真空とは定義上、物質のない空間であるため、真空の温度を直接測定することはできない。温度は物質中の粒子の平均運動エネルギーの尺度であり、真空中には粒子が存在しないため、それに関連する温度は存在しない。しかし、周囲の環境や真空内の物質には温度があり、適切な技術を使って測定することができる。
真空加熱の文脈では、真空そのものではなく、真空中で加熱される物質の温度を指す。真空環境は、空気の存在下で起こりうる酸化やその他の化学反応を防ぐなど、材料が加熱される条件を制御するために使用される。真空中の熱伝導は主に放射によるもので、放射体の絶対温度の4乗に比例する。
真空中の温度と圧力の関係、特に圧力を下げる（真空度を上げる）と物質の沸点が下がり、蒸発しやすくなることについては、参考文献を参照されたい。これは、真空蒸留のようなプロセスや、真空炉の操作において、特定の温度と真空レベルを維持することが、材料の特性とプロセスの成功のために必要である場合に極めて重要である。
真空炉内の温度均一性と測定についても議論され、真空自体が温度を持たないにもかかわらず、炉内の温度は正確に制御・測定できることが示されている。遠赤外線光学式温度測定器を使用することで、真空内の物質の温度を0℃から2400℃の範囲で高精度に測定することができる。
まとめると、真空には温度がありませんが、真空内の物質とそれを取り巻く環境には温度があります。遠赤外線光学温度測定などの技術は、真空内の物体の温度を正確に測定することができ、真空条件を操作して材料の加熱や加工を制御することができます。
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