蒸発の熱プロセスは、蒸気圧が大きくなる温度まで物質を加熱することで気化させる方法である。
このプロセスにより、真空中の物質の表面から原子や分子が失われる。
蒸発が起こる前、材料は液体または固体の状態にあることができる。
5つの主要ステップの説明
1.ターゲット材料の加熱
昇華または沸騰により、ターゲット材料を非常に高温にし、蒸気を発生させる。
2.蒸気の輸送
気化した材料は、真空環境を通して基板に輸送される。
3.基板上での凝縮
蒸気は基板表面で凝縮し、固体薄膜を形成する。
4.プロセスの繰り返し
蒸着プロセスを繰り返すことで、薄膜のさらなる成長と核形成を達成することができる。
5.ジュール加熱の利用
このプロセスは、抵抗ボートのジュール加熱を利用して材料を蒸発点まで加熱し、気化した分子がソースから基板に移動して薄膜コーティングを形成する。
熱蒸発法は、その簡便さと多様性から人気の高い技術である。
アルミニウム、銀、ニッケル、クロム、マグネシウムなど、さまざまな材料の蒸着に使用できます。
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