CVD（化学気相成長法）は、いくつかの重要な利点により、PVD（物理気相成長法）よりも優れていると考えられています。
PVDに対するCVDの4つの主な利点
1.より高い動作圧力
CVDはPVDよりも高い圧力で作動する。
そのため、高真空ポンプが不要となる。
また、有毒ガスに対する大規模なガス管理が不要な場合、コストを削減できます。
2.非直視下蒸着
高い圧力とCVDの層流特性により、非直視下成膜が可能になります。
これにより、不規則な表面や高密度に配置された基板上にコンフォーマル膜を成膜することができる。
3.高純度で高密度な膜
CVDは、比較的高い蒸着速度で、高純度で高密度の膜や粒子を作ることができる。
この能力は、均一なコーティングと高純度が要求される用途に極めて重要です。
また、CVDは汎用性にも優れており、金属、セラミック、半導体の薄膜を含むさまざまな材料を成膜することができます。
4.経済的メリット
CVDには経済的な利点があり、高真空条件の必要性を減らすことができる。
これにより、多くの用途でCVDの魅力が高まります。
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