知識 高温におけるグラファイトの熱伝導率は?極限の熱における熱管理ガイド
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 day ago

高温におけるグラファイトの熱伝導率は?極限の熱における熱管理ガイド

要するに、ほとんどの結晶性グラファイトグレードの熱伝導率は室温で非常に高く、しばしば鋼鉄や鉄などの金属を上回りますが、数百℃から数千℃に温度が上昇すると、通常は低下します。この直感に反する挙動は、設計上重要な考慮事項であり、特定のグラファイトグレードとその結晶配向が、実際の性能を決定する最も重要な要素となります。

中心的なポイントは、「グラファイト」が単一の熱特性を持つ材料ではないということです。その性能は動的であり、伝導率は室温付近でピークに達し、その後低下します。等方性、熱分解性、含浸グラファイトなど、異なるグレードの選択は、温度単独よりも熱管理に大きな影響を与えます。

グラファイトのユニークな熱挙動を理解する

高温環境でグラファイトを効果的に使用するには、グラファイトがどのように熱を伝達するかの物理学を理解する必要があります。その性能は、そのユニークな原子構造に直接関連しています。

結晶構造の役割

グラファイトは、六角形の格子状に配置された炭素原子の積み重ねられた層で構成されており、鶏小屋の金網に非常によく似ています。これはしばしばグラフェン層と呼ばれます。

熱は、格子振動(フォノンとして知られる)を介して、これらの平らな層に沿って(面内)非常に効率的に伝わります。これが、グラファイトがその方向で非常に高い熱伝導率を持つ理由です。

伝導率が温度によって変化する理由

グラファイトにおける温度と熱伝導率の関係は線形ではありません。

非常に低い温度では、伝導率は低いです。温度が周囲温度に向かって上昇すると、フォノンの動きがより活発になるため、伝導率は急激に上昇します。

しかし、ピーク(しばしば室温付近)を超えると、熱伝導率は低下し始めます。これらの高温では、原子格子が激しく振動し、フォノンが互いに衝突して散乱し始め、「交通渋滞」を引き起こし、効率的な熱伝達を妨げます。

異方性の極めて重要な重要性

層状構造のため、グラファイトは高度に異方的であり、その特性は方向依存性があります。

面内(層に沿った)熱伝導率は、面間(層を横切る)伝導率よりも数百倍高くなることがあります。これは、ヒートシンクやスプレッダーなどのコンポーネントを設計する上で重要な詳細であり、グラファイトの配向が最も重要です。

すべてのグラファイトが同じように作られているわけではない

「グラファイト」という用語は、幅広い材料を指します。製造プロセスと最終形態が、特に高温での熱性能を決定します。

合成グラファイトと天然グラファイト

合成グラファイトは、炭素前駆体を非常に高い温度で熱処理することによって製造されます。このプロセスにより、高純度と制御された結晶構造が得られ、炉の要素や半導体製造のような予測可能で高性能な用途に好まれる選択肢となります。

等方性グレードと熱分解性グレード

等方性グラファイトは、よりランダムな結晶配向を持つように設計されています。ピーク伝導率は高度に配向されたグレードよりも低いですが、すべての方向でより均一な熱性能を提供し、均一な熱分布を必要とする金型や発熱体などの用途に最適です。

高配向熱分解グラファイト(HOPG)は、層がほぼ完全に整列した特殊な形態です。室温で最高の面内熱伝導率を誇り、一方向には熱の高速道路となりますが、もう一方向では絶縁体となります。

高性能含浸グレード

参考文献に記載されているように、グラファイトは銅や銀などの金属で含浸することができます。このプロセスは材料の自然な多孔性を埋め、最も要求の厳しい用途向けにそのバルク熱伝導率と電気伝導率をさらに高めます。

トレードオフを理解する

グラファイトは優れた熱材料ですが、設計において認識すべき実用的な限界があります。

高温での酸化

これはグラファイトの主要な弱点です。酸素が存在すると、グラファイトは500°C(932°F)付近で酸化(実質的に燃焼)し始めます。したがって、高温で使用する場合は、劣化を防ぐために真空または不活性ガス雰囲気(アルゴンや窒素など)で操作する必要があります

機械的脆性

金属とは異なり、グラファイトは脆いセラミック材料です。引張強度が低く、衝撃や高負荷に耐えることができません。設計では、鋭い角を避け、適切な機械的サポートを提供することで、この点を考慮する必要があります。

純度と脱ガス

高真空またはクリーンな環境(半導体産業など)での用途では、グラファイトの純度が重要です。低品位のグラファイトには、高温で脱ガスする不純物が含まれている可能性があり、プロセスやチャンバーを汚染する可能性があります。

用途に合った適切な選択をする

適切なグラファイトグレードを選択することは、プロジェクトの成功に不可欠です。決定は、主要な工学的目標に基づいて行う必要があります。

  • 最大の方向性熱拡散が主な焦点である場合:高配向熱分解グラファイト(HOPG)を使用し、目的の経路に沿って熱を移動させるように配置してください。
  • 均一で多方向の熱管理が主な焦点である場合:すべての方向で予測可能な性能を得るために、高純度の等方性グラファイトグレードを選択してください。
  • 高温炉の要素を設計している場合:高密度の合成グラファイトグレードを選択し、酸化を防ぐために真空または不活性雰囲気で操作してください。
  • 要求の少ない用途でコストが主要な要因である場合:標準的な成形または押出合成グラファイトで十分な場合がありますが、サプライヤーにその特性を確認してください。

これらの原則を理解することで、グラファイトを単なる材料としてではなく、精密な熱工学ツールとして活用することができます。

要約表:

主要因 高温における熱伝導率への影響
温度 フォノン散乱により、室温付近のピーク後に著しく低下します。
結晶配向 面内(層に沿った)は非常に高く、面間(層を横切る)ははるかに低いです(異方性)。
材料グレード 等方性グラファイトは均一な性能を提供し、熱分解性(HOPG)は極端な方向性伝導率を提供します。
含浸 金属(例:銅)による含浸は、バルク熱伝導率を高めることができます。
動作雰囲気 約500°C(932°F)以上では酸化を防ぐために真空または不活性ガス中で使用する必要があります。

KINTEKの適切なグラファイトソリューションで、高温プロセスを最適化しましょう。

グラファイトの熱性能は複雑で、グレードに依存します。誤った選択は、非効率性や故障につながる可能性があります。KINTEKは、要求の厳しい熱用途向けの幅広い合成、等方性、特殊グラファイトを含む、高性能ラボ機器および消耗品を専門としています。

当社の専門家が、炉、半導体、または研究用途において、優れた熱管理、長寿命、およびプロセスの信頼性を確保するための理想的な材料を選択するお手伝いをいたします。

今すぐお問い合わせください。お客様の特定の熱に関する課題と、当社のグラファイト材料がどのように解決策を提供できるかについてご相談ください。お問い合わせフォームからご連絡ください。個別相談を承ります。

関連製品

よくある質問

関連製品

連続黒鉛化炉

連続黒鉛化炉

高温黒鉛化炉は、炭素材料の黒鉛化処理のための専門的な装置です。高品質の黒鉛製品を生産するための重要な設備です。高温、高効率、均一な加熱を実現します。各種高温処理や黒鉛化処理に適しています。冶金、エレクトロニクス、航空宇宙などの業界で広く使用されています。

縦型高温黒鉛化炉

縦型高温黒鉛化炉

最高 3100℃ までの炭素材料の炭化および黒鉛化を行う縦型高温黒鉛化炉。炭素環境で焼結された炭素繊維フィラメントおよびその他の材料の成形黒鉛化に適しています。冶金学、エレクトロニクス、航空宇宙分野で、次のような高品質の黒鉛製品を製造する用途に使用できます。電極とるつぼ。

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉は、真空または不活性ガス環境下で中周波誘導加熱を利用します。誘導コイルは交流磁場を生成し、黒鉛るつぼ内に渦電流を誘導し、ワークピースを加熱して熱を放射し、ワークピースを希望の温度にします。この炉は主に炭素材料、炭素繊維材料、その他の複合材料の黒鉛化および焼結に使用されます。

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導率皮膜黒鉛化炉は温度が均一で、エネルギー消費が少なく、連続運転が可能です。

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

1700℃アルミナ管炉

1700℃アルミナ管炉

高温管状炉をお探しですか?アルミナ管付き1700℃管状炉をご覧ください。1700℃までの研究および工業用途に最適です。

ボトムリフト炉

ボトムリフト炉

ボトムリフティング炉を使用することで、温度均一性に優れたバッチを効率的に生産できます。2つの電動昇降ステージと1600℃までの高度な温度制御が特徴です。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

高温脱バインダー・予備焼結炉

高温脱バインダー・予備焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスによるセラミック材料の高温脱バインダー・予備焼結炉。MLCC、NFC等の電子部品に最適です。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

1200℃ 石英管付き分割管炉

1200℃ 石英管付き分割管炉

KT-TF12 分割式管状炉: 高純度絶縁、発熱線コイル内蔵、最高温度 1200℃。1200C.新素材や化学蒸着に広く使用されています。

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

Rtp加熱管炉

Rtp加熱管炉

RTP急速加熱管状炉で高速加熱。便利なスライドレールとTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、正確で高速な加熱と冷却を実現します。今すぐご注文ください!

分割マルチ加熱ゾーン回転管状炉

分割マルチ加熱ゾーン回転管状炉

2 ~ 8 の独立した加熱ゾーンを備えた高精度の温度制御を実現するマルチゾーン回転炉。リチウムイオン電池の電極材料や高温反応に最適です。真空および制御された雰囲気下で作業できます。

1700℃ 制御雰囲気炉

1700℃ 制御雰囲気炉

KT-17A制御雰囲気炉:1700℃加熱、真空シール技術、PID温度制御、多用途TFTスマートタッチスクリーン制御装置、実験室および工業用。

真空シール連続作業回転式管状炉

真空シール連続作業回転式管状炉

真空シール式回転式管状炉で効率的な材料処理を体験してください。実験や工業生産に最適で、制御された供給と最適な結果を得るためのオプション機能を備えています。今すぐご注文ください。

研究室用真空チルト式回転式管状炉 回転式管状炉

研究室用真空チルト式回転式管状炉 回転式管状炉

実験用回転炉の多様性をご覧ください: 脱炭酸、乾燥、焼結、高温反応に最適。最適な加熱のために回転と傾斜機能を調整可能。真空および制御雰囲気環境に適しています。さらに詳しく


メッセージを残す