CVD加工（Chemical Vapor Deposition machining）とは、気相中の化学反応から基板や表面に固体材料を堆積させるプロセスである。この技術は汎用性が高く、コーティング、パウダー、ファイバー、ナノチューブ、モノリシックコンポーネントなど、さまざまな材料の製造に使用できる。CVDは、金属、金属合金、それらの化合物（炭化物、窒化物、酸化物など）、半導体、非金属系など、さまざまな材料に適用できる。
プロセスの概要
CVDは、真空技術を利用して、表面や基板上に微小な材料粒子を堆積させる。このプロセスは真空雰囲気の中で行われ、ワークピースは化学微粒子にさらされる。これらの化学物質は真空によってワークピースの表面に到達し、そこで化学反応を起こして、より硬い材料層が形成されます。CVDの種類
- CVDにはいくつかの種類があり、それぞれにユニークな特徴と用途がある：
- エアロゾルアシストCVD： この方法では、プリカーサーをエアロゾルに変換し、塗布や移動を容易にする。
- 熱MOCVD： 低圧および大気圧で作動し、特定の組成および構造を持つコーティングの成長に使用される。
- 光強化MOCVD： 光を利用して化学反応を促進し、より制御された成膜プロセスを可能にする。
原子層堆積法（ALD）： CVDの一種で、原子層で材料を蒸着することができ、蒸着膜の厚さと均一性を非常によく制御できる。
用途と重要性
CVDは、革新的な材料や構造の開発、特にナノテクノロジーにおいて極めて重要である。エレクトロニクス、医療、宇宙、エコロジーなど、さまざまな産業で利用されている。このプロセスは、高純度（最高99.999%）で100%に近い密度の材料を製造できるため、高い精度と品質を必要とする用途に最適である。
他の技術との統合
