知識 低融点磁器とは何ですか?
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 week ago

低融点磁器とは何ですか?

低融点磁器とは、一般的な磁器よりも低い温度で焼成される磁器のこと。このタイプの磁器は、磁器製品に上絵付けしたエナメルを定着させる工程で特に重要で、高温で起こる顔料の変色を防ぐことができるからです。

回答の要約

低融点磁器は750~950℃の温度で焼成されますが、これは磁器の初期焼成に使われる温度よりもかなり低い温度です。温度が高いと顔料が変色してしまうからです。通常、焼成時間は5時間から12時間で、その後12時間以上かけて冷却します。

  1. 詳しい説明低い焼成温度の目的

  2. 低い焼成温度を使用する主な理由は、上絵付けのエナメル色の完全性を保つためです。ほとんどのエナメル顔料は高温に弱く、磁器本体と釉薬の焼成に必要な温度にさらされると変色してしまいます。マッフル窯を使用することで、対象物を直接の熱源から隔離し、温度をコントロールしてエナメルへのダメージを防ぐことができます。

  3. マッフル窯での工程

  4. マッフル窯はこの目的のために特別に設計された窯で、一般に磁器の本焼成に使われる窯よりも小型です。窯の設計上、熱源から対象物を隔離することができるため、温度がエナメルにとって最適な範囲に保たれます。電気を使う現代の窯では、炎が直接当たらないようにすることよりも、正確な温度調節をすることが重要です。期間と冷却

マッフル窯での焼成は、使用するエナメルの条件にもよりますが、通常5時間から12時間です。焼成後、窯は12時間以上かけて冷却されます。この制御された冷却は、熱衝撃を防ぎ、エナメルが磁器の表面に適切に付着するために不可欠です。

関連製品

真空歯科用磁器焼結炉

真空歯科用磁器焼結炉

KinTek の真空磁器炉を使用すると、正確で信頼性の高い結果が得られます。すべての磁器粉末に適しており、双曲線セラミック炉機能、音声プロンプト、および自動温度校正を備えています。

セラミックファイバーライナー付き真空炉

セラミックファイバーライナー付き真空炉

多結晶セラミックファイバー断熱ライナーを備えた真空炉で、優れた断熱性と均一な温度場を実現。最高使用温度は1200℃または1700℃から選択でき、高真空性能と精密な温度制御が可能です。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

9.8MPa空圧焼結炉

9.8MPa空圧焼結炉

常圧焼結炉は、先端セラミック材料の焼結に一般的に使用されるハイテク装置です。真空焼結技術と加圧焼結技術を組み合わせて、高密度かつ高強度のセラミックスを実現します。

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉は、金属およびセラミック焼結における高温ホットプレス用途向けに設計されています。その高度な機能により、正確な温度制御、信頼性の高い圧力維持、シームレスな操作のための堅牢な設計が保証されます。

高温脱脂・仮焼結炉

高温脱脂・仮焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスを備えたセラミック材料用の高温脱バインダおよび仮焼結炉。 MLCCやNFCなどの電子部品に最適です。

ジルコニアセラミックプレート - イットリア安定化精密機械加工

ジルコニアセラミックプレート - イットリア安定化精密機械加工

イットリウム安定化ジルコニアは高硬度、高温耐性という特徴を持ち、耐火物や特殊セラミックスの分野で重要な素材となっています。

変圧器付きチェアサイド歯科用焼結炉

変圧器付きチェアサイド歯科用焼結炉

トランス付きチェアサイド焼結炉で一流の焼結を体験してください。操作が簡単、騒音のないパレット、自動温度校正。今すぐ注文!

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

アルミナジルコニア 異形部品加工 オーダーメイドセラミックプレート

アルミナジルコニア 異形部品加工 オーダーメイドセラミックプレート

アルミナセラミックスは優れた導電性、機械的強度、高温耐性を備え、ジルコニアセラミックスは高強度、高靭性で知られ広く使用されています。

真空ろう付け炉

真空ろう付け炉

真空ろう付け炉は、母材よりも低い温度で溶けるろう材を使用して 2 つの金属を接合する金属加工プロセスであるろう付けに使用される工業炉の一種です。真空ろう付け炉は通常、強力できれいな接合が必要な高品質の用途に使用されます。

消耗品不要の真空アーク炉 高周波溶解炉

消耗品不要の真空アーク炉 高周波溶解炉

高融点電極を備えた非消耗品の真空アーク炉の利点を探ってください。小型で操作が簡単、環境に優しい。高融点金属と炭化物の実験室研究に最適です。

ジルコニアセラミックロッド - 安定化イットリウム精密機械加工

ジルコニアセラミックロッド - 安定化イットリウム精密機械加工

ジルコニアセラミックロッドは静水圧プレスによって製造され、高温かつ高速で均一で緻密で滑らかなセラミック層と転移層が形成されます。

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉の利点をご覧ください!高温高圧下で緻密な耐火金属・化合物、セラミックス、複合材料を製造します。

電気活性炭再生炉

電気活性炭再生炉

KinTek の電気再生炉で活性炭を活性化します。高度に自動化されたロータリー キルンとインテリジェントな温度コントローラーにより、効率的でコスト効率の高い再生を実現します。

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉を使用して、正確な歯科結果を取得します。自動温度校正、低騒音トレイ、タッチスクリーン操作。今すぐ注文!

研究室用真空傾斜回転管炉

研究室用真空傾斜回転管炉

実験用回転炉の多用途性を発見してください。か焼、乾燥、焼結、高温反応に最適です。最適な加熱を実現する調整可能な回転および傾斜機能。真空および制御された雰囲気環境に適しています。今すぐ詳細をご覧ください。

フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用の高品質フッ化カルシウム材料をお探しですか?当社の専門家チームは、お客様の特定のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズを調整します。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などの製品ラインナップをご覧ください。今すぐ見積もりを入手してください。

真空密閉式連続稼働回転式管状炉

真空密閉式連続稼働回転式管状炉

当社の真空密閉回転管状炉で効率的な材料処理を体験してください。制御された供給と最適な結果を実現するオプション機能を装備しており、実験や工業生産に最適です。今すぐ注文。

フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化ナトリウム (NaF) 材料をお探しですか?当社は、さまざまな純度、形状、サイズのカスタマイズされたソリューションを手頃な価格で提供します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを検索します。今すぐご連絡ください。

ジルコニアセラミックボール - 精密加工

ジルコニアセラミックボール - 精密加工

ジルコニアセラミックボールは、高強度、高硬度、PPM摩耗レベル、高破壊靱性、優れた耐摩耗性、および高比重の特性を備えています。

ジルコニアセラミックガスケット - 絶縁

ジルコニアセラミックガスケット - 絶縁

ジルコニア絶縁セラミックガスケットは、高融点、高抵抗率、低熱膨張係数などの特性を備えており、重要な高温耐性材料、セラミック絶縁材料およびセラミック日焼け止め材料となっています。

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉でラボをグレードアップ。日本製アルミナファイバーとモリブデンコイルにより、高速で正確な加熱を実現します。TFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラミングとデータ解析が容易です。ご注文はこちらから!

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。

フッ化バリウム(BaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化バリウム(BaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化バリウム (BaF2) 材料を手頃な価格で購入できます。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体などを幅広く取り揃え、お客様のニーズに応えます。今すぐ注文。

フッ化ランタン(LaF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化ランタン(LaF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室向けに手頃な価格のチタン酸バリウム (LaF3) 材料をお探しですか?当社のカスタマイズされたソリューションは、幅広い形状、サイズ、純度を取り揃えており、お客様の固有のニーズに適合します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などの当社のセレクションをご覧ください。

高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす高品質のジルコニウム材料をお探しですか?当社の手頃な価格の製品には、お客様固有の要件に合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどが含まれます。今すぐご連絡ください。


メッセージを残す