技術チーム · Kintek Solution

真空炉は、発熱体としてタングステンを使用するような特定の構成では、3000 °C（5432°F）もの高温に達することができます。この高温能力は、アニーリング、ろう付け、焼結、熱処理など、汚染なしに材料の特性を変化させるために精密かつ極端な温度が要求されるプロセスにおいて極めて重要です。

詳細説明

1. 温度範囲と発熱体：

2. 真空炉は室温からタングステンのホットゾーンで3000°C (5432 °F)まで作動します。この極端な温度は、融点が高く、このような温度に達することができるホットゾーンを形成するのに適したタングステンのような特定の発熱体を使用して達成されます。対照的に、グラファイトのホットゾーンは、タングステンに比べてグラファイトの融点が低いことを反映して、最高2200℃に達する。真空度とその影響

3. 炉はおよそ10-2 torr/mBarの真空レベルで運転され、チャンバー内の空気やガスを除去する抽気システムによって維持されます。この真空環境は、加熱される材料の酸化や汚染を防ぐために非常に重要です。また、真空により、対流による製品からの熱損失が最小限に抑えられ、より効率的で制御された加熱が可能になります。

4. 用途と温度均一性

5. 真空炉の大半のプロセスは 175-730°C(350-1350°F)の温度範囲で作動しますが、特殊な用途ではこの温度範囲が拡大されます。この範囲内の温度均一性は優れており、アニールや焼結などのプロセスで安定した結果を得るために不可欠です。この均一性は、温度測定用の熱電対や所望の温度を維持するためのコントローラーを含む精密な温度制御システムによって達成される。真空環境の利点

真空環境は汚染を防ぐだけでなく、材料の表面状態を改善するような加工を可能にします。真空環境は、加工される部品表面の冶金的損傷のリスクを最小限に抑えるため、これは、最終製品が清潔で明るい必要がある用途では特に重要です。