真空誘導溶解(VIM)は、電磁誘導をエネルギー源として真空条件下で金属を溶解するプロセスである。
この方法は、酸化やその他の有害な反応を防ぐために制御された環境を必要とする反応性金属や特殊合金の処理に特に有用です。
5つの主要ステップの説明
1.動作原理
VIMのプロセスは、電磁誘導、表皮効果、熱伝導という3つの基本原理に基づいている。
固体金属原料は、誘導コイルが巻かれたるつぼに入れられる。
誘導コイルに交流電流が流れると、誘導起電力が発生し、金属チャージ内に渦電流が誘導される。
この渦電流が熱を発生させ、発熱量が金属からの放熱量を上回ると、金属が固体から液体状態に溶けるまで温度が上昇する。
2.真空条件の利点
VIMにおける真空条件の使用は、非真空法に比べていくつかの利点がある。
活性金属の再酸化を防ぎ、有害元素や非金属介在物の除去を容易にする。
真空環境はまた、ガスの除去や合金組成の調整など、特定の化学反応の効率を高める。
3.プロセスの流れ
VIMプロセスはいくつかの段階に分けられる:
装入
高純度の原料は、錆や油を除去した後、炉に装入される。
溶解
一定の真空度を達成した後、装入物を加熱する。最初の溶解は層ごとに行われ、ガスや非金属介在物の除去に役立ちます。
精錬
この段階では、脱酸素、脱ガス、揮発性介在物の除去、温度調整、組成管理が行われる。精錬温度、真空度、保持時間は、注意深く管理する必要のある重要なパラメーターである。
鋳造
金属が完全に溶融・精錬された後、欠陥の発生を防ぎ、最終製品の品質を確保するため、管理された条件下で目的の形状に鋳造される。
4.用途と歴史
VIMはもともと、特殊でエキゾチックな合金を加工するために開発された。
VIMは、金属の純度と特性が極めて重要な、航空宇宙や原子力などの産業で特に重要視されてきた。
真空誘導炉の最初のプロトタイプが開発されたのは1920年で、それ以来、溶解プロセスの効率と制御が改善され、技術は大きく発展してきました。
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