真空誘導溶解 (VIM) 炉は、電磁誘導を利用して真空環境下で金属を溶解するように設計されています。
VIM炉の仕組み5つの主要ステップ
1.炉心部品
VIM 炉の炉心はるつぼで、通常は耐火物で内張りされています。
このるつぼは誘導コイルに囲まれている。
セットアップ全体は真空チャンバー内に収容される。
2.加熱メカニズム
加熱プロセスは、誘導コイルに電流を流すことから始まる。
コイルは高純度のECグレード銅管でできており、熱を管理するために水冷されている。
コイル内の電流は磁場を発生させ、るつぼ内の金属電荷に渦電流を誘導する。
この渦電流が抵抗を通じて熱を発生させ、金属チャージを効果的に加熱する。
3.溶解と精錬
金属チャージが融点に達すると、溶融状態になります。
誘導コイルが作り出す磁場は、液体金属の攪拌を助け、合金化と温度の均一化を促進します。
真空環境は、化学反応、解離、浮遊、揮発によって不純物を除去するために非常に重要です。
このプロセスにより、金属は所望の化学組成に精錬される。
4.制御と調整
誘導コイルに供給される交流電力の周波数は、金属チャージのサイズと形状、およびその状態（固体または液体）に基づいて調整される。
この精密な制御により、チャージの効率的な加熱と溶解が保証されます。
追加のチャージをるつぼに追加して、希望の溶融金属量に到達させることができます。
溶融物の化学的性質は継続的にモニターされ、正確な要件が満たされるまで真空条件下で調整される。
5.用途と利点
VIM 炉は、航空宇宙や原子力用途で使用されるような高純度が要求される金属や合金の溶解に特に有効です。
真空環境は酸化やその他の不要な化学反応を防止し、溶融金属の品質を保証します。
VIMプロセスは、真空環境での保温と脱ガスに重点を置き、金属の純度と品質をさらに高める真空誘導脱ガス（VID）炉など、特定のニーズに適合させることができます。
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