真空炉の利点には、均一な高温、精密な温度制御、低コンタミネーション、迅速な焼き入れ、コンピューター制御による再現性などがあります。これらの利点は真空環境によるもので、表面の酸化や脱炭を最小限に抑え、主に放射による効率的な熱伝達を可能にします。
均一な高温：
真空炉は、通常800～3,000 °Cの広い範囲で均一な温度を維持することができます。この均一性は、ろう付け、焼結、熱処理など、温度の一貫性が最終製品の品質に不可欠なプロセスにとって極めて重要です。真空環境には空気やその他のガスが存在しないため、対流による熱伝達が妨げられ、これが温度変動の原因となります。正確な温度制御
真空炉の加熱ゾーン内の温度は非常に正確に制御できます。これは、加熱ゾーンを取り囲む断熱材または熱障壁によって促進され、発生する熱が処理される材料に確実に向けられます。加熱された材料に望ましい冶金特性を得るには、正確な制御が必要です。
低汚染：
真空炉の大きな利点のひとつは、炭素や酸素などのガスによる製品の汚染が少ないことです。真空環境では、空気やその他の雰囲気に通常存在するこれらの汚染物質が排除されます。その結果、不純物を最小限に抑えた、よりクリーンで高品質な製品が得られます。迅速な焼き入れ
真空炉は熱処理後の製品を素早く冷却または急冷することができます。この急速冷却は、特定の微細構造や特性を得るために急速な凝固を必要とする特定の冶金プロセスには不可欠です。迅速な急冷は、迅速な熱抽出を促進する真空環境の直接的な結果です。
