真空炉は真空熱処理用に設計されたもので、チャンバー内に空気がないため酸化が防止され、最適な結果が得られます。真空炉の主な目的は、アニール、セラミックや金属の焼結、ろう付け、その他の熱処理などのプロセスを、汚染を最小限に抑え、最大限の一貫性を保ちながら促進することです。
炉内の真空環境は空気やガスの存在を排除し、対流による酸化や熱伝達を防ぎます。空気やガスがないため汚染源も排除され、処理される製品は不純物のないクリーンな状態に保たれます。
真空炉は汎用性が高く、生産産業および研究所の両方で幅広い用途に使用されます。真空炉は堅牢な構造で、制御された雰囲気の中で迅速かつ高度に安定した加熱を行うことができるため、高負荷の産業および研究用途に適しています。
真空炉を使用する利点としては、1100-1500°C (2000-2800°F)の範囲の均一な温度、小面積での精密な温度制御、炭素、酸素、その他のガスによる製品の汚染の少なさ、製品の迅速な冷却 (急冷)、冶金学的再現性のためのコンピューター制御能力などが挙げられます。
要約すると、真空炉の目的は、様々な熱処理プロセスに制御された非酸化性環境を提供し、最小限の汚染と優れた温度制御で高品質の結果を保証することです。
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