PTFE素材
PTFE導電性ガラス基板洗浄ラック
商品番号 : PTFE-03
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 材料
- ポリテトラフルオロエチレン(ptfe)
- 仕様
- フォームを見る
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.
応用
半導体シリコンウェーハ、シリコンウェーハ、ガラス、液晶画面などの洗浄・腐食装置に使用、太陽電池ブルーフラワー、ソーラーシリコンウェーハブルー_ソーラーシリコンウェーハキャリア、太陽電池ブルー、太陽電池シリコンウェーハブルー、洗浄装置に使用太陽電池シリコンウェーハは、正方形の太陽電池シリコンウェーハを搬送するために使用され、材質は PTFE です。この製品は、NaOH溶液、HCl溶液、HFなどの100℃以下の溶液中でシリコンウェーハを洗浄および変換します。長期間使用してもシリコンウェーハを変形させたり、汚染したりすることはありません。
ディテール＆パーツ
技術仕様
| 10×10×1.1mm | 20×20×1.1mm | 25×25×2.2mm | 30×30×2.2mm |
| 15×15×1.1mm | 25×25×1.1mm | 30×30×1.1mm |
直径 1 インチ、2 インチ、4 インチなど (上記はガラスまたはシリコンウェーハのサイズです)、ビーカーやその他のガラスの入った容器から PTFE シート洗浄ラックを簡単に取り外すためのダブルハンドル (ハンドルの高さはカスタマイズ可能)。
当社が展示する製品はさまざまなサイズでご利用いただけ、ご要望に応じてカスタムサイズも承ります。
利点
- 広い温度範囲: -200°C ～ +250°C で問題なく動作します。
- 優れた耐食性：強酸、アルカリ、王水、有機溶剤に対しても溶解、吸着、沈殿を起こさずに耐えます。
- 金属元素のブランク値が低い: 汚染のリスクが最小限です。
- 優れた絶縁性：環境要因や周波数の影響を受けず、誘電損失が低く、絶縁破壊電圧が高いのが特徴です。
- 大気老化や放射線に対する耐性があります。
- 低透過性: 効率的な保護と洗浄を保証します。
- 自己潤滑性：プラスチックの中で最も小さい摩擦係数を誇り、摩擦によるトラブルを軽減します。
- 非粘着性の表面: 表面エネルギーが低い固体素材で、粘着性を防ぎます。
- 柔らかい機械的特性: 柔軟性と多用途性を提供します。
FAQ
物理蒸着 (PVD) とは何ですか?
RF PECVDとは何ですか?
マグネトロンスパッタリングとは何ですか?
なぜマグネトロンスパッタリングなのか?
薄膜形成に使用される材料は何ですか?
薄膜堆積では、一般的に金属、酸化物、化合物を材料として利用しますが、それぞれに独自の長所と短所があります。金属は耐久性と堆積の容易さの点で好まれますが、比較的高価です。酸化物は耐久性が高く、高温に耐え、低温でも堆積させることができますが、脆くて加工が難しい場合があります。化合物は強度と耐久性を備え、低温で堆積でき、特定の特性を示すように調整できます。
薄膜コーティングの材料の選択は、用途の要件によって異なります。金属は熱と電気の伝導に理想的ですが、酸化物は保護を提供するのに効果的です。化合物は特定のニーズに合わせて調整できます。最終的に、特定のプロジェクトに最適な素材は、アプリケーションの特定のニーズによって異なります。
最適な薄膜成膜を実現するにはどのような方法がありますか?
望ましい特性を備えた薄膜を実現するには、高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料が不可欠です。これらの材料の品質は、純度、粒子サイズ、表面状態などのさまざまな要因によって影響されます。
不純物は得られる薄膜に欠陥を引き起こす可能性があるため、スパッタリングターゲットまたは蒸着材料の純度は重要な役割を果たします。粒子サイズも薄膜の品質に影響を与え、粒子が大きくなると膜の特性が低下します。さらに、表面が粗いとフィルムに欠陥が生じる可能性があるため、表面状態も非常に重要です。
最高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料を得るには、高純度、小さな粒径、滑らかな表面を備えた材料を選択することが重要です。
薄膜蒸着の用途
酸化亜鉛系薄膜
ZnO 薄膜は、熱、光学、磁気、電気などのさまざまな産業で応用されていますが、主な用途はコーティングと半導体デバイスです。
薄膜抵抗器
薄膜抵抗器は現代のテクノロジーにとって極めて重要であり、ラジオ受信機、回路基板、コンピューター、高周波デバイス、モニター、ワイヤレス ルーター、Bluetooth モジュール、および携帯電話受信機で使用されています。
磁性薄膜
磁性薄膜は、エレクトロニクス、データストレージ、無線周波数識別、マイクロ波装置、ディスプレイ、回路基板、オプトエレクトロニクスの主要コンポーネントとして使用されています。
光学薄膜
光学コーティングとオプトエレクトロニクスは、光学薄膜の標準的な用途です。分子線エピタキシーでは、光電子薄膜デバイス (半導体) を製造できます。この場合、エピタキシャル膜は一度に 1 原子ずつ基板上に堆積されます。
高分子薄膜
ポリマー薄膜は、メモリチップ、太陽電池、電子デバイスに使用されます。化学蒸着技術 (CVD) により、適合性やコーティングの厚さを含むポリマー フィルム コーティングを正確に制御できます。
薄膜電池
薄膜電池は埋め込み型医療機器などの電子機器に電力を供給しており、リチウムイオン電池は薄膜の使用により大幅に進歩しました。
薄膜コーティング
薄膜コーティングは、さまざまな産業や技術分野におけるターゲット材料の化学的および機械的特性を強化します。一般的な例としては、反射防止コーティング、紫外線防止または赤外線防止コーティング、傷防止コーティング、レンズの偏光などが挙げられます。
薄膜太陽電池
薄膜太陽電池は太陽エネルギー産業にとって不可欠であり、比較的安価でクリーンな電力の生産を可能にします。太陽光発電システムと熱エネルギーは、適用可能な 2 つの主要な技術です。
薄膜の堆積に影響を与える要因とパラメータ
堆積速度:
フィルムの製造速度（通常は厚さを時間で割った値で測定されます）は、用途に適した技術を選択するために重要です。薄膜には中程度の堆積速度で十分ですが、厚い膜には速い堆積速度が必要です。速度と正確な膜厚制御のバランスをとることが重要です。
均一：
基板全体にわたるフィルムの一貫性は均一性として知られており、通常はフィルムの厚さを指しますが、屈折率などの他の特性にも関係する場合があります。均一性の過小または過大な仕様を避けるために、アプリケーションをよく理解することが重要です。
充填能力:
充填能力またはステップカバレージは、堆積プロセスが基板のトポグラフィーをどの程度うまくカバーするかを指します。使用される堆積方法 (CVD、PVD、IBD、または ALD など) は、ステップ カバレッジと充填に大きな影響を与えます。
フィルムの特徴:
フィルムの特性は、フォトニック、光学、電子、機械、または化学に分類できるアプリケーションの要件によって異なります。ほとんどの映画は、複数のカテゴリの要件を満たす必要があります。
プロセス温度:
フィルムの特性はプロセス温度に大きく影響され、アプリケーションによって制限される場合があります。
ダメージ：
各堆積技術には、堆積される材料に損傷を与える可能性があり、フィーチャが小さいほどプロセス損傷を受けやすくなります。潜在的な損傷源には、汚染、紫外線、イオン衝撃などがあります。材料とツールの限界を理解することが重要です。
4.8
out of
5
Fast delivery and excellent packaging. The rack is made of high-quality PTFE, which is resistant to corrosion and heat.
4.9
out of
5
The rack is very easy to use and clean. It holds the substrates securely and prevents them from moving around during the cleaning process.
4.7
out of
5
The rack is very durable and has been able to withstand the harsh chemicals used in the cleaning process.
4.6
out of
5
The rack is very affordable and is a great value for the price.
4.9
out of
5
The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.
4.8
out of
5
The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.
4.7
out of
5
The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.
4.6
out of
5
The rack is very affordable and is a great value for the price.
4.9
out of
5
The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.
4.8
out of
5
The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.
4.7
out of
5
The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.
4.6
out of
5
The rack is very affordable and is a great value for the price.
4.9
out of
5
The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.
4.8
out of
5
The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.
4.7
out of
5
The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
PTFE製クリーニングラックは、主にテトラフルオロエチレンでできている。プラスチックの王様」と呼ばれるPTFEは、テトラフルオロエチレンを主成分とする高分子化合物です。
PTFE製高さ調節可能フラワーバスケット/現像・エッチング用導電性ガラスクリーニングラック
フラワーバスケットは、化学的に不活性な素材であるPTFE製。そのため、ほとんどの酸や塩基に耐性があり、さまざまな用途に使用できる。
PTFEクリーニングラックは主に四フッ化エチレンでできています。 「プラスチックの王様」とも呼ばれるPTFEは、テトラフルオロエチレンから作られる高分子化合物です。
精密に作られた PTFE 試験管立ては完全に不活性であり、PTFE の高温特性により、これらの試験管立ては問題なく滅菌 (オートクレーブ) できます。
PTFEピンセットは、高温耐性、耐寒性、耐酸性、耐アルカリ性、ほとんどの有機溶剤に対する耐食性など、PTFEの優れた物理的および化学的特性を継承しています。
PTFE 絶縁体 PTFE は、広い温度範囲および周波数範囲で優れた電気絶縁特性を備えています。
KinTek KCBH 30L 加熱冷却サーキュレーターで多用途なラボのパフォーマンスを実現します。最大で加熱温度200℃、最大使用温度200℃耐冷温度-80℃なので産業用に最適です。
当社のガラス状カーボン電極を使用して実験をアップグレードしてください。安全で耐久性があり、特定のニーズに合わせてカスタマイズ可能です。今すぐ当社の完全なモデルをご覧ください。
KinTek KCBH 50L 加熱冷却サーキュレーターで、多用途の加熱、冷却、循環機能を体験してください。効率的で信頼性の高いパフォーマンスを備え、研究室や産業環境に最適です。
PTFE容器は耐食性、化学的不活性性に優れた容器です。
研究室向けの信頼性の高い単一ガラス反応器システムをお探しですか?当社の 10 ～ 50L 反応器は、合成反応や蒸留などに対する正確な温度と撹拌制御、耐久性のあるサポート、安全機能を備えています。 KinTek のカスタマイズ可能なオプションとカスタマイズされたサービスは、お客様のニーズを満たすためにここにあります。
PTFE製品は一般に「ノンスティックコーティング」と呼ばれ、ポリエチレンの水素原子をすべてフッ素に置き換えた合成高分子材料です。
製薬、化学、生物産業向けの多用途の 10 ～ 50L ジャケット ガラス リアクターをご覧ください。正確な撹拌速度制御、複数の安全保護、カスタマイズ可能なオプションが利用可能。 KinTek はガラス反応器のパートナーです。
PTFEフィルターエレメントは一般的に使用されている工業用フィルターエレメントで、主に高純度化学物質、強酸、強アルカリなどの腐食性媒体の濾過に使用されます。
優れた熱安定性、耐薬品性、電気絶縁特性で知られる PTFE は、多用途の熱可塑性プラスチック材料です。
研究室向けの多用途ジャケット ガラス反応器システムをお探しですか?当社の 80 ～ 150 L 反応器は、合成反応、蒸留などのための制御された温度、速度、機械機能を備えています。 KinTek は、カスタマイズ可能なオプションとカスタマイズされたサービスでお客様をサポートします。
ガスケットは、シールを強化するために 2 つの平らな表面の間に配置される材料です。流体の漏れを防ぐために、静的シール面の間にシール要素が配置されます。
KT-MD 各種成形プロセスを備えたセラミック材料用の高温脱バインダおよび仮焼結炉。 MLCCやNFCなどの電子部品に最適です。
当社の 1 ～ 5L ジャケット ガラス反応器システムで、医薬品、化学製品、生物製品に最適なソリューションを見つけてください。カスタムオプションも利用可能。
直接加熱および間接加熱のための安全で信頼性の高いソリューションである、ステンレス高圧反応器の多用途性をご覧ください。ステンレス鋼で作られているため、高温や高圧に耐えることができます。今すぐ詳細をご覧ください。
KinTek KCBH 20L 加熱冷却サーキュレーターでラボの生産性を最大化します。オールインワン設計により、産業および研究室での使用に信頼性の高い加熱、冷却、循環機能を提供します。
シートとインサートはバルブ業界において重要なコンポーネントです。主要な成分として、通常はポリテトラフルオロエチレンが原料として選択されます。
関連記事
PTFEクリーニングラックの多彩な用途：研究室の効率と精度を高める
研究室におけるPTFE洗浄ラックの多様な用途をご紹介します。洗浄プロセスを最適化し、精度を高め、研究室全体の効率と精度に貢献する、この不可欠なツールをご覧ください。
PTFEクリーニングラック実験器具の洗浄と乾燥のための究極のガイド
この包括的なガイドでは、PTFE洗浄ラックの世界を掘り下げ、その利点、用途、最適な性能と寿命を確保するための実験器具の洗浄と乾燥のベストプラクティスを探ります。
実験用ガラス器具の掃除方法 - パート 2
実験用ガラス器具を洗浄するにはどうすればよいですか?ここでは、いくつかの考慮事項とヒントを示します。