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窒化ホウ素(BN)セラミックチューブ

薄膜蒸着部品

窒化ホウ素(BN)セラミックチューブ

商品番号 : KM-D5

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材料
窒化ホウ素
仕様
カスタマイズ可能
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用途

窒化ホウ素(BN)チューブは、ホットプレス窒化ホウ素セラミックで作られており、優れた電気絶縁性を持ち、絶縁破壊電圧はアルミナセラミックの3〜4倍です。絶縁用途に適したこれらのチューブは、高温や熱衝撃に耐性があります。大気保護下では最大2100°C、真空下では最大1900°Cまで破損することなく動作します。ただし、硬度が低いため、耐摩耗性や高衝撃用途には適していません。

  • 高温炉治具
  • ガスアトマイズノズル
  • 軟磁性ノズル
  • プラズマアーク絶縁体
  • 金属またはガラスの溶解用るつぼまたは容器
  • 連続鋳造破断リング
  • 真空装置の電気絶縁体
  • PVD/CVD真空コーティング装置
  • 半導体デバイス
  • 熱電対保護管

半導体溶解、冶金、半導体冷却、高温ベアリング、ガラス成形金型などの産業にも適しています。

詳細と部品

窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 1窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 2窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 3窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 4窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 5

窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 8

表示されている製品はさまざまなサイズがあり、ご要望に応じてカスタムサイズもご利用いただけます。

利点

  • 溶融金属に対する濡れ性が低い
  • 誘電率が低い
  • 高い絶縁破壊強度
  • 高い熱伝導率
  • 熱膨張係数が低い
  • 高い熱衝撃抵抗
  • 不活性ガス保護下で非常に高い動作温度(>3000°C)
  • 化学気相成長(CVD)への適合性
  • 良好な加工性

業界リーダーからの信頼

提携クライアント

FAQ

窒化ホウ素セラミックスとアルミナセラミックスの性能比較。

アルミナセラミックと比較して、窒化ホウ素セラミックには次の利点があります。 1. 大気保護下での窒化ホウ素セラミックの最高使用温度は 2100 度に達することができますが、アルミナセラミックの最高使用温度は 1700 度を超えません。 2. 窒化ホウ素セラミックの耐熱衝撃性はアルミナセラミックよりもはるかに優れています。窒化ホウ素セラミックスは、急激な温度上昇や温度低下でも割れず、1000℃の炉から取り出して急冷しても割れません。連続100回。アルミナセラミックは使用温度を急激に上げたり下げたりするとクラックが発生しやすくなります。 3. 窒化ホウ素セラミックスの電気絶縁強度はアルミナセラミックスの3~4倍です。 4. 窒化ホウ素セラミックスはガラスや金属と反応・結合しないため、高温焼結・溶融るつぼ、セッタープレートなどの容器として使用されます。窒化ホウ素セラミックスは、アルミナセラミックスと比較して、次のような欠点があります。 1. 窒化ホウ素セラミックスは、アルミナセラミックスに比べて強度、硬度、耐摩耗性が低いため、振動や摩擦条件下での使用には適していません。 2. 窒化ホウ素セラミックスの空気中での使用温度は1000℃までであり、1000℃を超えると酸化してしまいます。
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窒化ホウ素(BN)セラミックチューブ

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