アルゴンがマグネトロンスパッタリングによく使われるのは、いくつかの重要な理由がある。
なぜアルゴンがマグネトロンスパッタリングに使われるのか？4つの主な理由を説明
1.高いスパッタリングレート
アルゴンはスパッタリングレートが高い。
つまり、イオン化して加速されると、ターゲット材料から原子を効果的に放出します。
高いスパッタリングレートは、基板上に薄膜を迅速かつ均一に成膜するために極めて重要である。
マグネトロンスパッタの磁場は電子とイオンを集中させ、アルゴンのイオン化を促進し、ターゲット材料の放出速度を高める。
2.不活性の性質
アルゴンは不活性ガスである。
つまり、他の元素と反応しにくい。
この特性は、ターゲット材料の完全性と成膜の純度が重要なスパッタリングプロセスでは不可欠である。
アルゴンのような不活性ガスを使用することで、ターゲット材料の化学組成がスパッタリングプロセス中に変化せず、成膜された膜の望ましい特性が維持されます。
3.低価格と入手性
アルゴンは比較的安価で、高純度のものが広く入手可能である。
このような経済的・物流的な利点により、アルゴンは、費用対効果や入手しやすさが重要視される産業および研究用途において、実用的な選択肢となっている。
4.磁場によるイオン化の促進
マグネトロンスパッタリングにおける磁場の存在は、ターゲット材料の近くに電子を捕捉するのに役立つ。
これにより電子密度が高まる。
電子密度が高まると、電子とアルゴン原子の衝突が起こりやすくなり、アルゴン（Ar+）のイオン化効率が高まる。
そして、増加したAr+イオンはマイナスに帯電したターゲットに引き寄せられ、スパッタリング速度が速くなり、より効率的な成膜プロセスにつながります。
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