真空が温度に及ぼす影響は、圧力、熱伝達メカニズム、物質の沸点の変化など多面的である。真空中では、圧力の低下は液体の沸点を下げ、温度の均一性を高め、熱の伝わり方を変えることができる。
圧力と沸点の低下：
真空中では、圧力が著しく低下する。クラウジウス・クラペイロンの方程式によると、圧力が下がると液体の沸点が下がる。これは、大気圧に打ち勝って液体を気体に変化させるのに必要なエネルギーが少なくなるためである。この効果は減圧蒸留のようなプロセスで特に有効で、揮発性溶剤はより低い温度で蒸発し、蒸発した分子は冷却された表面で凝縮することができる。温度の均一性：
真空炉では、加熱されるアセンブリ全体の温度をより均一に分布させることができます。これは、ろう付けのようなプロセスにおいて極めて重要であり、接合される材料の完全性を維持するためには温度を一定に保つことが不可欠です。この均一性は精密な真空炉制御によって達成され、トーチろう付けや誘導ろう付けのような他の方法と比較して、より優れた温度調節が可能になります。
真空中の熱伝導
真空中では、熱を伝導または対流させる分子がほとんどないため、熱伝達は主に放射によって行われます。放射熱伝達率は、ステファン・ボルツマンの法則（e = C (T/100)^4）で説明されるように、絶対温度（T）の4乗に比例する。これは、温度が上昇するにつれて、放射による熱伝達率が劇的に増加することを意味する。この特性は、空気中で起こりうる酸化やその他の有害な影響を引き起こすことなく材料を加熱することを目的とする真空加熱プロセスにおいて有益である。
真空レベルとその効果
