知識 膜厚の測定方法:光学式と接触式を比較するガイド
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技術チーム · Kintek Solution

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膜厚の測定方法:光学式と接触式を比較するガイド


膜厚の測定は、光学式または物理式に大別されるさまざまな技術を用いて行われます。分光エリプソメトリー反射率測定のような光学的手法は、光が膜とどのように相互作用するかを分析する一方、スタイラスプロファイロメトリーのような物理的手法は、表面に直接接触して段差高さを測定します。どの手法を選択するかは、膜の材料特性と要求される精度によって完全に異なります。

膜厚測定に最適な技術は、万能ではありません。精度、速度、非破壊分析の必要性と、透明度、粗さ、組成など、膜の特定の特性とのバランスを考慮して決定する必要があります。

2つの基本的なアプローチ:光学式 vs. スタイラス式

わずか数ナノメートルという薄さの膜の厚さを測定する方法は、「表面に触れるか触れないか」という単純な原理によって分けられます。この区別により、技術は2つの主要なファミリーに分類されます。

光学式(非接触)測定法

光学的手法は、膜をその場で非破壊的に測定できるため、強力です。光線を膜に照射し、そこから反射または透過する光を分析することで機能します。

光の特性がどのように変化するかをモデル化することで、驚くべき精度で厚さを決定できます。これは、半導体や光学コーティングなど、最終製品を損傷できない用途にとって不可欠です。

分光エリプソメトリー

これは、利用可能な最も正確で感度の高い光学技術の1つです。膜の表面で反射する際の光の偏光状態の変化を測定します。

2つの異なる値(振幅比と位相差)を測定するため、エリプソメトリーは非常に薄い、多層、または複雑な膜を特性評価するのに非常に強力です。

分光反射率測定

反射率測定は、より高速で、しばしばより単純な光学的手法です。さまざまな波長にわたって膜から反射される光の量を測定します。

反射光スペクトルにおける干渉パターンを分析して厚さを計算します。この方法は、迅速な品質管理や、厚い単層の透明膜に最適です。

スタイラス式(接触)測定法

接触式測定法は、高さの直接的な物理的測定を提供します。概念的には単純ですが、サンプルとの直接接触が必要であり、これは大きな欠点となる可能性があります。

スタイラスプロファイロメトリー

この技術は、微細なダイヤモンドチップのスタイラスを段差の端に沿って、基板から膜の頂部まで優しく引きずることによって機能します。

スタイラスの物理的なたわみを記録して地形図を作成し、そこから段差の高さ、つまり膜厚を測定します。これは膜の光学特性に依存しない直接的な測定です。

膜厚の測定方法:光学式と接触式を比較するガイド

トレードオフを理解する

測定技術を選択するには、その限界を明確に理解する必要があります。すべてのシナリオに完璧な単一の方法はありません。

破壊的 vs. 非破壊的

これはしばしば最も重要な要素です。スタイラスプロファイロメトリーは本質的に破壊的です。膜にあらかじめ作られた段差や傷が必要であり、スタイラスが柔らかい材料を損傷する可能性があります。

光学的手法は完全に非破壊的です。実際の製品部品を改変することなく測定できるため、製造工程管理に不可欠です。

材料特性が重要

エリプソメトリーや反射率測定のような光学的手法は、膜が少なくとも部分的に透明または半透明であることに依存します。光は膜を通過し、下にある基板から反射できる必要があります。

厚い金属のような完全に不透明な膜の場合、スタイラスプロファイロメトリーは光学特性に依存しないため、しばしば唯一信頼できる選択肢となります。

精度 vs. 速度

分光エリプソメトリーは最高の精度を提供し、サブナノメートルレベルの厚さを解決できます。ただし、データ取得とモデリングはより複雑で時間がかかる場合があります。

分光反射率測定はほぼ瞬時の結果を提供するため、生産ラインのような高スループット環境に最適ですが、複雑な多層膜スタックにはあまり適さない場合があります。

膜に最適な方法を選択する方法

最終的な選択を行うには、技術の強みを主な目的に合わせます。

  • 透明な多層膜の最高の精度が主な焦点である場合:分光エリプソメトリーは研究開発のゴールドスタンダードです。
  • 単層膜の迅速な非破壊品質管理が主な焦点である場合:分光反射率測定は、速度と単純さの理想的なバランスを提供します。
  • 不透明な膜の測定または物理的な段差高さの直接検証が主な焦点である場合:スタイラスプロファイロメトリーは、信頼性の高い明確な測定を提供します。

測定技術を材料と目標に合わせることで、プロセスにおける精度と効率の両方を確保できます。

要約表:

方法 原理 主な利点 最適な用途
分光エリプソメトリー 光の偏光変化を測定 最高の精度(サブnm) 多層/透明膜の研究開発
分光反射率測定 反射光スペクトルを分析 高速、非破壊 単層膜のハイスループットQC
スタイラスプロファイロメトリー 段差高さを物理的に測定 不透明膜にも対応 段差高さの直接検証

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