蒸発材料とは、気化するまで高温に加熱することができ、表面に薄膜やコーティングを形成する物質である。
これらの物質には、金、銀、チタン、タングステン、銅のような金属や、二酸化ケイ素のような非金属が含まれる。
蒸発のプロセスは、これらの材料の原子や分子が十分なエネルギーを得て、固体や液体の状態での結合力に打ち勝ち、気相に移行するときに起こる。
これは通常、材料が融点以上に加熱され、蒸気圧が上昇したときに起こる。
真空環境では、気化した材料は基板表面に直接移動し、そこで凝縮して薄膜を形成する。
このプロセスは、蒸発ボート、噴出セル、るつぼなど、材料を効果的に加熱・気化させるように設計されたさまざまなタイプのソースによって促進される。
さらに、水、ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）などの高沸点溶媒も、減圧条件下で蒸発させることができる。
回転蒸発や遠心蒸発のような最新の技術は、特にハイスループット合成を必要とする場面で、これらの溶媒にしばしば採用される。
蒸発材料と蒸発方法の選択は、薄膜の望ましい特性や蒸着チャンバー内の条件など、アプリケーションの特定の要件によって異なります。
蒸発できる材料とは？5つの主要タイプを説明
1.金属
金、銀、チタン、タングステン、銅などの金属は、蒸着プロセスで一般的に使用される。
2.非金属
二酸化ケイ素のような非金属も、蒸着による薄膜形成に使用される。
3.溶剤
水、ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）などの沸点の高い溶媒は、減圧条件下で蒸発させることができる。
4.最新の技術
ロータリーエバポレーションや遠心エバポレーションのような最新の技術は、ハイスループット合成にしばしば採用される。
5.用途に応じた材料
蒸発材料と蒸発方法の選択は、薄膜の望ましい特性や蒸着チャンバー内の条件など、アプリケーションの特定の要件に依存します。
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