熱蒸発の温度は通常250～350℃です。この温度範囲は、熱蒸発システムで原料を加熱し、固体状態から蒸気にするために使用される。熱蒸発に必要な温度は、周囲条件での蒸発または昇華温度と同じではないことに注意することが重要である。熱蒸発のプロセスは真空条件下で行われるため、より低い温度で材料の蒸気を放出することができる。
材料によって、熱蒸発に必要な温度は異なる。例えば、金は、標準的な条件下での沸点が2700℃とはるかに高いにもかかわらず、真空条件下では約950℃の温度で気化させることができる。様々な材料に必要な温度は、広く入手可能な表で見つけることができる。
また、熱蒸発がすべての材料の蒸発に適しているわけではないことも考慮する価値がある。特定の材料、特に耐火性金属には、電子ビーム蒸発が必要な場合がある。電子ビーム蒸発法では、10-5 Torr以下の高真空チャンバー内で原料を加熱する。この高真空は、ソース原子とバックグラウンド材料の衝突を最小限に抑えるために必要である。熱蒸発は通常摂氏1800度以下で行われるが、電子ビーム蒸発は、白金を蒸発させる摂氏2000度など、より高い温度を扱うことができる。
要約すると、熱蒸発とは、真空チャンバー内で材料を加熱し、表面原子が表面から離脱して蒸気を形成するのに十分なエネルギーを得るまでのプロセスである。熱蒸発の温度範囲は一般的に摂氏250度から350度ですが、具体的な温度要件は材料によって異なります。
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