焼成温度は、セラミックスの変質において非常に重要な要素です。
温度が1652°F（900℃）を超えると、粘土体は収縮し始め、ガラス化する。
これは、粘土に含まれるシリカが溶け始め、粘土粒子間の隙間を埋めて融合するために起こります。
焼成温度が1832°F（1000℃）まで上昇すると、粘土の結晶が壊れて溶け始める。
焼成温度は、セラミックスの特性と品質に大きく影響します。
適切な焼成サイクルと温度を達成することは、セラミックスの望ましい光学特性を生み出すために不可欠です。
内部ガラスが過剰なセラミックスは、光の透過率が高すぎます。
露光不足のセラミックスは、審美的に鈍く反射して見えます。
適切な焼成温度は、高度なセラミックにおいて透光性を生み出し、クラックの伝播を防ぐために極めて重要です。
歯科分野では、高温焼成は歯科インプラントやポーセレン歯科部品の作成に使用されます。
セラミック複合材料は、適切な結合を確保し、収縮や歪みを防ぐために、2,050°F (1,120°C) もの高温に加熱されます。
望ましい結果を得るためには、±5°F (2.5°C)以内の温度均一性が重要です。
セラミックの種類によって、必要な焼成温度は異なります。
食器、調理器具、壁タイル、衛生陶器は低温で焼成できます。
レンガや瓦のような構造用セラミックは、より高い焼成温度を必要とします。
炉や窯の断熱材に使用される耐火物や金属るつぼも、高い焼成温度を必要とします。
テクニカル・セラミックスやアドバンスト・セラミックスは、最高 3,100°F (1,700°C) 以上の温度を必要とする場合があります。
用途によっては、セラミックに要求される高い焼成温度のために、金属、ガラス、または融点の低いポリマーなどの他の材料とセラミックを統合することが困難になります。
高温フィルムの応用は、クラックの形成や、基板とコーティングの不適合につながり、デバイスの光学的、電気的、機械的特性に影響を与える可能性があります。
全体として、焼成温度はセラミックスの変質と品質における重要な要素です。
焼成プロセス中の温度を制御・監視する能力は、セラミックスの望ましい特性や機能性を実現する上で不可欠です。
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