用の窓。

超低温フリーザーの仕組みは?

超低温フリーザーは、高度な冷凍技術により庫内温度を-86℃に保ちます。精密なデジタル制御とエネルギー効率の高い冷却システムを搭載し、繊細なサンプルの安定した保存を可能にします。

熱蒸発源の仕組み

熱蒸発源は、高温に加熱された抵抗体に電流を流すことで機能します。この熱が蒸発剤に伝わり、蒸発剤が溶けて気化します。その後、蒸気は真空チャンバーを通って基板上に凝縮し、薄膜を形成する。

光学ガラスの成分は何ですか?

すべてのガラスの約 95% は、二酸化ケイ素 (シリカ)、Na2O (ソーダ)、CaO (石灰) を含む「ソーダ石灰」タイプです。クラウン ガラスはソーダ石灰シリカ複合材料です。

超低温フリーザーを使用する利点は何ですか?

超低温フリーザーの利点は、繊細な生物学的サンプルの完全性を保ち、安定した超低温を維持し、重要な研究材料を安全に保管できることです。また、エネルギー効率に優れ、耐久性に優れたステンレス製で長寿命であることも特長です。

熱蒸着ソースを使用する利点は何ですか?

熱蒸発源の利点には、高い蒸着速度、良好な指向性、優れた均一性、様々な材料との適合性などがある。また、比較的シンプルで安価であるため、薄膜蒸着における幅広い用途に適しています。

最も一般的な光学ガラスは何ですか?

IR スペクトル用の最も一般的な光学ガラスは、フッ化カルシウム、溶融シリカ、ゲルマニウム、フッ化マグネシウム、臭化カリウム、サファイア、シリコン、塩化ナトリウム、セレン化亜鉛、および硫化亜鉛です。

超低温フリーザーの材質は?

ほとんどの超低温フリーザーは、耐久性と極端な温度への耐性のために、内部がステンレス鋼でできています。外装は通常、内部環境を断熱・保護するよう設計された頑丈な素材でできています。

熱蒸着源はどのような用途に使用されますか?

熱蒸着ソースは、光学コーティング、半導体デバイス、各種薄膜の製造など、様々な用途で使用されています。特に、基板への材料の蒸着に精密な制御を必要とする産業で有用です。

超低温フリーザーは省エネですか?

最新の超低温フリーザーは、正確な温度制御を維持しながら消費電力を最小限に抑えるため、高度な冷却技術と断熱材を取り入れ、エネルギー効率に優れた設計になっています。

超低温フリーザーにはどのような安全機能がありますか?

このような冷凍庫には、温度アラーム、ドアロック、バックアップ冷却システムなどの高度な安全機能が搭載されていることが多く、サンプルの安全性を確保し、保管物を危険にさらす可能性のある温度変動を防ぎます。

超低温フリーザーは工業用途に使用できますか?

超低温フリーザーは主に実験室用に設計されていますが、一部の超低温フリーザーやチリングサーキュレーターのような関連機器は、特定の製造プロセスや材料試験のような精密な低温制御を必要とする産業用アプリケーションに適合させることができます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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