製品 ラボ用消耗品と材料 薄膜蒸着部品 窒化ホウ素 (BN) セラミックチューブ
窒化ホウ素 (BN) セラミックチューブ

薄膜蒸着部品

窒化ホウ素 (BN) セラミックチューブ

商品番号 : KM-D5

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


材料
窒化ホウ素
仕様
カスタマイズ可能
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配送:

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応用

窒化ホウ素(BN)チューブは、窒化ホウ素セラミックスをホットプレスしたもので、電気絶縁性に優れ、耐電圧はアルミナセラミックスに比べて3~4倍高くなります。これらのチューブは絶縁用途に適しており、高温や熱衝撃に耐性があります。大気保護下では最高 2100°C、真空下では最高 1900°C の温度で破裂することなく動作できます。ただし、硬度が低いため、耐摩耗性や衝撃の多い用途には適していません。

  • 高温炉用治具
  • ガスアトマイズノズル
  • 軟磁性ノズル
  • プラズマアーク絶縁体
  • 金属またはガラスを溶解するためのるつぼまたは容器
  • 連続鋳造割れリング
  • 真空装置の電気絶縁体
  • PVD/CVD真空成膜装置
  • 半導体デバイス
  • 熱電対保護管

半導体溶解、冶金、半導体冷却、高温ベアリング、ガラス成形金型などの産業にも適しています。

ディテール&パーツ

窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 1窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 2窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 3窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 4窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 5

窒化ホウ素セラミックチューブの詳細 8

当社が展示する製品はさまざまなサイズでご利用いただけ、ご要望に応じてカスタムサイズも承ります。

利点

  • 溶融金属に対する濡れ性が低い
  • 低誘電率
  • 高い絶縁耐力
  • 高い熱伝導率
  • 低い熱膨張係数
  • 高い耐熱衝撃性
  • 不活性ガス保護による非常に高い動作温度 (>3000°C)
  • 化学気相成長 (CVD) への適性
  • 良好な機械加工性

FAQ

窒化ホウ素セラミック部品の用途は何ですか?

窒化ホウ素セラミック部品はさまざまな業界で応用されています。これらは、熱管理システム、るつぼ、ヒーター、断熱材などの高温環境で一般的に使用されます。窒化ホウ素セラミック部品は、その優れた熱伝導性により、ヒートシンク、電子デバイスの基板、および高出力エレクトロニクスのコンポーネントとして使用されます。また、航空宇宙産業でも、ロケット ノズルや熱シールドなど、軽量で高温耐性が必要な用途に使用されています。窒化ホウ素セラミック部品は、半導体業界でもウェーハキャリア、結晶成長用るつぼ、絶縁体として使用されています。さらに、化学的不活性性と耐腐食性により腐食性物質の取り扱いに適しているため、化学産業でも用途が見つかります。

ファインセラミックスの主な用途は?

ファインセラミックスは、食器、調理器具、壁タイル、衛生陶器など様々な用途に使用されています。また、レンガや瓦などの構造用セラミックス、炉や窯の断熱材などの耐火物、金属るつぼ、高温用途の高度なテクニカルセラミックスにも使用されています。

窒化ホウ素セラミックスとアルミナセラミックスの性能比較。

アルミナセラミックと比較して、窒化ホウ素セラミックには次の利点があります。 1. 大気保護下での窒化ホウ素セラミックの最高使用温度は 2100 度に達することができますが、アルミナセラミックの最高使用温度は 1700 度を超えません。 2. 窒化ホウ素セラミックの耐熱衝撃性はアルミナセラミックよりもはるかに優れています。窒化ホウ素セラミックスは、急激な温度上昇や温度低下でも割れず、1000℃の炉から取り出して急冷しても割れません。連続100回。アルミナセラミックは使用温度を急激に上げたり下げたりするとクラックが発生しやすくなります。 3. 窒化ホウ素セラミックスの電気絶縁強度はアルミナセラミックスの3~4倍です。 4. 窒化ホウ素セラミックスはガラスや金属と反応・結合しないため、高温焼結・溶融るつぼ、セッタープレートなどの容器として使用されます。窒化ホウ素セラミックスは、アルミナセラミックスと比較して、次のような欠点があります。 1. 窒化ホウ素セラミックスは、アルミナセラミックスに比べて強度、硬度、耐摩耗性が低いため、振動や摩擦条件下での使用には適していません。 2. 窒化ホウ素セラミックスの空気中での使用温度は1000℃までであり、1000℃を超えると酸化してしまいます。

窒化ホウ素セラミック部品を使用する利点は何ですか?

窒化ホウ素セラミック部品を使用すると、いくつかの利点があります。まず、熱伝導率が高いため効率的な熱伝達が可能となり、熱放散や熱管理が必要な用途に最適です。第二に、窒化ホウ素セラミックは優れた電気絶縁特性を示し、電気および電子用途に適しています。誘電損失が低く、絶縁耐力が高いため、高温でも確実な電気絶縁が可能です。さらに、窒化ホウ素セラミック部品は摩擦係数が低いため、低摩擦が求められる用途において優れた潤滑性と耐摩耗性を実現します。また、化学的に不活性であるため、ほとんどの酸、アルカリ、溶融金属に対して耐性があります。窒化ホウ素セラミック部品は、大きな変形や劣化を起こすことなく高温に耐えることができるため、極端な環境での使用に適しています。

高純度黒鉛るつぼはどのように作られるのでしょうか?

高純度グラファイトるつぼは通常、静水圧プレスと呼ばれるプロセスを通じて製造されます。黒鉛粉末をゴム型に入れ、全方向から高圧を加える方法です。この圧力により、黒鉛粒子が緻密で均一なるつぼ形状に圧縮されます。次に、るつぼを高温に加熱して不純物を除去し、純度を高めます。

ファインセラミックスの主な種類は?

ファインセラミックスの主な種類には、アルミナ(Al2O3)、ジルコニア、窒化ホウ素(BN)、炭化ケイ素(SiC)、窒化ケイ素(SiN)などがあります。それぞれの種類は、異なる用途に適した独自の特性を持っています。

真空アーク溶解法とは何ですか?

真空アーク溶解 (VAR) は、航空宇宙、エネルギー、原子力などの産業における重要な用途向けに、化学的および機械的均質性の高い金属インゴットを製造するために使用される二次溶解プロセスです。このプロセスには、真空下で液体金属を精製し、その凝固速度を制御することが含まれます。鋳造耐火物と接触せずに反応性のチタンまたはジルコニウム合金を精製したり、鋼や超合金の介在物の清浄度を向上させるために使用されます。再溶解された円筒形インゴットの重さは数トンにもなり、VAR は特殊冶金技術業界に革命をもたらしました。

窒化ホウ素セラミック部品を選択する際にはどのような点に注意する必要がありますか?

窒化ホウ素セラミック部品を選択する際には、いくつかの考慮事項を考慮する必要があります。まず、温度範囲、電気絶縁特性、熱伝導率、機械的強度、耐薬品性など、特定のアプリケーション要件を評価する必要があります。これは、選択する窒化ホウ素セラミックの適切なグレードまたは配合を決定するのに役立ちます。第二に、利用可能なプロセスと設備を使用してセラミック部品を製造できるように、セラミック部品の設計と形状を考慮する必要があります。寸法公差と表面仕上げの要件も考慮する必要があります。さらに、窒化ホウ素の製造プロセスやグレードによってコストが異なる可能性があるため、窒化ホウ素セラミック部品のコストと入手可能性を考慮する必要があります。選択した窒化ホウ素セラミック部品が特定の用途要件を満たしていることを確認するには、メーカーまたはその分野の専門家に相談することをお勧めします。

高純度黒鉛るつぼの一般的な用途は何ですか?

高純度黒鉛るつぼは、冶金、鋳造所、研究所などの業界で幅広い用途に使用されます。これらは、アルミニウム、銅、貴金属などの非鉄金属の溶解および鋳造に一般的に使用されます。高純度黒鉛るつぼは、合金や高温セラミックスの製造にも使用されます。これらは、研究室での化学分析、分光法、サンプル調製などのプロセスに不可欠です。さらに、これらのるつぼは、半導体産業においてシリコンや他の半導体材料の溶融および成長に応用されています。

ファインセラミックスの原理とは?

ファインセラミックスは、原料を高温で焼結させることにより、緻密で強度が高く、耐久性に優れた材料となります。ファインセラミックスは、原料を高温で焼結させることにより、緻密で強靭な材料となります。

VAR真空アーク再溶解(VAR)炉とは何ですか?

VAR または真空アーク再溶解は、標準的な空気溶解、真空誘導溶解、または ESR 再溶解合金から作られたインゴットの精製と清浄度の向上に使用されるプロセスです。航空宇宙、発電、防衛、医療、原子力などの産業における鋼、超合金、チタン、ジルコニウム、およびそれらの合金に使用されています。 VAR は、電極と銅モールドの間にアークを発生させるために DC 電力を使用して、真空下で消耗電極を連続的に再溶解するプロセスです。このプロセスにより、溶存ガスが除去され、望ましくない微量元素が減少し、酸化物の清浄度が向上し、インゴットの底部から上部への指向性凝固が達成されます。

窒化ホウ素セラミック部品の製造にはどのような製造プロセスが使用されますか?

窒化ホウ素セラミック部品の製造には、いくつかの製造プロセスを使用できます。最も一般的な方法には、ホット プレス、熱間静水圧プレス (HIP)、スリップ キャスティングなどがあります。ホットプレスでは、高圧および高温下で窒化ホウ素粉末を圧縮して緻密なセラミックを形成します。 HIP では、窒化ホウ素粉末成形体を不活性ガス環境中で高温高圧にさらして、さらに高い密度を達成し、残留気孔を除去します。スリップキャスティングでは、窒化ホウ素粉末と結合剤のスラリーを形成し、それを型に流し込み、その後グリーンボディを乾燥および焼成して最終的なセラミック部品を製造します。所望の形状や仕様に応じて、押出成形、射出成形、機械加工などの他のプロセスを使用して窒化ホウ素セラミック部品を成形および仕上げることもできます。

高純度黒鉛るつぼを選択する際に考慮すべき要素は何ですか?

高純度黒鉛るつぼを選択するときは、いくつかの要素を考慮する必要があります。まず、るつぼのサイズと容量は、意図した用途と、溶解または処理される材料の量に適合している必要があります。るつぼの熱伝導率、耐熱衝撃性、化学的適合性を評価して、特定のプロセス要件を確実に満たす必要があります。汚染を最小限に抑え、優れた性能を確保するには、高純度レベルの高品質グラファイト材料で作られたるつぼを選択することが重要です。取り扱いを容易にするハンドルや注ぎ口の有無など、るつぼの設計と構造も考慮する必要があります。さらに、特定の用途に最適な高純度黒鉛るつぼを確実に選択するには、メーカーまたはその分野の専門家に相談することをお勧めします。

ファインセラミックスを使うメリットは何ですか?

ファインセラミックスには、高温耐性、優れた電気絶縁性、高硬度、耐摩耗性、耐薬品性、低熱膨張性などの利点があります。これらの特性により、過酷な環境や特殊な用途での使用に最適です。

真空アーク溶解炉はどのように動作するのですか?

真空アーク溶解炉は、電気アークを使用して真空または低圧雰囲気下で材料を溶解することによって機能します。炉は 2 つの電極を使用し、そのうちの 1 つは溶解する材料です。電極を近づけると電極間にアークが発生し、材料が溶解します。次に、炉を真空にして不純物を除去し、溶融材料を所望の形状に鋳造します。このプロセスは、航空宇宙、エレクトロニクス、生体医工学などの産業で使用される高純度の金属、合金、金属間化合物の製造に使用されます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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Rapid delivery and professional packaging. The BN tubes are precisely crafted and meet our lab's stringent requirements.

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Excellent value for money! The quality of the ceramic tubes is top-notch, ensuring accurate and reliable results in our experiments.

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KINTEK's BN tubes are durable and withstand high temperatures, making them ideal for our demanding research applications.

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KINTEK's BN tubes are a valuable investment. Their superior quality and adaptability make them worth every penny.

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The technological innovation behind these ceramic tubes is remarkable. They have revolutionized our research capabilities and opened up new avenues for exploration.

Lucas Martin

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