スパッタコーティングは、主に様々な基板上に薄く機能的なコーティングを施すために使用される物理蒸着プロセスである。このプロセスでは、イオン砲撃によってターゲット表面から材料が放出され、続いてこの材料が基板上に蒸着され、強力な原子レベルの結合が形成される。スパッタコーティングの主な用途は、エレクトロニクス、光学、ソーラー技術など、耐久性が高く均一な薄膜を必要とする産業である。
プロセスの説明
スパッタコーティングプロセスは、プラズマを形成するスパッタリングカソードの帯電から始まる。このプラズマにより、通常はイオン砲撃によってターゲット表面から材料が放出される。カソードに接着またはクランプされたターゲット材料は、磁石の使用により均一に侵食される。放出された材料は、分子レベルで、運動量移動プロセスを通じて基板に向けられる。衝突すると、高エネルギーターゲット材料は基板表面に打ち込まれ、原子レベルで強固な結合を形成し、単なる表面コーティングではなく、基板の永久的な一部となる。応用例
- スパッタコーティングは、さまざまな産業で幅広く応用されている：
- エレクトロニクスと半導体： エレクトロニクスと半導体：スパッタリングは、半導体産業において、集積回路処理における様々な材料の薄膜成膜に広く利用されている。コンピュータのハードディスクやCD、DVDの製造にも欠かせない。
- 光学： 光学用途のガラス上の薄い反射防止膜は、スパッタリング技術を使って成膜するのが一般的である。この技術は、二重窓用ガラスの低放射率コーティングの製造にも使用されている。
- 太陽電池技術： スパッタリングは、ソーラーパネルや効率的な太陽電池の製造において重要なプロセスである。太陽電池の性能を向上させる材料の成膜に使用される。
- 自動車および装飾コーティング スパッタリングは、窒化チタンのようなスパッタリング窒化物を使用した工具ビットコーティングのような自動車コーティングや装飾用途に採用されている。
建築用ガラス： スパッタコーティングは建築用ガラスコーティングや反射防止ガラスコーティングに使用され、建築物のガラスの美観と機能特性を向上させる。
利点
