真空炉は真空熱処理用に設計されています。
つまり、チャンバー内に空気がないため酸化を防ぎ、最適な結果を得ることができます。
真空炉の主な目的は、アニール、セラミックや金属の焼結、ろう付け、その他の熱処理などのプロセスを、汚染を最小限に抑え、一貫性を最大限に維持しながら促進することです。
真空炉を使用する5つの主な利点
1.酸化と汚染の排除
炉内の真空環境は空気やガスの存在を排除します。
これにより、対流による酸化と熱伝達が防止されます。
空気や他のガスがないため、汚染源も除去され、処理される製品は不純物のないクリーンな状態に保たれます。
2.用途の多様性
真空炉は汎用性が高く、幅広い用途で使用されています。
真空炉は生産産業と研究所の両方で使用されます。
真空炉は堅牢な構造で、制御された雰囲気の中で迅速かつ高度に安定した加熱を行うことができるため、高負荷の産業用および研究用の用途に適しています。
3.均一な温度制御
真空炉を使用する利点として、1100-1500℃ (2000-2800°F)の範囲での均一な温度が挙げられます。
小面積での正確な温度制御も重要な特徴です。
4.低汚染
真空炉は炭素、酸素、その他のガスによる製品の汚染を低く抑えます。
これにより、製品は不純物のないクリーンな状態に保たれます。
5.急速冷却とコンピューター制御
製品の迅速な冷却 (急冷) も利点のひとつです。
冶金学的な再現性のためにコンピューター制御が可能なため、高品質の結果が保証されます。
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